0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

默克推出用于芯片制造的新一代环保光刻胶去除剂

话说科技 2021-07-28 14:23 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

德国达姆施塔特, 2021年7月 28日 –- 全球领先的科技公司默克日前宣布推出新一代环保精密清洗溶剂产品 --AZ®910去除剂。该系列产品用于半导体芯片制造图形化工艺中清除光刻胶。

光刻胶去除是半导体芯片制造图形化环节中的关键技术,而光刻胶去除剂则是决定图形化最终良率及可靠性的关键材料之一。默克此次推出的“AZ®910去除剂”基于不含有NMP(N-甲基吡咯烷酮)的新型特制化学配方,不仅可以快速溶解残留光刻胶,同时具备超高的经济性、出色的环保性和广泛的适用性。

该创新产品可直接溶解负性和正性光刻胶,而并非像传统NMP清洗剂那样只能将其从晶圆表面剥离。清洗工艺能因此能缩短近一半时间,同时延长相关材料和过滤设备的使用寿命,从而帮助芯片厂商降低总体成本。

pYYBAGEA98-AWZ2UAACSG4eYHCM977.jpg

默克半导体材料事业部全球负责人Anand Nambiar表示:“这是一种同时具备了环保性和经济性的创新解决方案,将更好地满足下一代半导体制造工艺中精密清洗需求。这款AZ®910去除剂能够以不到三倍的溶剂用量清除光刻胶,在为晶圆厂节省成本的同时也减少了废料对环境的影响。”

高纯度去除剂在芯片制造过程正发挥着十分重要的作用。每当各种材料被转移到硅片上后,都需要将硅片表面不需要的残留物精密清除。随着芯片制造工艺不断微型化,整个行业对更高性能且绿色环保去除剂的需求也在与日俱增。默克是全球半导体去除剂市场的重要成员之一,其研发的溶剂产品涵盖了半导体光刻工艺的所有步骤。此外,凭借在电子材料领域100多年的专业经验,默克目前为中国大陆100多家芯片制造企业供应着超过150余种材料产品,覆盖其晶圆加工的每一个环节。

关于默克

默克是一家领先的科技公司,专注于医药健康、生命科学和电子科技三大领域。全球有57,000多名员工服务于默克,通过创造更加愉悦和可持续性的生活方式,为数百万人的生活带来积极的影响。从先进的基因编辑技术和发现治疗最具挑战性疾病的独特方法,到实现设备的智能化——默克无处不在。2020年,默克在66多个国家的总销售额达175亿欧元。

科学探索和负责任的企业精神一直是默克科技进步的关键,也是默克自1668年以来永葆活力的秘诀。默克家族作为公司的创始者至今仍持有默克大部分的股份,我们在全球都叫“默克”,仅美国和加拿大例外。默克的三大领域:医药健康、生命科学及电子科技在这两个国家分别称之为“EMD Serono”、“MilliporeSigma”和“EMD Electronics”。默克在中国已经有80多年发展历史,目前有超过4,200名员工,并在北京、上海、香港、无锡、苏州和南通拥有20多个注册公司。

fqj

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53561

    浏览量

    459351
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备
    的头像 发表于 10-28 08:53 5881次阅读

    光刻胶剥离工艺

    光刻胶剥离工艺是半导体制造和微纳加工中的关键步骤,其核心目标是高效、精准地去除光刻胶而不损伤基底材料或已形成的结构。以下是该工艺的主要类型及实施要点:湿法剥离技术有机溶剂溶解法原理:使
    的头像 发表于 09-17 11:01 1024次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺

    光刻胶旋涂的重要性及厚度监测方法

    芯片制造领域的光刻工艺中,光刻胶旋涂是不可或缺的基石环节,而保障光刻胶旋涂的厚度是电路图案精度的前提。优可测薄膜厚度测量仪AF系列凭借高精
    的头像 发表于 08-22 17:52 1405次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>旋涂的重要性及厚度监测方法

    国产光刻胶突围,日企垄断终松动

      电子发烧友网综合报道 光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材,尤其高端材料长期被日美巨头垄断,国外企业对原料和配方高度保密,我国九成以上光刻胶
    的头像 发表于 07-13 07:22 5705次阅读

    行业案例|膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量

    光刻胶,又称光致抗蚀,是种关键的耐蚀刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下,溶解度会发生变化,主要应用于显示
    的头像 发表于 07-11 15:53 367次阅读
    行业案例|膜厚仪应用测量之<b class='flag-5'>光刻胶</b>厚度测量

    针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在晶圆上芯片制造工艺中,光刻胶剥离是承上启下的关键环节,其效果直接影响芯片性能与良率。同时,光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段
    的头像 发表于 06-25 10:19 740次阅读
    针对晶圆上<b class='flag-5'>芯片</b>工艺的<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在显示面板制造的 ARRAY 制程工艺中,光刻胶剥离是关键环节。铜布线在制程中广泛应用,但传统光刻胶剥离液易对铜产生腐蚀,影响器件性能。同时,光刻图形的精准测量对确保 ARRAY
    的头像 发表于 06-18 09:56 626次阅读
    <b class='flag-5'>用于</b> ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

        引言   在半导体制造领域,光刻胶剥离工艺是关键环节,但其可能对器件性能产生负面影响。同时,光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至
    的头像 发表于 06-14 09:42 668次阅读
    减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶产业国内发展现状

    如果说最终制造出来的芯片道美食,那么光刻胶就是最初的重要原材料之,而且是那种看起来可能不起眼,但却能决定
    的头像 发表于 06-04 13:22 684次阅读

    光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料,其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时,精准测量
    的头像 发表于 05-29 09:38 1000次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及其制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀,是芯片制造光刻工艺的核心材料
    的头像 发表于 04-29 13:59 7026次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的类型及特性

    【「芯片通识课:本书读懂芯片技术」阅读体验】芯片怎样制造

    光刻工艺、刻蚀工艺 在芯片制造过程中,光刻工艺和刻蚀工艺用于在某个半导体材料或介质材料层上,按照光掩膜版上的图形,“刻制”出材料层的图形
    发表于 04-02 15:59

    【「芯片通识课:本书读懂芯片技术」阅读体验】了解芯片怎样制造

    ,三合工艺平台,CMOS图像传感器工艺平台,微电机系统工艺平台。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻胶:感光树脂,增感,溶剂。 正性和负性。 光刻工艺: 涂
    发表于 03-27 16:38

    芯片制造:光刻工艺原理与流程

    机和光刻胶:   光掩膜:如同芯片的蓝图,上面印有每层结构的图案。 ‍   ‍光刻机:像把精确的画笔,能够引导光线在
    的头像 发表于 01-28 16:36 3121次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b><b class='flag-5'>制造</b>:<b class='flag-5'>光刻</b>工艺原理与流程

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶是半导体制造等领域的种重要材料,在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感和溶剂等成分组成。其中,感光树脂决定了
    的头像 发表于 12-19 13:57 1823次阅读