DNP突破超2nm EUV光刻光掩模技术
Dai Nippon Printing Co., Ltd.(DNP)近期在半导体制造技术领域取得了重大突破，成功实现了适用于超2nm(纳米，即10^-9米)一代的逻辑半导体光掩模所需的精细图案分辨率。这一成就为极紫外光(EUV)光刻技术提供了有力支持，该技术是半导体制造领域的尖端工艺之一。
DNP的这次技术突破不仅满足了当前半导体行业对高精度、高分辨率光掩模的迫切需求，更为未来超2nm的下一代半导体制造铺平了道路。据悉，DNP已经完成了与高数值孔径(NA)2光掩模相关的标准评估工作。高数值孔径技术是下一代半导体制造中备受瞩目的技术之一，有望为半导体制造带来更高的分辨率和更精细的图案。
随着技术的不断进步，高性能、低功耗的半导体已经成为行业发展的必然趋势。而DNP此次实现的高分辨率光掩模技术，正是实现这一目标的关键所在。通过该技术，半导体制造商可以在硅晶圆上以更高的精度形成精细图案，从而提升半导体的性能和功耗表现。
值得一提的是，DNP已经开始提供评估光掩模，以便与业界伙伴共同验证和推进这一新技术的应用。这一举措不仅彰显了DNP在半导体制造技术领域的领先地位，更为整个半导体产业的未来发展注入了新的活力。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
硅晶圆
+关注
关注
4文章
276浏览量
22192 -
DNP
+关注
关注
1文章
10浏览量
9455 -
半导体制造
+关注
关注
8文章
523浏览量
26297 -
EUV
+关注
关注
8文章
615浏览量
88949
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准！
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例，这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代，不仅需要EUV光刻机
俄罗斯亮剑：公布EUV光刻机路线图，挑战ASML霸主地位？
电子发烧友网报道（文/吴子鹏） 在全球半导体产业格局中，光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”，而极紫外（EUV）光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来，荷兰 ASML 公
AI需求飙升！ASML新光刻机直击2nm芯片制造，尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装（FOPLP）技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐？比较传统的光刻机设备，尼康DSP-100的技术原理有何不同？能解决AI芯片生产当中
光刻技术中的掩模形貌效应详解
图9-5展示了使用Kirchhof方法与严格的电磁场(EMF)仿真进行掩模建模所得结果之间的区别。Kirchhoff方法假设掩模无限薄,透过掩模的光直接从
泽攸科技 | EBL和EUV光刻机有何区别？如何影响半导体行业？
从技术路径上看，电子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一类问题的解法。电子束光刻本质上是一种直接写入技
【「AI芯片：科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术
%。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。
2、晶背供电技术
3、EUV光刻机与其他竞争技术
光刻
发表于 09-15 14:50
今日看点丨三星美国厂2nm产线运作；《人工智能生成合成内容标识办法》正式生效
三星美国厂2nm 产线运作 美国2nm晶圆代工厂近期再添生力军，在特斯拉高阶主管亲自赴厂区督军下，原本暂缓的三星美国德州新厂2nm产线近期传出继续运作，业界已传出力拼明年2026年内量产目标。台积电
发表于 09-02 11:26
•1908次阅读
EUV光刻胶材料取得重要进展
电子发烧友网综合报道 随着集成电路工艺的不断突破， 当制程节点持续向7nm及以下迈进，传统的光刻技术已难以满足高精度、高密度的制造需求，此时，波长13.5
龙图光罩90nm掩模版量产，已启动28nm制程掩模版的规划
研发到量产的跨越，65nm产品已开始送样验证。 掩模版也称光罩，是集成电路制造过程中的图形转移工具或者母板，载着图形信息和工艺技术信息，广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等
中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈
极紫外光刻（EUVL）技术作为实现先进工艺制程的关键路径，在半导体制造领域占据着举足轻重的地位。当前，LPP-EUV 光源是极紫外光刻机所采用的主流光源，其工作原理是利用波长为 10.
台积电2nm良率超 90%！苹果等巨头抢单
当行业还在热议3nm工艺量产进展时，台积电已经悄悄把2nm技术推到了关键门槛！据《经济日报》报道，台积电2nm芯片良品率已突破 90%，实现
跨越摩尔定律，新思科技掩膜方案凭何改写3nm以下芯片游戏规则
电子发烧友网报道（文/黄山明）在半导体行业迈向3nm及以下节点的今天，光刻工艺的精度与效率已成为决定芯片性能与成本的核心要素。光刻掩模作为光刻
光刻图形转化软件免费试用
光刻图形转化软件可以将gds格式或者gerber格式等半导体通用格式的图纸转换成如bmp或者tiff格式进行掩模版加工制造，在掩膜加工领域或者无掩膜光刻领域不可或缺，在业内也被称为矢量图形光栅化软件
发表于 05-02 12:42
评论