0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

晶圆制造基础原材料硅片相关探讨

NVQ8_sensors_io 来源:未知 作者:李倩 2018-08-24 16:43 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

近年来,在国内集成电路产业持续快速发展的带动下,上游专用材料产业也迎来了快速发展。就半导体材料而言,其主要被用于晶圆制造芯片封装环节。

据SEMI报告统计,2016年晶圆制造材料市场为 247 亿美元, 封装材料市场为 196 亿美元,合计 443 亿美元。在晶圆制造以及封装材料中,硅片和封装基板分别是规模占比最大的细分子行业,占比达 1/3 以上。

硅片作为晶圆制造基础原材料,近来得到了国家在政策和资本等各方面的大力支持,本文将就硅片进行相关探讨。

一、硅片简介

硅片是最重要的半导体材料, 目前90%以上的芯片和传感器是基于半导体单晶硅片制造而成。硅片是由纯度很高的结晶硅制成,与其他材料相比,结晶硅的分子结构非常稳定,很少有自由电子产生,因此其导电性极低。半导体器件则是通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,改变硅的分子结构进而提高其导电性,最终获得的一 种具备较低导电能力的产品。

按照尺寸规格不同,硅片可分为 4 英寸、5 英寸、6 英寸、8 英寸和 12 英寸等,尺寸越大,晶圆能切割下的芯片就越多,成本就更低,对设备和工艺的要求则越高。

早在 20 世纪 60 年代,就有了0.75 英寸(约 20mm)左右的单晶硅片。随后在 1965 年左右随着摩尔定律的提出,集成电路用硅片开始进入快速发展时期。目前主流的硅片为 300mm(12 英寸)、 200mm(8 英寸) 和150mm(6 英寸), 其中, 300mm 硅片自 2009 年开始市场份额超过 50%,到 2015 年的份额已经达到 78%, 预计 2020 年300mm(12 英寸)晶圆片将成为主流, 18 英寸(450mm)的硅片则将开始投入使用。

二、硅片市场

根据 SEMI 统计数据,全球半导体硅片市场规模在 2009 年受经济危机影响而急剧下滑,2010 年大幅反弹。2011 年到 2013 年,由于 300 毫米大硅片的普及造成硅片单位面积的制造成本下降,同时加上企业扩能竞争激烈,2013 年全球硅片的市场规模只有 75 亿美金,连续两年下降。2014 年受汽车电子及智能终端的需求带动,12 寸大硅片价格止跌反弹,全球硅片出货量与市场规模开始复苏。根据 Gartner的预测,到 2020 年全球硅片市场规模将达到 110 亿美元左右。

资料来源 : Gartner、方正证券研究所

三、硅片产业格局

由于硅材料的高垄断性,全球只有大约10家企业能够制造,其中前5家企业占有92%的市场份额。

世界头两名集成电路用硅片制造商都集中于日本,信越(Shin-Etsu)和SUMCO,占全球60以上%;这两家企业生产的大尺寸硅片(200毫米和300毫米)则占全球的70%以上,形成绝对垄断和极高的技术壁垒。其他硅片生产厂商包括***环球晶圆(Global Wafer)、德国世创(Siltronic)、韩国LG Siltron、法国Soitec、***合晶(Wafer Works)、芬兰Okmetic、***嘉晶(Episil)。

排名前五的硅片制造厂商

由于硅片生产过程非常复杂,技术壁垒极高,加上中国技术发展起步较晚,导致中国本土国产化比率相当低。

不过随着近来国家在政策和资本等各方面给予大力支持,中国本土企业在市场、政策、资金的推动下开始快速发展。

目前中国大陆已有不少半导体硅片供应商,包括上海新昇半导体、上海新傲、有研新材料、金瑞泓,河北普兴、南京国盛等。

硅片作为大多数半导体器件的基础核心材料,其国产化在中国的高端制造领域具有非凡的国家战略意义,我们要继续努力推进,争取早入实现进口替代。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31277

    浏览量

    266677
  • 硅片
    +关注

    关注

    13

    文章

    419

    浏览量

    35814
  • 晶圆制造
    +关注

    关注

    7

    文章

    318

    浏览量

    25360

原文标题:半导体材料之硅片

文章出处:【微信号:sensors-iot,微信公众号:sensors-iot】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    精准诊断维修TCWafer测温设备#检测 #测温 #制造过程

    瑞乐半导体
    发布于 :2026年03月09日 10:29:06

    半导体行业转移清洗为什么需要特氟龙夹和花篮?

