手机性能越来越强劲离不开半导体制程的进步，明年手机处理器将会进入10nm时代。高通骁龙835、联发科Helio X30、苹果A11处理器都将采用10nm制程，因此晶圆代工厂商台积电、英特尔、三星等也在纷纷抢进10nm、7nm先进半导体制程。不过，市场真的能跟上先进半导体制程的脚步吗？
2016-12-27 15:47:02
922 美国Entegris公司（NASDAQ： ENTG）15日在上海宣布，与福建博纯材料有限公司签订协议以扩大在中国的业务，博纯材料将在其位于泉州的工厂制造Entegris特殊化学品。
2017-03-17 08:28:371633 本期，我们将继续探索半导体制造过程中的两大关键步骤：刻蚀和薄膜沉积。
2022-08-01 10:58:184517 
LED制造专区MEMS专区集成电路材料专区 晶圆加工设备及厂房设备 在半导体制造中专为晶圆加工的厂房提供设备及相关服务的供应商，包括光刻设备、测量与检测设备、沉积设备、刻蚀设备、化学机械抛光(CMP
2017-09-15 09:29:38
性能和速度上同时满足了圆片图形加工的要求。CMP 技术是机械削磨和化学腐蚀的组合技术 , 它借助超微粒子的研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面上形成光洁平坦表面[2、3] 。CMP 技术对于
2023-09-19 07:23:03
苏州晶淼专业生产半导体、光伏、LED等行业清洗腐蚀设备，可根据要求定制湿法腐蚀设备。晶淼半导体为国内专业微电子、半导体行业腐蚀清洗设备供应商，欢迎来电咨询。电话：***，13771786452王经理
2016-09-05 10:40:27
：太阳能电池清洗设备, 半导体清洗设备,微电子工艺设备及清洗设备，太阳能电池片清洗刻蚀设备, 微电子半导体清洗刻蚀设备,LCD液晶玻璃基板清洗刻蚀设备;LED晶片清洗腐蚀设备,硅片切片后清洗设备，划片后
2011-04-13 13:23:10
大家好！ 附件是半导体引线键合清洗工艺方案，请参考，谢谢！有问题联系我：*** szldqxy@163.com
2010-04-22 12:27:32
减小这些解决方案的尺寸、重量和功率。本文将简要介绍现有的天线解决方案以及电控天线的优势所在。在此基础上，本文将介绍半导体技术的发展如何帮助实现改进电控天线SWaP-C这一目标，然后举例说明ADI技术如何做到这一点。
2021-01-20 07:11:05
最终减小这些解决方案的尺寸、重量和功率。本文将简要介绍现有的天线解决方案以及电控天线的优势所在。在此基础上，本文将介绍半导体技术的发展如何帮助实现改进电控天线SWaP-C这一目标，然后举例说明ADI技术如何做到这一点。
2021-01-05 07:12:20
苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、高端PP/PVC通风柜/厨、CDS化学品集中供液系统等一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等
2016-09-06 13:53:08
半导体制冷—— 2 1 世纪的绿色“冷源”唐春晖（上海理工大学光学与电子信息工程学院，上海 200093）摘要：基于节能和环保已是当今一切科技发展进步的基本要求，对半导体制冷技术原理以及应用情况做了
2010-04-02 10:14:56
大家有没有用过半导体制冷的，我现在选了一种制冷片，72W的，我要对一个2.5W的热负载空间（100x100x100mm）降温，用了两片，在环温60度时热负载所处的空间只降到30度，我采用的时泡沫胶
2012-08-15 20:07:10
半导体制冷的机理主要是电荷载体在不同的材料中处于不同的能量级，在外电场的作用下，电荷载体从高能级的材料向低能级的材料运动时，便会释放出多余的能量。
2020-04-03 09:02:14
半导体制冷片控制板开发技术需要用到的功能模块有哪些？有知道的朋友吗？展开讲讲？
2022-05-22 18:26:09
半导体制冷片是利用半导体材料的Peltier效应而制作的电子元件，当直流电通过两种不同半导体材料串联成的电偶时，在电偶的两端即可分别吸收热量和放出热量，可以实现制冷的目的。它是一种产生负热阻的制冷技术，其特点是无运动部件，可靠性也比较高。半导体制冷片的工作原理是什么？半导体制冷片有哪些优缺点？
