气体质量流量控制器在半导体行业中的应用优势

半导体生产过程中的某些工艺涉及气体与半导体基片的反应，比如沉积工艺和刻蚀工艺，气体的流量将对工艺结果产生重要影响。为了使生产的半导体获得较高的良品率，必须对流入反应腔室的气体流量进行精确控制，尤其是随着半导体工艺集成度的不断提高，对气体流量的误差要求也进一步提高。

质量流量控制器MFC，是一种用于对气体流量进行精确测量和控制的器件，其不但具有质量流量计的功能，更重要的是能自动控制气体流量，即用户可根据需要进行流量设定，MFC自动地将流量恒定在设定值上，即使系统压力有波动或环境温度有变化，也不会使其偏离设定值。简单地说，质量流量控制器就是一个稳流装置，是一个可以手动设定或与计算机联接自动控制的气体稳流装置。这种仪表在不同的使用条件下，指示的流量均是标准状态下的流量。半导体设备基本上都会配备MFC来控制工艺气体流量，以满足工艺的要求。

我国工业发展起步还是比较晚的，现代化程度也相对比较低，所以MFC未来在我国还是有比较大的发展空间的。AS200系列产品是奥松电子采用先进的MEMS技术研发，在传感器的驱动，零点漂移的控制和阀控等诸多方面都采用了独特的技术，保证了产品的高性能、高品质和高可靠性，是目前市场上一款稳定性好、精度高、泄漏率低、耐压高的优质仪器。

AS200系列气体质量流量控制器在半导体集成电路工艺、特种材料、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的应用。其典型的应用场景包括:集成电路工艺设备, 如外延炉、扩散炉、CVD、等离子刻蚀机、溅射台、离子注入机; 以及镀膜设备、光纤熔炼设备、微反应装置、混气配气系统、气体取样装置、毛细管测量仪、气相色谱仪及其它分析仪器。

审核编辑 黄宇