    在半导体芯片的精密制造流程中,从一片薄薄的硅片成长为百亿晶体管的载体,需要经历数百道工序。在半导体芯片的微米级制造流程中,
    的头像 发表于 11-18 15:22 582次阅读
    半导体行业<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>转移清洗为什么需要特氟龙<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>夹和花篮?

    马兰戈尼干燥原理如何影响制造

    马兰戈尼干燥原理通过独特的流体力学机制显著提升了制造过程中的干燥效率与质量,但其应用也需精准调控以避免潜在缺陷。以下是该技术对
    的头像 发表于 10-15 14:11 819次阅读
    马兰戈尼干燥原理如何影响<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>

    再生和普通的区别

    再生与普通在半导体产业链中扮演着不同角色,二者的核心区别体现在来源、制造工艺、性能指标及应用场景等方面。以下是具体分析:定义与来源差
    的头像 发表于 09-23 11:14 1528次阅读
    再生<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>和普通<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的区别

    清洗后的干燥方式

    清洗后的干燥是半导体制造中的关键步骤,其核心目标是在不损伤材料的前提下实现快速、均匀且无污染的脱水过程。以下是主要干燥方式及其技术特点:1.旋转甩干(SpinDrying)原理:将
    的头像 发表于 08-19 11:33 1686次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>清洗后的干燥方式

    一文详解加工的基本流程

    棒需要经过一系列加工,才能形成符合半导体制造要求的硅衬底,即。加工的基本流程为:滚磨、切断、切片、硅片退火、倒角、研磨、抛光,以及清洗
    的头像 发表于 08-12 10:43 5597次阅读
    一文详解<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>加工的基本流程

    制造中的退火工艺详解

    退火工艺是制造中的关键步骤,通过控制加热和冷却过程,退火能够缓解应力、修复晶格缺陷、激活掺杂原子,并改善材料的电学和机械性质。这些改进对于确保
    的头像 发表于 08-01 09:35 2944次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>中的退火工艺详解

    制造中的WAT测试介绍

    Wafer Acceptance Test (WAT) 是制造中确保产品质量和可靠性的关键步骤。它通过对上关键参数的测量和分析,帮助
    的头像 发表于 07-17 11:43 3583次阅读

    边缘 TTV 测量的意义和影响

    摘要:本文探讨边缘 TTV 测量在半导体制造中的重要意义,分析其对芯片制造工艺、器件性能和生产良品率的影响,同时研究测量方法、测量设备精
    的头像 发表于 06-14 09:42 893次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>边缘 TTV 测量的意义和影响

    半导体检测与直线电机的关系

    检测是指在制造完成后,对进行的一系列物理
    的头像 发表于 06-06 17:15 1040次阅读
    半导体<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>检测与直线电机的关系

    优化湿法腐蚀后 TTV 管控

    摘要:本文针对湿法腐蚀工艺后总厚度偏差(TTV)的管控问题,探讨从工艺参数优化、设备改进及检测反馈机制完善等方面入手,提出一系列优化方法,以有效降低湿法腐蚀后
    的头像 发表于 05-22 10:05 832次阅读
    优化湿法腐蚀后<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 管控

    拣选测试的具体过程和核心要点

    在半导体制造流程中,拣选测试(Wafer Sort)堪称芯片从“原材料”到“成品”的关键质控节点。作为集成电路制造中承上启下的核心环节,
    的头像 发表于 04-30 15:48 6601次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>拣选测试的具体过程和核心要点