工艺制程走入10nm以下后,台积电的优势开始显现出来。在7nm节点,台积电优先确保产能,以DUV(深紫外光刻)打头阵,结果进度领先三星的7nm EUV,吃掉大量订单,奠定了巨大优势。
前不久,台积电宣布,截止7月,台积电已经生产了超10亿颗功能完好、没有缺陷的7nm芯片,完成新里程碑。
据业内最新消息,台积电的7nm工艺愈发醇熟,已经提前完成每月生产13万片晶圆的目标,年底前将把产能拉至14万片/月。
按照台积电之前的说法,7nm于2018年4月正式投入量产,目前已经服务了全球超过数十家客户,打造了超100款芯片产品。他们认为,当你做得足够多,才能发现和解决更多的问题,从而对产能、良率形成正向引导,结果就是更加一往无前。
如今,台积电安装了全球超过一半的EUV光刻机,新的7nm工艺以及正在量产的5nm等,前途光明。
责编AJX
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
447文章
47772浏览量
409076 -
台积电
+关注
关注
43文章
5274浏览量
164795 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1121浏览量
46372
发布评论请先 登录
相关推荐
英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式
发表于 03-21 11:31
•669次阅读
2024年全球与中国7nm智能座舱芯片行业总体规模、主要企业国内外市场占有率及排名
类型及应用
2.9 7nm智能座舱芯片行业集中度、竞争程度分析
2.9.1 7nm智能座舱芯片行业集中度分析:2023年全球Top 5生产商市场份额
2.9.2 全球
发表于 03-16 14:52
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台
三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台
EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的
能耗成了EUV***的最大掣肘
制造的各道工序,不少晶圆厂在新建之际时,都要对该地区的电力输送进行大改。 极度耗电的EUV 光刻机 由于制造EUV光源的能源转换效率并不算高,所以哪怕7nm节点下,
日本的EUV***引进之路
电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着欧美韩等国家均已引进EUV光刻机,为其晶圆代工厂提供最先进的工艺支持,日本虽然半导体制造水平这些年来提升不大,却也计划引进EUV
EUV光刻DDR5内存狂飙 单条1TB不是梦
随着制程工艺的进步,DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题,解决办法就是上EUV光刻机,但是设备实在太贵,现在还要榨干DUV工艺最后一滴,DDR5内存有望实现单条1TB。
什么是EUV***?
需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比,EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的
发表于 05-22 12:48
•4061次阅读
评论