2021-02-24 09:24:02
的积体电路所组成，我们的晶圆要通过氧化层成长、微影技术、蚀刻、清洗、杂质扩散、离子植入及薄膜沉积等技术，所须制程多达二百至三百个步骤。半导体制程的繁杂性是为了确保每一个元器件的电性参数和性能，那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
~ 3,000三、半导体制程设备 半导体制程概分为三类：(1)薄膜成长，(2)微影罩幕，(3)蚀刻成型。设备也跟着分为四类：(a)高温炉管，(b)微影机台，(c)化学清洗蚀刻台，(d)电浆真空腔室
2011-08-28 11:55:49
在制造半导体器件时，为什么先将导电性能介于导体和绝缘体之间的硅或锗制成本征半导体，使之导电性极差，然后再用扩散工艺在本征半导体中掺入杂质形成N型半导体或P型半导体改善其导电性？
2012-07-11 20:23:15
半导体产业经历了2019年的低迷，但其在2020年的潜力却被很多业内人士看好。摩根大通分析师Harlan Sur在其于去年年底发布的一则研究报告中指出，半导体市场将于2020年复苏，预测到 2020
2020-02-27 10:42:16
半导体制造技术经典教程（英文版）
2014-03-06 16:19:35
采取正确的设备维护行动。半导体制造五大难点——集成众多子系统的大系统伴随着芯片的集成度越来越高、半导体制造的先进程度也逐渐提升。半导体产业包含越来越多的机械、化工、软件、材料等其它领域，是集成了很多
2020-09-02 18:02:47
噪声、空气噪声和微振动也是特殊的污染物。还有一点值得注意的就是：半导体工厂内会有大量的酸性气体（这些气体来自于晶圆的蚀刻、清洗等过程），其次由于半导体制造的过程中会需要大量使用光阻液、显影液等等，这些
2020-09-24 15:17:16
新型铜互连方法—电化学机械抛光技术研究进展多孔低介电常数的介质引入硅半导体器件给传统的化学机械抛光（ＣＭＰ）技术带来了巨大的挑战，低ｋ 介质的脆弱性难以承受传统ＣＭＰ 技术所施加的机械力。一种结合了
2009-10-06 10:08:07
梁德丰，钱省三，梁静（上海理工大学工业工程研究所/微电子发展中心，上海 200093）摘要：由于半导体制造工艺过程的复杂性，一般很难建立其制造模型，不能对工艺过程状态有效地监控，所以迫切需要先进
2018-08-29 10:28:14
产品和解决方案，意法半导体正在积极的影响人们的生活。 智慧家居和智慧城市是意法半导体战略的主要框架，这恰好与印度在全国发展智慧城市的计划相吻合”了解意法半导体的先进的创新的智慧城市解决方案
2018-03-08 10:17:35
`《半导体制造工艺》学习笔记`
2012-08-20 19:40:32
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：半导体行业的湿化学分析——总览编号：JFSJ-21-075作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html对液体和溶液进行
2021-07-09 11:30:18
的试剂，无论是单独工作还是与其他化学品混合，对于半导体制造中的湿法清洗工艺。通过适当的应用，它可以避免使用一些需要在高温下操作的高腐蚀性化学品，从而减少 CoO，包括化学品费用、冲洗水量、安全问题
2021-07-06 09:36:27
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：III-V/SOI 波导电路的化学机械抛光工艺开发编号：JFSJ-21-064作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:14:11
标志。适用于工业生产和服务活动中生产、使用的含挥发性有机化合物的清洗剂。△(注：本标准不适用于航空航天、核工业、军工、半导体（含集成电路）制造用清洗剂。)众所周知，在工业生产中，为了去除各种污垢，清洗
2021-05-25 15:03:54
