0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

需求转向先进工艺,汽车半导体10nm以下竞争加剧

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-08-15 09:55 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

businesskorea表示,随着电动汽车和自动驾驶汽车迅速转换为模式,对先进高性能半导体产品的需求剧增,正在脱离现有的工程。

业界有关负责人表示,在汽车半导体市场上,10纳米以下工程的竞争正在激化。现有的汽车半导体主要是用30纳米以上的现有工程生产,虽然不适合移动机器和电脑,但是正在转移到装有中央处理器cpu)的高性能芯片上。这种变化是由于汽车驾驶和汽车娱乐等以电子机器为基础的车辆技术的发达,导致高性能半导体的需求增加。

特别是,三星电子最近决定向现代汽车供应“xenos auto v920”高级娱乐芯片。该芯片将在2025年之前用5纳米工艺制造。该芯片向司机提供实时车辆状态和驾驶信息、高画质多媒体广播、high end游戏执行功能,其特点是可以快速、有效地控制6个高清晰度显示器和12个相机传感器

台积电最近发表说:“计划在德国建设引进12纳米和16纳米工程的欧洲第一个工厂。”由于tsmc的德国工厂生产汽车用半导体,因此预计欧洲汽车企业能够稳定地调配10纳米范围的半导体。

市场调查企业omdia表示,世界汽车半导体市场规模到2022年将超过635亿美元,到2026年将增长到962亿美元。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    463

    文章

    54655

    浏览量

    471055
  • 自动驾驶
    +关注

    关注

    795

    文章

    15059

    浏览量

    182006
  • 汽车半导体
    +关注

    关注

    0

    文章

    84

    浏览量

    8256
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    大突破!三星产出10nm以下DRAM

    电子发烧友网报道(文/李弯弯)近日消息,三星电子已经成功产出全球首个10纳米以下制程的DRAM工程裸晶(Working Die)。这一里程碑式的成果,标志着DRAM制造工艺首次正式迈入个位数纳米时代
    的头像 发表于 04-28 09:10 2283次阅读
    大突破!三星产出<b class='flag-5'>10nm</b><b class='flag-5'>以下</b>DRAM

    揭秘半导体后道封装辅助小设备:UV解胶机的三大硬指标与未来趋势

    半导体先进封装的微观世界里,一颗芯片的诞生往往伴随着无数次“粘合”与“分离”。当晶圆被切割成数千颗独立的芯片后,如何在不损伤这些脆弱电路的前提下,将它们从固定薄膜上完整取下,成为了决定良率的“生死
    发表于 05-14 10:19

    告别单芯片博弈,半导体产业竞争逻辑变了

    的未来。但随着人工智能重塑半导体行业格局,这套逻辑已无法诠释当下的价值创造逻辑。战略优势正转向更宽泛、更复杂的技术堆栈:AI加速器、高性能中央处理器、先进封装、内存
    的头像 发表于 04-27 15:02 388次阅读
    告别单芯片博弈,<b class='flag-5'>半导体</b>产业<b class='flag-5'>竞争</b>逻辑变了

    芯片制造中硅片的表面抛光加工工艺介绍

    硅片表面抛光作为半导体制造中实现超光滑、无损伤表面的核心工艺,其核心目标在于通过系统性化学机械抛光(CMP)去除前道工序残留的微缺陷、应力损伤层及金属离子污染,最终获得满足先进IC器件要求的局部平整度≤
    的头像 发表于 03-30 10:28 2066次阅读
    芯片制造中硅片的表面抛光加工<b class='flag-5'>工艺</b>介绍

    芯矽科技:半导体湿法工艺设备引领者

    半导体制造领域,湿法工艺设备是保障芯片良率与性能的关键环节。芯矽科技凭借深厚的技术积累与持续创新,推出一系列先进半导体湿法工艺设备,为行
    的头像 发表于 01-19 13:49 417次阅读

