CiMEMS工艺研发线建设实现了阶段性成效

近日，北京理工大学重庆微电子研究院（CiMEMS）微纳制造工艺中心（下称“CiMEMS工艺中心”）首批4台MEMS工艺设备顺利搬入刚刚装修完成的超净间。首批设备的搬入，标志着CiMEMS工艺研发线建设实现了阶段性成效，进入到主体设备安装、调试的新阶段。

CiMEMS工艺中心拥有超净厂房总面积约1100平方米，其中包括千级洁净区约650平方米，百级洁净区125平方米。微纳工艺对实验环境要求极高，除了要求空气超级洁净外，还必须严格控制室内温度、湿度、压力、气流速度和气流分布等，并将噪声、振动及静电等控制在极小的范围。

CiMEMS工艺中心自2022年5月起开始动工建设，目前已完成超净厂房内部环境装修，MEMS工艺设备已开始陆续搬入并进行二次配管，预计明年3月正式实现工艺通线。

CiMEMS工艺中心一期设备采购约60台/套，采购金额超过6000万元。建成后，CiMEMS工艺中心将成为国内乃至国际一流的MEMS微纳工艺研发线，主要用于开发各种先进MEMS器件，比如MEMS微镜芯片、高端惯性MEMS传感器芯片，以及特种MEMS工艺和半导体材料。所开发的光学及惯性MEMS芯片主要用于智能感知、投影、光学成像、激光雷达、光通信及光谱分析等领域。

北京理工大学重庆微电子研究院（CiMEMS）聚焦集成电路和MEMS微纳传感器，已形成了“1个工艺中心 + 4个核心研究方向”的研究体系，旨在建设先进微纳制造平台，引领智能感知前沿，将依托西永微电子产业基础，驱动科技创新，助力重庆建设成为具有全国影响力的科技创新中心。

审核编辑 ：李倩