1、GaAs半导体材料可以分为元素半导体和化合物半导体两大类，元素半导体指硅、锗单一元素形成的半导体，化合物指砷化镓、磷化铟等化合物形成的半导体。砷化镓的电子迁移速率比硅高5.7 倍，非常适合
2019-07-29 07:16:49
反应生成薄膜。等离子体增强化学气相淀积系统在沉积室利用辉光放电使其电离后在衬底上进行化学反应沉积的半导体薄膜材料制备和其他材料薄膜的制备方法。等离子体增强化学气相沉积是：在化学气相沉积中，激发气体，使其
2018-09-03 09:31:49
我想用单片机开发板做个热疗仪，开发板是某宝上买的那种，有两个猜想：一个用半导体制冷片发热，一个用电热片。但我不会中间要不要接个DA转换器还是继电器什么的，查过一些资料，如果用半导体制冷片用PWM控制
2017-11-22 14:15:40
求大神解答，半导体制冷片的正负极能反接吗，如果可以，那原来的制冷面是不是可变成散热面而原来的散热面变成制冷面？？
2016-03-03 16:53:12
的有氧化炉、沉积设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入机、清洗机、化学研磨设备等。以上是今日Enroo关于晶圆制造工艺及半导体设备的相关分享。
2018-10-15 15:11:22
基于半导体制冷片的高精度温度控制系统，总结的太棒了
2021-05-08 06:20:22
如何实现基于STM32的半导体制冷片(TEC)温度控制系统设计？
2021-12-23 06:07:59
高可靠性系统设计包括使用容错设计方法和选择适合的组件，以满足预期环境条件并符合标准要求。本文专门探讨实现高可靠性电源的半导体解决方案，这类电源提供冗余、电路保护和远程系统管理。本文将突出显示，半导体技术的改进和新的安全功能怎样简化了设计，并提高了组件的可靠性。
2021-03-18 07:49:20
想用半导体制冷片制作小冰箱，需要用到大功率电源，半导体制冷片，还有散热系统，单片机控制系统，能调温度，还能显示温度，具体的思路已经有了，想问问你们有没好点的意见，能尽量提高点效率还有温度调节的精度
2020-08-27 08:07:58
应用于汽车的图像感测和电源管理方案。随着半导体技术成为汽车行业的基础，安森美半导体针对先进驾驶辅助系统 (ADAS) 和汽车功能电子化等技术的汽车方案正推进朝向全自动驾驶的发展，以及在联接汽车中与日
2018-10-11 14:28:55
高性能、高能效硅解决方案供应商安森美半导体(ON Semiconductor)日前在台北举行的第七届静电放电保护技术研讨会上，针对如何防止静电放电(ESD) 所带来的损失，从元件、制造和系统三个层级
2019-05-30 06:50:43
半导体的解决方案为解决上述问题，可以使用安森美半导体的一些有针对性的解决方案，从设计之初就解决智能电表的耗电问题。电源管理和稳压方案：在这方面安森美半导体有丰富的器件可供使用，比如在AC-DC转换
2019-05-15 10:57:14
山东高唐杰盛半导体科技有限公司，我公司主要从事微电子工艺设备及高精度自动控制系统的设计。制造和服务等，已申请国家专利10项，授权7项，产品涉及到半导体制造的前道清洗、扩散和后道封装，技术达到国内
2013-09-13 15:16:45
{:1:}想了解半导体制造相关知识
2012-02-12 11:15:05
苏州晶淼有限公司专业制作半导体设备、LED清洗腐蚀设备、硅片清洗、酸洗设备等王经理***/13771786452
2016-07-20 11:58:26
可行吗？还需要电器隔离吗？半导体制冷片的额定电压是12v，mcu是stm32
2018-05-01 19:29:12
到了二十世纪五十年代随着半导体材料的迅猛发展，热电制冷器才逐渐从实验室走向工程实践，在国防、工业、农业、医疗和日常生活等领域获得应用，大到可以做核潜艇的空调，小到可以用来冷却红外线探测器的探头，因此通常又把热电制冷器称为半导体制冷器。
2013-11-29 09:26:38
苏州晶淼半导体设备有限公司位于苏州工业园区，致力于半导体集成电路、光电子器件、分立器件、传感器和光通信、LED等行业，中高端湿法腐蚀、清洗设备、CDS集中供液系统、通风柜/厨等一站式的解决方案
2020-05-26 10:43:05