    3D-Micromac CEO展望2026半导体:AI 为核,激光微加工赋能先进封装

    2025 年半导体市场在 AI 需求爆发与全产业链复苏的双重推动下,呈现出强劲的增长态势。以 EDA/IP 先进方法学、先进工艺、算力芯片、
    发表于 12-24 10:00 5168次阅读
    3D-Micromac CEO展望2026<b class='flag-5'>半导体</b>:AI 为核,激光微加工赋能<b class='flag-5'>先进</b>封装

    武汉芯源小容量存储芯片EEPROM产品的特点

    和读取,适用于需要长期保存关键数据的设备。 多种存储容量:武汉芯源半导体的EEPROM产品提供多种存储容量选择,从2KB到512KB不等,以满足不同应用的需求先进工艺:采用华虹9
    发表于 11-21 07:10

    半导体先进封装“Bumping(凸点)”工艺技术的详解;

    如有雷同或是不当之处,还请大家海涵。当前在各网络平台上均以此昵称为ID跟大家一起交流学习! 从事半导体行业的朋友都知道:随着半导体工艺逼近物理极限,传统制程微缩已经无法满足高带宽、低延迟的需求
    的头像 发表于 11-10 13:41 6360次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>先进</b>封装“Bumping(凸点)”<b class='flag-5'>工艺</b>技术的详解;

    机器视觉在半导体行业的重要性(以51camera晶圆隐裂检测系统为例)

    随着半导体行业的快速发展和需求的不断增加,半导体行业的检测需求也在增加。半导体制造业是一个要求高精度、高功率、零误差的行业。
    的头像 发表于 10-30 16:56 870次阅读
    机器视觉在<b class='flag-5'>半导体</b>行业的重要性(以51camera晶圆隐裂检测系统为例)

    目前最先进半导体工艺水平介绍

    当前全球半导体工艺水平已进入纳米级突破阶段,各大厂商在制程节点、材料创新、封装技术和能效优化等方面展开激烈竞争以下是目前最先进
    的头像 发表于 10-15 13:58 2696次阅读

    BW-4022A半导体分立器件综合测试平台---精准洞察,卓越测量

    和智能化管理的迫切需求,因此我们的半导体测试设备配备了先进的自动化控制系统和智能数据分析软件。操作人员只需轻松设置测试参数,设备便能自动完成复杂的测试流程,大大减少了人为操作误差和劳动强度。测试完成后,系统
    发表于 10-10 10:35

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    %。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。 2、晶背供电技术 3、EUV光刻机与其他竞争技术 光刻技术是制造3nm、5nm工艺节点的高端
    发表于 09-15 14:50

    国内最大!长飞先进武汉基地投产,明治传感助力半导体智造升级

    近日,总投资超200亿元的长飞先进半导体基地项目正式运营投产。该项目是目前国内规模最大的碳化硅半导体基地,年产36万片6英寸碳化硅晶圆,可满足144万辆新能源汽车制造
    的头像 发表于 07-22 07:33 1520次阅读
    国内最大!长飞<b class='flag-5'>先进</b>武汉基地投产,明治传感助力<b class='flag-5'>半导体</b>智造升级

    半导体国产替代材料 | CMP化学机械抛光(Chemical Mechanical Planarization)

    ”的协同作用,去除晶圆表面多余材料,确保后续光刻、沉积等制程的精度。在7nm以下先进制程中,单颗芯片需经历10-15次CMP步骤,而抛光材料的性能直接决定了晶圆的平整
    的头像 发表于 07-05 06:22 1w次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b>国产替代材料 |  CMP化学机械抛光(Chemical Mechanical Planarization)

    苏州芯矽科技:半导体清洗机的坚实力量

    。在全球半导体竞争加剧的浪潮中,芯矽科技使命在肩。一方面持续加大研发投入,探索新技术、新工艺,提升设备性能,向国际先进水平看齐;另一方面,积
    发表于 06-05 15:31