0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

Intel主力10nm产能将超过14nm工艺

lhl545545 来源:快科技 作者:宪瑞 2020-12-21 09:07 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

最快明年1月份,Intel就要发布代号Rocket Lake-S的11代酷睿桌面版了,这次真的是最后一代14nm工艺了,明年Intel主力就会转向10nm,产能也会历史性超过14nm工艺,成为第一大主力。

如果从2014年的Broadwell算起,Intel的14nm工艺问世已经6年了,这几乎是Intel工艺中最长寿的一代了,这么多年来都是偏爱有加,这不是没有原因的。

根据Intel技术开发高级副总、总经理Ann B. Kelleher的说法,14nm工艺具备最好的性能和产能,比她在Intel公司工作了24年见过的所有工艺都要好。

目前14nm产能依然满载,Intel四座晶圆厂——分别位于爱尔兰、以色列、亚利桑那及俄勒冈州的工厂都已经满载生产。

接下来是10nm工艺,她表示2021年10nm工艺产能将超过14nm,Intel还在不断提升10nm产能,不过Ice Lake用的10nm工艺寿命周期只有14nm的四分之一左右。

Intel现在的重点转向了10nm SF工艺,也就是现在的二代10nm工艺,SuperFin晶体管对工艺性能提升很大。

至于未来的7nm及5nm工艺,Intel明年初会公布7nm进度,目前还在俄勒冈州、爱尔兰的晶圆厂准备厂房空间,以便为7/5nm工艺的量产做准备。

当然,现在是没有、也不会公布具体的进度表的,一切要等明年的信息再说。
责任编辑:pj

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • intel
    +关注

    关注

    19

    文章

    3511

    浏览量

    191647
  • 晶体管
    +关注

    关注

    78

    文章

    10441

    浏览量

    148614
  • 酷睿
    +关注

    关注

    2

    文章

    445

    浏览量

    37242
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    芯片制造中的硅片表面细抛光与最终抛光加工工艺介绍

    硅片表面细抛光作为实现超精密加工的关键工序,其核心在于通过精准调控抛光布材质、抛光液成分及工艺参数,在5-8μm的加工量范围内实现局部平整度≤10nm、表面粗糙度≤0.2nm的极致控制,同时进一步降低金属离子污染。
    的头像 发表于 04-01 16:17 215次阅读
    芯片制造中的硅片表面细抛光与最终抛光加工<b class='flag-5'>工艺</b>介绍

    芯片制造中硅片的表面抛光加工工艺介绍

    硅片表面抛光作为半导体制造中实现超光滑、无损伤表面的核心工艺,其核心目标在于通过系统性化学机械抛光(CMP)去除前道工序残留的微缺陷、应力损伤层及金属离子污染,最终获得满足先进IC器件要求的局部平整度≤10nm、表面粗糙度≤0.2nm
    的头像 发表于 03-30 10:28 1868次阅读
    芯片制造中硅片的表面抛光加工<b class='flag-5'>工艺</b>介绍

    【微纳谈芯】芯片测试越来越难的背后

    芯片测试的本质是“在原子级精度下,验证每一个晶体管的可靠性”。早年28nm及以上成熟制程,测试核心是“筛选坏片”,流程相对简单;但随着制程进入14nm及以下,尤其是3nm、2nm节点,
    的头像 发表于 03-20 10:05 303次阅读
    【微纳谈芯】芯片测试越来越难的背后

    旋极星源基于22nm工艺完成关键IP发布与验证

    随着物联网、移动通信、人工智能及汽车电子等应用的快速发展,市场对芯片在算力、能效、集成度与成本等方面提出了更为严格的要求。22nm工艺节点凭借其在性能、功耗及成本之间的卓越平衡,已成为众多中高端芯片
    的头像 发表于 01-30 16:15 431次阅读
    旋极星源基于22<b class='flag-5'>nm</b><b class='flag-5'>工艺</b>完成关键IP发布与验证