伴随着芯片的集成度越来越高，半导体制造的先进程度也逐渐提升。在芯片半导体的生产加工过程中要不断用水清洗，对水质的纯度要求特别高，要求达到ppb级别，所以为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料
2021-10-28 14:12:24
氧化锆基氧化铝 - 半导体晶圆研磨粉 (AZ) 系列半导体晶圆研磨粉是一种细粉磨料，是作为需要高精度的包裹材料而开发的。原材料粒度分布尖锐，粒度稳定，形状呈块状。再以熔融氧化铝为原料，锆英
2022-05-31 14:21:38
自制小型TEC1半导体电子冰箱(冷热箱)：自制的小型电冰箱，其制冷部分是以新型的固体冷源半导体制冷器，取代了传统的机械压缩式制冷系统。由于制作方便，工艺要求也不高，所以十
2011-10-31 16:29:59
119 半导体清洗工艺全集 晶圆清洗是半导体制造典型工序中最常应用的加工步骤。就硅来说，清洗操作的化学制品和工具已非常成熟，有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的支持。所
2011-12-15 16:11:44186 中国半导体制造行业的两大企业，华虹半导体有限公司(简称“华虹”)和宏力半导体制造公司(简称“宏力”)于29日联合宣布双方已完成了合并交易。
2011-12-30 08:58:501867 Entegris 是半导体与其他高科技产业的领导供应商，为这些产业在处理与制造中所用的关键材料，提供纯化、保护和运输所需的多种产品。Entegris拥有广泛的产品组合，涉及光刻、刻蚀、沉积、清洗、CMP、植入、工厂设施等多个领域，是整个IC晶圆制造工艺领域的市场领导者。
2016-03-23 09:11:01702 半导体制造刻蚀设备调度算法的研究_贾小恒
2017-03-19 11:28:162 作为业界领先的特种化学及先进材料解决方案的领导企业，Entegris今天发布了2018年中国战略，致力于将当今全球一流制造商所使用的高端材料解决方案引进中国市场。对于中国制造商而言，要与市场上现有
2018-04-17 05:31:001275 业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris（纳斯达克： ENTG）宣布正在上海建设中国技术中心，旨在支持所有技术制程，计划于 2018 年底落成运营。该中心选址张江高科技园区，紧邻
2018-09-09 02:05:00538 本文档的主要内容详细介绍的是半导体制造技术之半导体的材料特性详细资料免费下载
2018-11-08 11:05:3077 本文档的主要内容详细介绍的是半导体制造工艺教程的详细资料免费下载主要内容包括了：1.1 引言 1.2基本半导体元器件结构 1.3半导体器件工艺的发展历史 1.4集成电路制造阶段 1.5半导体制造企业 1.6基本的半导体材料 1.7 半导体制造中使用的化学品 1.8芯片制造的生产环境
2018-11-19 08:00:00200 此次签约，针对传感器半导体制造，矽赫科技与深圳大学半导体制造研究院展开联合研发和深度合作。
2020-12-31 10:10:004517 MEMS工艺——半导体制造技术说明。
2021-04-08 09:30:41237 在晶圆制造的过程中，包括蚀刻、氧化、淀积、去光刻胶以及化学机械研磨等每一个步骤，都是造成晶圆表面污染的来源，因此需要反复地进行清洗
2021-04-09 14:07:0027 作为半导体晶圆清洗技术国际会议，由美国电化学会（ECS）主办的“International Synmposium on Semiconductor Cleaning Science
2021-06-29 18:14:152182 半导体制造是高端制造中信息化程度最高的代表，其中以晶圆制造最为复杂。
2021-07-04 15:34:562712 引言 化学机械抛光是实现14纳米以下半导体制造的最重要工艺之一。此外，化学机械抛光后缺陷控制是提高产量和器件可靠性的关键工艺参数。由于亚14纳米节点结构器件的复杂性，化学机械抛光引起的缺陷需要固定
2022-01-11 16:31:39443 
