长江存储迎来荷兰光刻机，国产SSD固态硬盘将更上一层楼

贸易战一波三折，目前两方还是在互怼的状态。。。6月15日，美国白宫宣布对从中国进口的、含重要工业技术的500亿美元商品征收25%的关税，并提到这些商品与“中国制造2025”相关。中国方面立即做出回应，将对等反击美国挑起的贸易战。6月16日，国务院税委会宣布对美国出口至中国的695项约500亿商品加收关税，具体也分成两类：对农产品、汽车、水产品等545项商品自2018年7月6日起加征25%关税；对化工品、医疗设备、能源产品等114项商品，加征关税实施时间另行公告。

大大说过：核心技术是化缘不来的。是的，这个时间段正是我们抓紧补漏的阶段，尤其是在半导体行业等重点薄弱领域，做好自身实力上的储备。

前不久，长江存储迎来了一台来自于荷兰的光刻机，可谓是为芯片制造产业增添一件利器！这台光刻机同样来自荷兰ASML，193nm沉浸式设计，可生产20-14nm工艺的3DNAND闪存晶圆，售价达7200万美元，约合人民币4.6亿元。这台光刻机的加盟，意义真是非凡！

标志着中国在生产设备上与其他尖端芯片制造强国处于同一水平上，相信国产SSD固态硬盘能够更上一层楼。

那么，什么是光刻机呢？本节小编就带大家一起认识一下光刻机。

一、什么是光刻机？

光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。

当然，光刻机是用来制作芯片的，所以我们来介绍一下基本的芯片制造工艺中的光刻工艺。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

在我们知道了光刻机的作用之后，相信大家会疑问：光刻机有哪些种类呢？

二、光刻机的品牌

光刻机的品牌众多，大致在层次上可以分为高档和低档两类：：

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

那么，光刻机在原理上可以分为哪几类呢？

三、光刻机的种类

光刻机在原理上可以分为三类：接触式光刻机、接近式光刻机、投影式光刻机。

接触式光刻机，来源于它的曝光方式：采用了接触式曝光的形式，就是掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）。

接触式光刻机虽然简单，但是存在一些问题：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏，寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化，所以中国的光刻机研发还要加把力！

接近式光刻机采用了接近式曝光的方式，掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。