0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML创下新的EUV芯片制造密度记录,提出Hyper-NA的激进方案

冬至配饺子 来源:网络整理 作者:网络整理 2024-05-30 11:25 次阅读

ASML在imec的ITF World 2024大会上宣布,其首台High-NA(高数值孔径)设备已经打破了之前创下的记录,再次刷新了芯片制造密度的标准。

经过进一步调整,ASML已经使用其High-NA EUV机器打印出8nm密集线条,这是专为生产环境设计的机器的密度记录。这一记录超过了该公司在2024年4月初创下的10nm密集线条的记录。

ASML前总裁兼首席技术官Martin van den Brink,目前担任该公司顾问,提出了Hyper-NA(超数值孔径)芯片制造工具的激进方案。

该方案旨在通过进一步扩展High-NA产品线,来打印更小的特征尺寸,从而满足日益增长的芯片性能需求。

Hyper-NA系统将使用相同波长的光,但将NA(数值孔径)扩大到0.75 ,以实现打印更小的特征尺寸。尽管具体的临界尺寸尚未确定,但ASML给出的晶体管时间表显示,它正在从16nm金属间距向10nm扩展。

Martin van den Brink还概述了一项计划,通过大幅提高未来ASML工具的速度到每小时 400到500个晶圆(wph) ,这是目前200 wph峰值的两倍多,从而降低EUV芯片的制造成本。

他还为ASML未来的EUV工具系列提出了一种模块化统一设计,这可能有助于提高生产效率和灵活性。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片制造
    +关注

    关注

    10

    文章

    616

    浏览量

    28799
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    604

    浏览量

    85990
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    718

    浏览量

    41210
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?

    电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)
    的头像 发表于 10-17 00:13 2701次阅读

    今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机

    科技巨头在先进半导体制造领域取得重大进步。这项由荷兰ASML独家提供的尖端技术对于2nm以下的工艺至关重要。韩国行业观察人士预计,三星将加快其1nm芯片商业化的开发工作。   每台High N
    发表于 10-31 10:56 794次阅读

    半导体产业竞速:Hyper-NA EUV光刻机挑战与机遇并存

    在科技日新月异的今天,半导体产业作为信息技术的基石,正以前所未有的速度向前跃进。随着人工智能、汽车电子等新兴产业的蓬勃发展,对芯片制造技术的要求也日益严苛,推动全球晶圆代工厂商纷纷踏上先进制程的赛道
    的头像 发表于 07-03 14:46 2390次阅读

    ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小

    ASML再度宣布新光刻机计划。据报道,ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光机(EUV),将缩小最高电晶体密度
    的头像 发表于 06-18 09:57 474次阅读

    Hyper-NA光刻系统,价格会再次翻倍吗?

    电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着去年年底首台高NA EUV光刻系统正式交货给英特尔,ASML这条新的产品线似乎即将开启新一轮的先进晶圆制造设备统治。可正如别的先进技术一样,
    的头像 发表于 06-18 00:30 2283次阅读
    <b class='flag-5'>Hyper-NA</b>光刻系统,价格会再次翻倍吗?

    今日看点丨ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

    1. ASML 今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV   根据报道,芯片制造设备商AS
    发表于 06-06 11:09 877次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
    的头像 发表于 05-27 14:37 614次阅读

    ASML考虑推出通用EUV光刻平台

    范登布林克指出,更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进一步解释说,Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程,避免因使用 High NA 光刻机进行双重图案化导致的额外步骤及风险。
    的头像 发表于 05-23 09:51 426次阅读

    台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

    据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1
    的头像 发表于 05-15 14:42 615次阅读

    ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
    的头像 发表于 04-29 10:44 787次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 887次阅读

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    在半导体领域,技术创新是推动整个行业向前发展的重要动力。近日,荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布,成功打造了首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV
    的头像 发表于 04-18 11:50 888次阅读
    阿斯麦(<b class='flag-5'>ASML</b>)公司首台高数值孔径<b class='flag-5'>EUV</b>光刻机实现突破性成果

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台
    的头像 发表于 03-14 08:42 531次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    ASML为什么能在EUV领域获胜?

    在讨论ASML以及为何复制其技术如此具有挑战性时,分析通常集中在EUV机器的极端复杂性上,这归因于竞争对手复制它的难度。
    发表于 01-17 10:46 387次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b>为什么能在<b class='flag-5'>EUV</b>领域获胜?

    ASML达成历史性协议,三星将在2nm芯片制造取得优势

    现时,ASML是全球唯一的EUV光刻机制造商,这台设备主要应用于生产7nm及以下制程芯片。目前,ASML年产此类设备数量有限,供不应求。李在
    的头像 发表于 12-18 14:31 541次阅读