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优化单晶金刚石内部缺陷:高温退火技术

DT半导体 来源: DT半导体 2025-02-08 10:51 次阅读
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单晶金刚石被誉为“材料之王”,凭借超高的硬度、导热性和化学稳定性,在半导体5G通信、量子科技等领域大放异彩。

硬度之王:拥有超高的硬度,是磨料磨具的理想选择。

抗辐射性强:在半导体和量子信息领域应用广泛。

导热率高:在电子器件中表现出色。

化学稳定性好:在恶劣环境下也能保持稳定。

然而,工业制备的单晶金刚石并非完美无瑕,常常存在以下问题:

缺陷多:如氮杂质等,导致金刚石透明度低、色泽差。

光学性质差:颜色偏黄或棕色,影响其美观和应用。

内应力大:容易产生裂纹,影响其机械性能。

高温退火作为关键处理手段,可有效改善其性能,依条件分为高温低压和高温高压法,本文聚焦其研究进展。

高温高压法处理金刚石

原理:模拟天然金刚石形成的高温高压环境(如1500℃、4.0 GPa以上),促使内部缺陷重组。 效果: 氮杂质与空位结合,形成稳定色心,改善颜色(如棕色变无色)。

提高硬度与透明度,红外吸收峰锐化。

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金刚石的光致发光光谱

案例:元素六公司专利显示,处理后金刚石的光学性能显著提升。

高温低压法处理金刚石

原理:在氢气或惰性气体保护下(约2200℃、低压),释放内应力,减少缺陷。

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CVD单晶金刚石高温低压退火的实物图

效果: 应力降低高达1.03 GPa(Zhu X等研究)。

颜色由黄棕变浅,紫外吸收系数下降。

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CVD 单晶金刚石的紫外可见吸收光谱

黑科技:结合电子辐照,可在1600℃下诱导粉红色色心,用于量子传感领域!

高温退火技术的应用与发展

技术优势与操作要点:有效提升金刚石光学与质量、降低应力、改善缺陷,高温高压退火注意均压防损,高温低压退火可在氢气或惰性气体氛围防碳化。

工业应用意义与前景:解决工业金刚石氮杂质致的质量问题,提高制备效率和良品率,对 CVD 和 HTHP 法制备的金刚石改善效果显著,有望拓展其应用范围。

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原文标题:高温退火:改善单晶金刚石内部缺陷

文章出处:【微信号:DT-Semiconductor,微信公众号:DT半导体】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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