0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

荷兰巨头1nm光刻机迎新突破,预计会在2022年实现商业化

旺材芯片 来源:旺材芯片 作者:旺材芯片 2020-12-09 09:35 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

11月30日最新报道,近日荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解,先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时,ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。按照阿斯麦的计划,预计相应的曝光设备全线准备好之后,会在2022年实现商业化。

然而,这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际,我国芯片制造巨头——中芯国际自阿斯麦订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉,中芯国际于2018年自阿斯麦(ASML)手上购买了一台价值约1.2亿美元(折合约7.9亿元人民币)的EUV光刻机。 由于订购的设备一直没到手,中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出,将原本约457亿元的开支计划减少了55亿元至约402亿元。那么,之后中芯国际有没有可能彻底取消这笔买卖呢?恐怕还不好说,毕竟当前全球能造出EUV光刻机的仅有阿斯麦一家。

不过,中企也很有可能从韩国身上找到“转机”。据韩国媒体11月16日报道,韩国知识产权局(KIPO)发布的报告显示,经过长达10年的发展与钻研(2011-2020年),该国EUV光刻专利已经高达193项。而在此之前,全球光刻市场是美国企业Cymer公司“一家独大”。

要知道,当前韩国电子巨头三星正盼能从我国半导体市场“分得一块蛋糕”。据悉,11月12日当天,三星首次面向我国发布了芯片产品——Exynos1080,还宣布将向我国智能手机制造巨头vivo供应5nm高端芯片。 来源:TechWeb网站

责任编辑:xj

原文标题:重磅 | 荷兰巨头1nm光刻机迎新突破!中国订购的EUV光刻机呢?

文章出处:【微信公众号:旺材芯片】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1203

    浏览量

    49114
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    615

    浏览量

    89071
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    741

    浏览量

    43734

原文标题:重磅 | 荷兰巨头1nm光刻机迎新突破!中国订购的EUV光刻机呢?

文章出处:【微信号:wc_ysj,微信公众号:旺材芯片】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 1.1w次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3
    的头像 发表于 07-24 09:29 8986次阅读
    AI需求飙升!ASML新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2<b class='flag-5'>nm</b>芯片制造,尼康新品获重大<b class='flag-5'>突破</b>

    ASML与塔塔电子签署谅解备忘录

    近日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)与印度塔塔集团旗下塔塔电子(Tata Electronics)正式签署谅解备忘录。ASML将支持塔塔电子在古吉拉特邦多莱拉(Dholera)建设印度首座300
    的头像 发表于 05-18 10:57 1519次阅读

    三星力争2030量产1nm芯片,引入“fork sheet”新结构

    在半导体行业的激烈竞争中,三星电子晶圆代工业务部门正全力冲刺,计划在2030前推出1nm工艺,这一技术被誉为“梦想半导体”工艺,每个计算单元大小仅相当于五个原子。此举目标明确,直指与台积电展开全面技术竞争,巩固自身在下一代半导体市场的领先地位。
    的头像 发表于 04-01 18:47 408次阅读

    垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装

    能量产 EUV 光刻机的厂商,早已凭借这一垄断地位,深度绑定台积电等头部芯片制造商,左右着全球最先进 AI 芯片的产能与迭代节奏。如今,这家巨头正跳出 EUV 的舒适区,将目光投向先进封装设备市场,以一场横跨 10 至 15
    的头像 发表于 03-05 09:19 2905次阅读

    1nm!北大实现芯片领域重要突破

    IC设计行业芯事
    电子发烧友网官方
    发布于 :2026年02月24日 15:36:06

    成都汇阳投资关于政策引领叠加技术突破,脑接口商业化可期

    ,非侵入式因技术难度相对较低,商业化较快,市场占比最高,半侵入式市场占比居中 ,侵入式因技术难度较高 ,仍处于技术转临床阶段 ,市场占比相对较低 。产业端来看 ,脑接口产业链上游是核心硬件与软件(电极、 芯片、 算法) ,技术壁垒最高 , 中游
    的头像 发表于 01-29 10:49 527次阅读

    重磅!光刻机巨头ASML裁员1700人

    电子发烧友网综合报道 1月28日,全球半导体设备巨头阿斯麦(ASML)发布一则令人意外的公告:计划精简技术及IT部门人员,在荷兰与美国净裁减1700个工作岗位,约占公司总员工数的3.8%,且裁员范围
    的头像 发表于 01-29 09:19 7732次阅读

    亿纬锂能储能大电池全球商业化应用实现重要突破

    近日,亿纬锂能储能大电池全球商业化应用实现重要突破——搭载628Ah储能大电池的Mr.Giant储能系统已成功运抵澳大利亚,并完成首批交付。此举再次彰显了亿纬锂能在储能系统设计、制造及国际工程交付方面的成熟能力,进一步夯实其全球
    的头像 发表于 11-06 09:31 663次阅读

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    系列。该系列产品主要面向mini/micro LED光电器件、光芯片、功率器件等化合物半导体领域,可灵活适配硅片、蓝宝石、SiC等不同衬底材料,满足多样的胶厚光刻工艺需求。 WS180i系列光刻机优势显著。其晶圆覆盖范围广,可
    的头像 发表于 10-10 17:36 2962次阅读

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流   近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6
    发表于 08-15 10:15 3282次阅读
    今日看点丨全国首台国产<b class='flag-5'>商业</b>电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    UVlaser 266nm OLED修复#DUV光刻 #精密仪器 #光刻技术

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:44:55

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 1152次阅读

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 2213次阅读