光刻机是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断,那么全球最先进的光刻机是多少nm的?中国现在又能够做出几nm的芯片呢?
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了,它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机(EUV),是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的,它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了,这是中芯国际取得的一个重大成绩。
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