龙图光罩90nm掩模版量产，已启动28nm制程掩模版的规划

电子发烧友网报道（文/莫婷婷）近日，龙图光罩宣布珠海项目顺利投产，公司第三代掩模版PSM产品取得显著进展。KrF-PSM和ArF-PSM陆续送往部分客户进行测试验证，其中90nm节点产品已成功完成从研发到量产的跨越，65nm产品已开始送样验证。

掩模版也称光罩，是集成电路制造过程中的图形转移工具或者母板，载着图形信息和工艺技术信息，广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。掩模版的作用是将承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上，从而实现集成电路的批量化生产。

图源：龙图光电

长期以来，半导体掩模版市场被美国Photronics、日本Toppan和DNP等国际巨头主导，本土企业因起步晚、技术积累薄弱，当前量产能力集中于350nm-130nm中低端制程，130nm以下先进工艺布局不足。根据中国电子协会官网数据，目前中国半导体掩模版的国产化率10%左右，90%需要进口，高端掩模版的国产化率仅约3%。

其中，90nm先进工艺节点具有战略意义——它是衡量本土企业突破技术瓶颈、缩小与国际差距的关键指标，对推动我国半导体产业链自主可控具有重要意义。

90nm作为连接成熟制程与先进制程的关键节点，其技术突破不仅有助于填补国内在中高端掩模版领域的空白，提升国产化水平，还能为先进逻辑芯片、高性能模拟芯片及特色工艺（如先进封装）的发展提供有力支撑。当前，以龙图光罩为代表的国内企业正加速技术追赶，逐步向65nm、40nm乃至更先进节点迈进，标志着我国掩模版产业正迈向高端化与自主化的新阶段。

当下，龙图光罩在半导体掩模版领域的工艺水平实现显著跃升，已从130nm稳步进阶至65nm，且顺利完成40nm工艺节点的产线配置。其产品覆盖范围广泛，不仅深度融入信号链与电源管理集成电路等成熟制程领域，更在功率器件、微机电系统（MEMS）传感器及先进封装等特色工艺制程中发挥重要作用。


龙图光罩表示，公司更高制程节点的产品已在某全球领先的晶圆代工厂完成产品流片，在线收集的各项关键验证数据均满足客户要求。该节点验证通过后，公司将可覆盖该客户三分之一以上的产品需求。此外，更高等级的产品亦在进行前期的工艺匹配，预计下半年将开始流片验证。

随着产品的流片验证，龙图光罩将覆盖更多客户。

在产能方面，今年3月，龙图光罩表示，深圳工厂目前产能利用率稳定在较高水平，由于掩模版产品系高度定制化，需根据客户特定需求生产，因此很难达到理想的满产状态，但现有的产能利用率能够有效保障客户订单的按时交付，同时兼顾产品质量与生产效率的平衡。珠海工厂的年达产产能规划为1.8万片，预计达产产值为5.4亿元。

值得关注的是，珠海龙图IPO募投项目定位为130-65nm制程节点的半导体掩模版。二期工程公司将规划建设更高制程节点的掩模产品，目前正在进行二期厂房建设并已启动28nm制程半导体掩模版的规划。

依据龙图光罩针对投资者问询所作出的答复，可明晰其第三代掩模版PSM产品的研发推进情况：今年3月，龙图光罩回复投资者表示：公司初步完成第三代光罩产品的工艺调试和样品试制，产能释放具体进度取决于客户工艺匹配、送样认证和开始小批量采购的周期。今年4月，龙图光罩表示，客户使用PSM样品流片的Wafer已经成功下线，in line收集的各项验证数据均满足客户要求，产品验证和导入进度顺利，预计年内可正式投产。