SK海力士宋清基TL荣庸发明日铜塔产业勋章

SK海力士宣布，5月19日于首尔COEX麻谷会展中心举行的“第60届发明日纪念仪式”上，来自HBM开发部门的宋清基TL荣庸铜塔产业勋章。

此次“第60届发明日纪念仪式”由韩国特许厅主办，旨在表彰那些通过创新发明为国家产业发展做出突出贡献的人士。

SK海力士的宋清基TL凭借在下一代HBM1产品研发、混合键合2（Hybrid Bonding）技术验证及专利布局、集成PIM3技术的GDDR6-AiM4开发与专利化、推动DRAM技术在国际半导体标准化组织（JEDEC）的标准化进程，促进 CXL5原型产品的开发与专利布局，以及积极开展公司内外存储器半导体技术培训工作方面做出的卓越贡献，荣获铜塔产业勋章。

1高带宽存储器（HBM, High Bandwidth Memory）：一种高附加值、高性能存储器，通过垂直互联多个DRAM芯片, 与DRAM相比可显著提升数据处理速度。HBM DRAM产品以HBM（第一代）、HBM2（第二代）、HBM2E（第三代）、HBM3（第四代）、HBM3E（第五代）、HBM4（第六代）的顺序开发，HBM4E（第 7 代）是目前正在开发的新品。

2混合键合(Hybrid Bonding) ：一种无需凸点便可将芯片直接连接在一起从而实现更高带宽和容量的技术。通过这一措施，芯片整体厚度将变得更薄，可以实现更高堆叠。目前该技术正在考虑用于16层及以上的HBM产品。

3PIM（Processing-In-Memory) ：一种在存储器中增加计算功能，解决AI和大数据处理中数据传输瓶颈，并大幅提升速度性能的新一代存储技术。

4AiM(Accelerator-in-Memory) ：SK海力士采用了PIM技术的半导体产品，其中包括GDDR6-AiM。

5CXL （Compute Express Link）：新一代接口，可在计算机系统中高效链接存储器、存储设备和处理器，灵活扩展容量和带宽。

宋TL于2005年加入SK海力士，在存储器设计研究领域深耕20余年，从DDR2开发起，先后参与了多项DRAM产品的研发工作。在此期间，他不仅推动了由JEDEC规定的存储器技术标准化进程，还成功申请并注册了300余项专利，覆盖HBM及新一代存储器技术等多个领域。

目前，多款基于这些专利技术的产品已实现商业化，正在持续创造经济效益。同时，多项前沿技术构想被业界广泛视为是抢占未来市场先机的关键创新。

SK海力士表示：“宋TL在专利开发与普及应用方面所做的努力，为提升国家与企业的竞争力提供了重要支撑”。同时强调：”我们将继续积极支持成员们的研发工作，进一步巩固韩国半导体行业长期以来积累的领先地位。”

本文采访了宋清基TL，深入了解他研发的心路历程以及本次获奖感言。

从下一代HBM到PIM与CXL技术，为存储器技术创新做出重要贡献

“我认为这份荣誉应该属于所有致力于推进前瞻性技术开发的SK海力士成员。正如公司长期以来引领市场一样，我期待今后我们的技术领导力也能继续保持。”

宋清基TL此次荣获铜塔产业勋章的核心功绩之一在于，他在新一代HBM开发中发挥了关键作用。尤为值得一提的是，他还主导提出了针对全球大型科技客户定制化设计需求的定制化（Custom）HBM相关的技术方案。

“可以预见，在不久的将来，满足客户需求的定制化HBM时代将正式到来。这不仅关乎提升产品性能，更是在重新定义存储器与逻辑半导体之间的界限。”

对此，宋TL提出在连接HBM与逻辑半导体的基础裸片（Base-die）中，引入支持高速运行功能并兼容LPDDR等异构存储器的新一代接口技术。他成功申请了多项专利，包括集成存储控制器和电源管理技术等。同时，他还提出了可提升下一代HBM带宽的技术方案，为产品性能突破提供了新的技术路径。

此外，宋TL还在实现下一代高容量HBM产品的“混合键合（Hybrid Bonding）”技术开发方面做出了重要贡献。

“为了创建更高层数的HBM，我们必须突破传统堆叠工艺的局限性。我们需要开发一种超越单纯堆叠技术的全新堆叠结构，同时要综合考虑电信号的稳定性与散热控制。为此，我们进行了大量的模拟分析和实验研究。”

他在新一代半导体技术——PIM和CXL领域持续开展前沿性研究工作，相关技术成果已在多项国际权威学术大会上展示，引起了业界的广泛关注。

“PIM是一种集成自身计算能力的存储器，我们开发的GDDR6-AiM正是基于这一技术的首个成功实践。当存储器本身具备自主运算能力时，可大幅减少传统系统中存在的数据传输瓶颈问题。新一代存储器正从被动存储单元向融合运算与互联的灵活架构演进。我们认为PIM与CXL将成为引领这一变革的关键技术。”

300余项专利申请的意义：“保护技术创新价值与创新本身同等重要”

推动SK海力士主力产品DRAM技术标准化工作，也是宋TL的重要贡献之一。从DDR2到DDR6，他深度参与了JEDEC标准化进程的推进，并主导了多项功能定义与验证工作。

“标准化工作与新技术开发一样，是一个困难而复杂的过程。它不仅需要在产品性能与稳定性之间寻求平衡，还需要与全球各产业链协调各方的技术路线。正是由于这样的努力，公平竞争与产业协作才得以实现。我认为，标准化工作是确保我们创新成果获得应有认可的必要环节。”
“专利是我们辛勤付出的有力证明，更是保护已掌握核心技术的最可靠途径。随着半导体行业竞争日益激烈，专利的重要性愈发凸显。我认为，获得专利不仅关乎SK海力士的企业利益，更有利于维护韩国的技术主权。此次荣获铜塔产业勋章，是对我们长期努力的高度认可，我感到非常高兴。”

此外，宋TL极致力于在公司内外进行技术传播。凭借丰富的开发经验，他不仅在公司内部提供指导，还面向特许厅审查员开展讲座，积极分享技术保护和战略性专利方面的知识与经验。

最后，他将此次获奖称为“责任的新起点”，并表达了自己对未来的愿景。

“获得铜塔产业勋章对我来说是莫大的荣誉，同时也让我再次深刻感受到技术所肩负的重要使命。未来，我将继续全力以赴，专注技术研发，并努力将其传承给下一代。”