中国的光刻机与荷兰光刻机技术相比，主要区别是什么

（文章来源：Science锋芒）
芯片是半导体里的一个集大成者，而现在芯片的利用率非常的高，所以要想有一些技术领域的突破，就势必要在芯片领域有所发展。

芯片制造上最受大家关注的就是光刻机的研制，目前为止我们的光刻机制造领域也算是一个比较缺乏的机器，我们的光刻机技术比较落后，为了能够有一些更好的发展，就只能从其他国家进口管科技来满足生产。虽然说对比于那些没有芯片研制技术的国家来说我们已经很不错了，但是对比技术强国荷兰来说，制造技术上的差距还是比较大的，那主要区别在哪呢？

荷兰的芯片公司制造大部是来源于他们的ASML，而关于芯片的制造技术上他们有超强实力EUA光刻机的支持，这一台光刻机的技术研制领域是非常超前的，再加上荷兰这一公司本来就有这很多方面的支持，所以在光科机的研制上也有着巨大的提升，他们公司能够制造的芯片能够打到5纳米，而这样的技术在全球范围内来说，都是最为领先的。

而且荷兰有关与芯片技术的发展其实已经进行了很多年，就在这些时间上的对比，也是我们无法赶上的，也可以说是最主要的区别之一。这一公司和我们的公司是不一样的，这一家公司不仅有很多公司的技术支持，这些投资的公司甚至还包揽了他们的订单，就算没有其他国家购买也可以完全不用担心销量，因此不论是在研究年份，还是在现在的研究能力上，他们都是有着非常强劲实力的。

说回来再看一看我们国家，我们国家在芯片制造领域的起步比较晚，就整体的研制上看来我们是落后了西方国家20年的，而我国最有实力的芯片制造集团，应该是台积电和中芯，中芯集团作为一家民营企业，今年从荷兰的公司进购了DUA光刻机。单单只从光客商的型号上来看我们就在这一方面上落后比较多了，中芯集团目前只接单我国华为的14纳米芯片订单，关于7纳米的芯片上虽然有突破，但是要实现量产还需要一半时间！

与此同时，荷兰的芯片的制造已经可以达到了5尼米，这就是差距，不过也请大家相信我们，我们的发展会很快的。
（责任编辑：fqj）