0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

荷兰巨头1nm光刻机迎新突破,预计会在2022年实现商业化

旺材芯片 来源:旺材芯片 作者:旺材芯片 2020-12-09 09:35 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

11月30日最新报道,近日荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解,先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时,ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。按照阿斯麦的计划,预计相应的曝光设备全线准备好之后,会在2022年实现商业化。

然而,这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际,我国芯片制造巨头——中芯国际自阿斯麦订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉,中芯国际于2018年自阿斯麦(ASML)手上购买了一台价值约1.2亿美元(折合约7.9亿元人民币)的EUV光刻机。 由于订购的设备一直没到手,中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出,将原本约457亿元的开支计划减少了55亿元至约402亿元。那么,之后中芯国际有没有可能彻底取消这笔买卖呢?恐怕还不好说,毕竟当前全球能造出EUV光刻机的仅有阿斯麦一家。

不过,中企也很有可能从韩国身上找到“转机”。据韩国媒体11月16日报道,韩国知识产权局(KIPO)发布的报告显示,经过长达10年的发展与钻研(2011-2020年),该国EUV光刻专利已经高达193项。而在此之前,全球光刻市场是美国企业Cymer公司“一家独大”。

要知道,当前韩国电子巨头三星正盼能从我国半导体市场“分得一块蛋糕”。据悉,11月12日当天,三星首次面向我国发布了芯片产品——Exynos1080,还宣布将向我国智能手机制造巨头vivo供应5nm高端芯片。 来源:TechWeb网站

责任编辑:xj

原文标题:重磅 | 荷兰巨头1nm光刻机迎新突破!中国订购的EUV光刻机呢?

文章出处:【微信公众号:旺材芯片】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48737
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    614

    浏览量

    88530
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43345

原文标题:重磅 | 荷兰巨头1nm光刻机迎新突破!中国订购的EUV光刻机呢?

文章出处:【微信号:wc_ysj,微信公众号:旺材芯片】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 9398次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3
    的头像 发表于 07-24 09:29 7274次阅读
    AI需求飙升!ASML新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2<b class='flag-5'>nm</b>芯片制造,尼康新品获重大<b class='flag-5'>突破</b>

    亿纬锂能储能大电池全球商业化应用实现重要突破

    近日,亿纬锂能储能大电池全球商业化应用实现重要突破——搭载628Ah储能大电池的Mr.Giant储能系统已成功运抵澳大利亚,并完成首批交付。此举再次彰显了亿纬锂能在储能系统设计、制造及国际工程交付方面的成熟能力,进一步夯实其全球
    的头像 发表于 11-06 09:31 252次阅读

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    系列。该系列产品主要面向mini/micro LED光电器件、光芯片、功率器件等化合物半导体领域,可灵活适配硅片、蓝宝石、SiC等不同衬底材料,满足多样的胶厚光刻工艺需求。 WS180i系列光刻机优势显著。其晶圆覆盖范围广,可
    的头像 发表于 10-10 17:36 744次阅读

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流   近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6
    发表于 08-15 10:15 2831次阅读
    今日看点丨全国首台国产<b class='flag-5'>商业</b>电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 1835次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    光刻图形转化软件免费试用

    ,或者MDP软件。 现有可免费试用的光刻图形转化软件,可实现最高1nm精度的大型图形转换,同时只需要的少量的电脑内存就可以运行。如需要请联系我,谢谢!
    发表于 05-02 12:42

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    进制程领域,曝光波长逐渐缩短至13.5nm光刻技术逐步完善成熟。2024年光刻机市场的规模为230亿美元。2025年光刻机市场的规模预计
    的头像 发表于 04-07 09:24 1154次阅读

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
    的头像 发表于 02-17 14:09 4055次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 971次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2285次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5769次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 4198次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