    脉锐光电980nm波段ASE宽带光源产品介绍

    脉锐光电的980nm ASE宽带光源基于稀土掺杂光纤的自发辐射放大机制,在980nm中心波长处实现光谱宽度约10nm、输出功率达10mW的稳定输出。该光源兼具较高功率、优异的光谱平滑度
    的头像 发表于 01-20 14:27 488次阅读
    脉锐光电980<b class='flag-5'>nm</b>波段ASE宽带光源产品介绍

    1.4nm制程工艺!台积电公布量产时间表

    供应一度面临紧张局面。为应对市场激增的订单,台积电已启动新建三座工厂的扩产计划,旨在进一步提升产能,保障客户供应链的稳定交付。   与此同时,台积电在更尖端的1.4nm工艺研发上同样进展迅猛。公司正全力加速推进1.4
    的头像 发表于 01-06 08:45 7288次阅读

    0.2nm工艺节点的背后需要“背面供电”支撑

    实现0.2nm工艺节点。   而随着芯片工艺节点的推进,芯片供电面临越来越多问题,所以近年英特尔、台积电、三星等厂商相继推出背面供电技术,旨在解决工艺节点不断推进下,芯片面临的供电困境
    的头像 发表于 01-03 05:58 1.3w次阅读

    国产芯片真的 “稳” 了?这家企业的 14nm 制程,已经悄悄渗透到这些行业…

    的控制芯片,甚至工业设备的传感器,都能看到它的身影。 之前总担心国产芯片 “产能跟不上、良率不够高”,但查了下中芯国际的最新动态:2025 年 Q3 的 14nm 产能已经提升了 20%,良率稳定
    发表于 11-25 21:03

    AI智能眼镜安卓主板定制_AI眼镜/智能穿戴设备PCBA整机方案

    现代AI智能眼镜的技术发展,得益于先进芯片工艺的推动。以联发科12nm制程工艺为例,相较于传统的14nm制程,其在功耗控制上表现卓越,最高可节省15%的电量。这一改进对于AI智能眼镜这
    的头像 发表于 09-18 20:03 1026次阅读
    AI智能眼镜安卓主板定制_AI眼镜/智能穿戴设备PCBA整机方案

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+工艺创新将继续维持着摩尔神话

    还放置一层不到10nm的绝缘膜,以防止缺陷的出现。比利时微电子研究中心曾预计叉形片将在2028年得到采用,当然也可能会直接跳跃到CFET技术。 CFET是先在叉形片上将NFET和PFET的两个晶体管按
    发表于 09-06 10:37

    10CX150YF672E5G现场可编程门阵列(FPGA)芯片

    10CX150YF672E5G 是Intel(原 Altera)推出的 Cyclone® 10 GX 系列高性能、低功耗 FPGA 芯片,选用 20nm
    发表于 08-21 09:15

    银月光655nm VCSEL+460nm LED二合一光源,赋能生发设备新升级

    深圳市银月光科技推出655nm VCSEL+460nm LED二合一光源,融合高效光束与杀菌抑炎功能,助力高端生发设备,提升产品竞争力。
    的头像 发表于 08-05 18:12 1118次阅读

    芯动科技独家推出28nm/22nm LPDDR5/4 IP

    面对近来全球大厂陆续停产LPDDR4/4X以及DDR4内存颗粒所带来的巨大供应短缺,芯动科技凭借行业首屈一指的内存接口开发能力,服务客户痛点,率先在全球多个主流28nm和22nm工艺节点上,系统布局
    的头像 发表于 07-08 14:41 1595次阅读

    三星代工大变革:2nm全力冲刺,1.4nm量产延迟至2029年

    在全球半导体代工领域的激烈竞争中,三星电子的战略动向一直备受瞩目。近期,有消息传出,三星代工业务在制程技术推进方面做出重大调整,原本计划于2027年量产的1.4nm制程工艺,将推迟至2029年。而在
    的头像 发表于 07-03 15:56 1011次阅读

    台积电2nm良率超 90%!苹果等巨头抢单

    当行业还在热议3nm工艺量产进展时,台积电已经悄悄把2nm技术推到了关键门槛!据《经济日报》报道,台积电2nm芯片良品率已突破 90%,实现重大技术飞跃!
    的头像 发表于 06-04 15:20 1620次阅读