6.1.4 半绝缘区域的离子注入∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》-电子发烧友网

6.1.4 半绝缘区域的离子注入

6.1 离子注入

第６章碳化硅器件工艺

《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

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