日本首台EUV光刻机就位

据日经亚洲 12 月 19 日报道，Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司，已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。

它将分四个阶段进行安装，设备安装预计在本月底完成。

Rapidus 计划 2025 年春季使用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片，于 2027 年开始大规模生产芯片。

EUV 机器结合了特殊光源、镜头和其他技术，可形成超精细电路图案。该系统体积小，不易受到振动和其他干扰。

ASML 是全球唯一的 EUV 系统供应商。每台系统的成本约为 1.8 亿美元，具体价格取决于型号。这些系统需要很高水平的操作技能，只有少数芯片制造商采用了它们，包括台湾半导体制造公司、三星电子和英特尔。去年全球仅交付了 42 台。

Rapidus 正与 IBM 合作，计划于 2025 年春季采用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片，并于 2027 年实现量产。全球最大的代工芯片制造商台积电的目标是在 2025 年实现 2 纳米芯片的量产。

更精细的电路赋予逻辑芯片更高的能效和处理能力，逻辑芯片是电子设备的大脑。这种先进的芯片对于人工智能和其他有望在未来几十年决定经济主导地位的技术至关重要。

20 世纪 80 年代，日本半导体产业的全球市场份额超过 50%。但到了 21 世纪，日本已退出生产越来越小的逻辑芯片的竞争。当地政府希望，借由 EUV 光刻工具大规模应用，重振日本先进芯片生产能力。

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审核编辑 黄宇