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电子发烧友网>制造/封装>半导体技术>工艺/制造>联华电子与SuVolta宣布联合开发28纳米低功耗工艺技术

联华电子与SuVolta宣布联合开发28纳米低功耗工艺技术

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低功耗,简称“LPE”)工艺。人工智能(AI)增强型云就绪Fusion Design Platform提供前所未有的全流程设计实现质量和设计收敛速度,实现三星5LPE工艺技术提供的超高性能和低功耗,加速新一波半导体设计的开发,包括高性能计算(HPC)、汽车、5G和人工智能细分市场。
2019-06-12 13:48:353552

东芝推出第二代工艺技术 采用新型嵌入式NAND闪存模块

东京日前宣布推出新型嵌入式NAND闪存模块(e·MMC),该模块整合了采用19纳米第二代工艺技术制造的NAND芯片。
2019-06-12 17:13:58660

瑞萨与台积电将合作开发28nm纳米嵌入式闪存制程技术

瑞萨电子与台积电共同宣布,双方合作开发28纳米嵌入式闪存(eFlash)制程技术,以生产支持新一代环保汽车与自动驾驶汽车的微控制器(MCU)。
2019-11-29 11:13:162164

联华电子宣布22纳米制程技术就绪 拥有更好的功率效能比以及强化射频性能

联华电子2日表示,在使用USB 2.0测试载具并成功通过硅验证之后,正式宣布更先进的22纳米制程技术就绪。
2019-12-03 15:40:342106

法拉第宣布与飞利浦达成一项联合开发协议

12月16日消息,据国外媒体报道,周二,由贾跃亭创办的美国电动汽车初创企业法拉第未来(Faraday Future,简称FF)宣布与飞利浦知识产权与标准公司达成一项联合开发协议。
2020-12-16 10:15:581536

报道称联华电子正提高 12 英寸晶圆代工厂产能,主要满足 28nm 工艺产能需求

,以提高产能。 而从英文媒体最新的报道来看,联华电子也在提高 12 英寸晶圆代工厂的产能,以满足相关制程工艺的需求。 英文媒体是援引产业链人士透露的消息,报道联华电子正提高 12 英寸晶圆代工厂的产能的,主要是满足 28nm 工艺的产能需求。
2021-01-18 17:11:282288

三星宣布其基于栅极环绕型晶体管架构的3nm工艺技术已经正式流片

目前从全球范围来说,也就只有台积电和三星这两家能做到5纳米工艺以下了。6月29日晚间,据外媒报道,三星宣布其基于栅极环绕型 (Gate-all-around,GAA) 晶体管架构的3nm工艺技术已经
2021-07-02 11:21:542254

西门子与联华电子合作开发面向汽车和电源应用的设计套件

西门子数字化工业软件与联华电子 (UMC) 近日达成合作,共同开发适用于联华电子 110 纳米和 180 纳米 BCD 技术平台的工艺设计套件 (PDK)。
2022-02-17 10:43:201132

西门子与联华电子合作开发适用于BCD技术平台的工艺设计套件

西门子数字化工业软件与联华电子 (UMC) 近日达成合作,共同开发适用于联华电子 110 纳米和 180 纳米 BCD 技术平台的工艺设计套件 (PDK)。联华电子为全球半导体晶圆专工业业者,专注
2022-04-02 09:54:041687

全面解读电子封装工艺技术

全面解读电子封装工艺技术
2022-10-10 11:00:51876

欧陆通和意法半导体携手设立数字电源联合开发实验室

国内知名电源品牌欧陆通与意法半导体(ST)宣布,双方将在欧陆通子公司上海安世博及杭州云电科技两地分别设立针对数字电源应用的联合开发实验室,拟在服务器电源及新能源技术及产品开发领域探索更多可能性。两个
2023-04-29 14:35:241751

2006电子元器件搪锡工艺技术要求

2006电子元器件搪锡工艺技术要求
2023-08-23 16:48:033

电子产品装联工艺技术详解

电子产品装联工艺技术详解
2023-10-27 15:28:22373

三菱电机与安世宣布联合开发高效的碳化硅(SiC)功率半导体

2023年11月,日本三菱电机、安世半导体(Nexperia)宣布,将联合开发高效的碳化硅(SiC)MOSFET分立产品功率半导体。
2023-11-25 16:50:53451

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