台积电营收又要创新高，最先进EUV光刻机5nm、7nm工艺赚大

得益于先进的工艺，台积电今年的营收又要创新高，即便是没有了华为这样的客户，也丝毫不受影响。

台积电昨日举行南科3nm米晶圆厂上梁典礼，董事长刘德音透露，台积电规划的3nm厂厂房基地面积约为35公顷，当3nm进入量产时，当年产能预估将超过每月60万片12寸晶圆。

刘德音还表示，台积电营收去年已经连续 10 年创下纪录，今年也将再刷新纪录，南科营收 2019 年产值高达新台币 3，800 亿元，占台积电营业额的37%，今年预估将突破新台币4400亿元。

报告显示，今年台积电营收之所以猛增，主要还是跟5nm、7nm工艺有关，因为市场需求非常的高，特别是苹果的订单，完全供应不上。

为了保持领先，台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机，将会在2021年全年交付，不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。同时，明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机。

目前，台积电使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7+以及N5节点上制造芯片，但在未来几个季度，该公司将增加N6（实际上将在2020年第四季度或2021年第一季度进入HVM）以及同样具有EUV层的N5P工艺。

台积电对EUV工具的需求正在增加是因为其技术越来越复杂，更多地方需要使用极紫外光刻工具处理。台积电的N7+使用EUV来处理最多4层，以减少制造高度复杂的电路时多图案技术的使用。

责任编辑：PSY