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DC BTI:SiC MOSFET 长期稳定的 “隐形考验”,英飞凌这样破解

英飞凌工业半导体 2026-06-04 17:04 次阅读
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赵佳

在碳化硅(SiC)MOSFET的长期运行中,有一个容易被忽视却影响重大的现象——DC BTI(恒定栅极偏置下的温度不稳定性)。它会悄悄引发器件阈值电压漂移,进而影响导通电阻、增加损耗,甚至缩短器件寿命。作为功率半导体领域的标杆,英飞凌不仅深度解析了 DC BTI 的本质,更通过工艺优化、测量创新和精准建模,实现了对 DC BTI 的极致控制,让 CoolSiC MOSFET 在可靠性上脱颖而出。


01

DC BTI 是什么?SiC MOSFET 的 “自然老化” 现象


其实 DC BTI 并非 SiC 器件独有,在硅基 MOSFET 中早已被熟知,简单来说,这是器件在高温 + 恒定栅极直流偏压双重作用下的“自然老化”:栅极与氧化层界面的载流子被捕获,导致阈值电压、导通电阻等核心参数发生不可逆的缓慢变化,而漂移的方向和幅度,全由偏置电压、温度、应力时间这些条件决定。


针对 SiC MOSFET,DC BTI 主要分为两种类型,效果截然相反:


PBTI(正偏置温度不稳定性):栅极加正偏压时,阈值电压升高,这是 SiC 器件中最主要的漂移类型;

NBTI(负偏置温度不稳定性):栅极加负偏压时,阈值电压降低,漂移幅度通常更小。


而这一切的根源,都在 SiC 与栅氧化层(SiO₂)的界面上。SiC 作为宽禁带半导体,其 SiC/SiO₂界面存在独特的点缺陷,且碳化硅的导带底比硅更高,更容易让电子被氧化层的陷阱俘获,这也是 SiC 器件的 DC BTI 漂移与硅器件存在差异的核心原因。


02

DC BTI 的影响:牵一发而动全身的参数连锁反应



阈值电压是 SiC MOSFET 的“开关临界值”,它的漂移,会引发一系列连锁反应,直接影响器件的实际使用效果和寿命:


1

导通电阻上升,损耗增加: PBTI 会让阈值电压升高,若栅极驱动电压不变,则栅极驱动高电平(VH)与阈值电压的差值 —— 过驱动电压会降低,导通电阻随之增加,电路中的功率损耗上升;

2

温度恶性循环,寿命缩短:损耗增加会直接导致器件工作温度升高,而高温又会进一步加剧 DC BTI 漂移,形成 “损耗↑→温度↑→漂移↑” 的恶性循环,最终缩短器件使用寿命;

3

性能偏离设计,系统不稳定:阈值电压和导通电阻的漂移,会让器件实际性能偏离设计值,对于新能源汽车、光伏储能等对精度和稳定性要求极高的场景,可能引发系统运行异常。


也正因如此,理解 DC BTI 的漂移规律,是 SiC MOSFET 规模化应用的必备条件。


03

怎么测准 DC BTI?英飞凌升级测量方法,告别 “数据误差”



要控制 DC BTI,首先得精准测量它的漂移规律。但 DC BTI 引起的阈值电压漂移分两个部分:快速可恢复分量(应力消失后短期内恢复,无实际影响)和准永久性分量(恢复极慢,决定长期漂移水平)。


传统的测量方法采用“测量-应力-测量(MSM)” 序列,看似简单,却有致命缺陷:测量结果对 “应力结束到开始测量的延迟时间” 极其敏感,哪怕延迟差 1 毫秒和 100 毫秒,测出的漂移数据都会相差甚远,不仅可重复性差,还无法区分可恢复的滞后效应和真正的长期漂移。


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传统DC BTI 测试序列


针对这一问题,英飞凌对测量方法进行了核心升级,在 MSM 序列中加入预处理脉冲,完美解决了传统方法的痛点:


1

预处理脉冲会模拟器件实际工作中的栅极开关行为,让氧化层的陷阱态进入稳定的电荷状态,大幅降低测量延迟和器件历史对结果的影响;

2

读出阶段采用 “预处理脉冲 - 第一次读出 – 反转脉冲 - 第二次读出” 的流程,第二次读出的结果几乎只保留准永久性漂移分量,精准反映器件的长期漂移水平;

3

两次读出的差值还能直接衡量滞后效应,让测量结果更全面、更可靠。


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改进的测试序列


这套改进的测量方法,也为后续 DC BTI 的建模和控制提供了精准的数据基础。


04

对比测试:在 175°C 高温、±20VGS 偏压、1000 小时长应力的严苛实测中,实际对比多个厂家控制DC BTI的能力。



正向偏压(PBTI)条件下,所有厂商都能很好地控制阈值漂移量,最大漂移不超过6%。


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负向偏压(NBTI)下,英飞凌不论第一代M1还是第二代M2H都几乎无漂移,而半数竞品的漂移幅度超过 10%,差距显著。


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目前,英飞凌是行业内唯一能同时精准控制正负偏压下 DC BTI 漂移的厂商,这也让 CoolSiC MOSFET 在长期稳定性上形成了独有的技术壁垒。


05

深层原因:沟槽栅设计,让可靠性与性能兼得



英飞凌 CoolSiC MOSFET 采用独特的非对称沟槽栅结构,相比传统平面结构,栅氧更厚,因此栅氧电场强度更低、沟道导电率更高,不仅能降低 DC BTI 漂移的诱因,还能在优化氧化层工艺、控制漂移的同时,保持极低的导通电阻,真正实现可靠性与性能的双重提升,而非简单的 “取舍”。


06

总结:控制 DC BTI,是 SiC MOSFET 高可靠性的重要方面


英飞凌从 DC BTI 的本质机制出发,通过改进测量方法让数据更精准,优化器件结构与工艺从源头降低漂移,迁移硅技术经验实现漂移可预测,最终凭借行业独有的正负漂移双控制能力,让 CoolSiC MOSFET 的长期可靠性达到甚至超越硅基器件水平。

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