0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻机巨头ASML半年来频频拓展中国子公司

jXID_bandaotigu 来源:未知 作者:胡薇 2018-10-24 11:31 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

根据工商资料,今年6月6日,在上海注册建立了18年之久的阿斯麦(上海)光刻设备科技有限公司更换法人为沈波,同时,上半年来在中国地区先后设立了合肥、成都、武汉、晋江4家分公司。5月30日,ASML HOLDING N.V(ASML)在上海全资成立了阿斯麦(上海)机电设备有限公司,由沈波担任法人。根据公开资料,沈波是ASML中国区总裁。

ASML是全球四大半导体前道用***生产厂之一,总部位于荷兰,作为一家半导体设备供应商,全球前三大集成电路生产商英特尔(INTC)、三星电子、台积电(TSMC)都是ASML的客户,并在2012年共同收购其股权。集邦咨询深圳研究总监、半导体分析师张瑞华指出,ASML以一己之力占全球***7成份额,另外三家是,尼康、佳能和上海微电子(SMEE)。从数据来看,2017年全球晶圆制造用***台出货不足300台,其中ASML共就出货198台。根据财报,今年二季度公司以58台设备获得20.86亿英镑的销售收入,由此估算,设备单价平均约3600万英镑。

芯片业从设计到制造,需要技术密集的工艺线以及高度的国际协作,在中美贸易战背景下,来自中国政府、私募机构的资本正加速投向本土晶圆厂,这增加了ASML中国区客户或潜在客户的需求。根据财报,二季度收入的19%来自中国市场。

张瑞华分析,从阿斯麦(上海)光刻设备科技有限公司的4家分公司所在地可发现,是近年来中国晶圆厂发展最为快速的地区,皆有12吋晶圆厂要投产,且未来也会持续扩产。由于半导体设备专业性极强,一般在客户销售的同时,会在大部分客户附近建立服务团队,以就近解决设备在运转过程中面临之问题。

具体有哪些中国客户,ASML的二季度财报并未披露。张瑞华指出,所有发展高端工艺制程的晶圆代工或IDM企业都可能是ASML的客户,包括中芯国际、华虹半导体、长江存储、合肥长鑫、晋华集成、合肥晶合、厦门联芯等。ASML的布局完全是因中国大陆半导体产业的发展脚步。

根据官网,ASML创立于1984年,曾在阿姆斯特丹泛欧交易所及纳斯达克上市,每年研发计划投入5亿欧元以上,目前在16个国家设有70多个分支机构以及有12000名员工。自2010年,公司向亚洲芯片制造商供应了第一台极紫外***(EUV),标志着全球光刻新时代的开始。2012年,英特尔、三星电子、台积电成为了公司三大主要客户。2013年至今,公司先后收购了圣地亚哥光刻制造商CyMe和Hermes Micro(HMI)。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1197

    浏览量

    48740
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43347

原文标题:全球光刻机霸主ASML半年内新设多家中国子公司

文章出处:【微信号:bandaotiguancha,微信公众号:半导体观察IC】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司
    的头像 发表于 10-04 03:18 9428次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
    的头像 发表于 07-24 09:29 7299次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    AI驱动半导体行业变革:ASML解决方案应对算力与能耗挑战

    电子发烧友网综合报道 在第八届中国国际进口博览会(以下简称“进博会”)上,全球光刻机巨头ASML以“积纳米之微,成大千世界”为主题亮相,向全球展示其面向主流芯片市场的全景
    的头像 发表于 11-13 09:12 1748次阅读

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 748次阅读

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 1844次阅读

    ASML光刻「芯 」势力知识挑战赛正式启动

    ASML光刻「芯」势力知识挑战赛由全球半导体行业领先供应商ASML发起,是一项面向中国半导体人才与科技爱好者的科普赛事。依托ASML
    的头像 发表于 06-23 17:04 1108次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b>杯<b class='flag-5'>光刻</b>「芯 」势力知识挑战赛正式启动

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对光刻机的需求持续增长,尤其是在先
    的头像 发表于 04-07 09:24 1158次阅读

    ASML中国芯片落后西方15年!

    光刻机制造巨头阿斯麦(ASML)的首席执行官克里斯托夫·富凯表示,尽管近年来中国在半导体领域取得了显著进步,但与英特尔、台积电和三星等行业
    的头像 发表于 02-06 17:39 864次阅读

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 975次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2298次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    飞利浦将旗下MEMS代工厂Xiver出售,该厂为ASML光刻机提供组件

    近日,飞利浦已将其位于荷兰埃因霍温的 MEMS 晶圆厂和代工厂出售给一个荷兰投资者财团,交易金额不详。该代工厂为 ASML 光刻机公司提供产品,并已更名为 Xiver。 该 MEMS 代工厂已被
    的头像 发表于 01-16 18:29 2486次阅读

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5819次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高,能够达到
    的头像 发表于 01-07 10:02 4235次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