摘要 在许多半导体器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半导体材料。 在半导体器件制造中，各种加工步骤可分为四大类，即沉积、去除、图形化和电性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是开发半导体电子器件的首要
2022-01-18 16:08:131000 
索引术语—清洗、化学机械抛光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氢。 摘要 本文为后化学机械抛光工艺开发了新型清洗液，在稀释的氢氧化铵(NH4OH+H2O)碱性水溶液中加入表面活性剂四甲基氢氧化铵
2022-01-26 17:21:18550 
半导体制造工业中的湿法清洗/蚀刻工艺用于通过使用高纯化学品清洗或蚀刻来去除晶片上的颗粒或缺陷。扩散、光和化学气相沉积(CVD)、剥离、蚀刻、聚合物处理、清洁和旋转擦洗之前有预清洁作为湿法清洁/蚀刻
2022-02-22 13:47:511696 
清洗都是开发半导体电子器件的首要和基本步骤。清洗过程是在不改变或损坏晶圆表面或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。 介绍 半导体是一种固体物质，其导电性介于绝缘体和导体之间。半导体材料的定义性质是，它可以掺杂
2022-02-23 17:44:201427 的半导体芯片的结构也变得复杂，包括从微粉化一边倒到三维化，半导体制造工艺也变得多样化。其中使用的材料也被迫发生变化，用于制造的半导体器件和材料的技术革新还没有停止。为了解决作为半导体制造工艺之一的CMP
2022-03-21 13:39:083886 
随着器件尺寸缩小到深亚微米级，半导体制造中有效的湿法清洗工艺对于去除硅晶片表面上的残留污染物至关重要。GOI强烈依赖于氧化前的晶片清洁度，不同的污染物对器件可靠性有不同的影响，硅表面上的颗粒导致
2022-03-21 13:39:405472 
VLSI制造过程中，晶圆清洗球定义的重要性日益突出。这是当晶片表面存在的金属、粒子等污染物对设备的性能和产量(yield)产生深远影响时的门。在典型的半导体制造工艺中，清洁工艺在工艺前后反复进行
2022-03-22 14:13:163580 
在许多半导体器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半导体材料。 在半导体器件制造中，各种加工步骤可分为四大类，即沉积、去除、图形化和电性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是开发半导体电子器件的首要和基本步骤。 清洗过程是在不改变或损坏晶圆表面或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。
2022-04-01 14:25:332949 
CMP装置被应用于纳米级晶圆表面平坦化的抛光工艺。抛光颗粒以各种状态粘附到抛光后的晶片表面。必须确实去除可能成为产品缺陷原因的晶圆表面附着物，CMP后的清洗技术极为重要。在本文中，关于半导体制造工序
2022-04-18 16:34:342912 
在半导体和LED的制造中，需要研磨以使晶片的厚度变薄，以及抛光以使表面成为镜面。在半导体器件的制造中，半导体制造工艺包括:（1）从晶体生长开始切割和抛光硅等，并将其加工成晶片形状的工艺（晶片制造工艺
2022-04-20 16:09:4810872 
使用。在本文中，为了在半导体制造中的平坦化工艺，特别是在形成布线层的工程中实现CMP后的高清洁面，关于湿法清洗所要求的功能和课题，关于适用新一代布线材料时所担心的以降低腐蚀及表面粗糙度为焦点的清洗技术，介绍了至今为止的成果和课题，以及今后的展望。
2022-04-20 16:11:292433 
来源：半导体芯科技 “晶芯研讨，精华荟萃！”2022年7月5日，年度首场线下高峰技术论坛大咖云集，ACT雅时国际商讯与苏州工业园强强联合，主办苏州·晶芯研讨会之“拓展摩尔定律——先进半导体制造与封装
2022-07-11 19:55:132080 
达到的水准，因此单片式刻蚀、清洗设备开始在半导体制造过程中发挥越来越大的作用。 在全自动单片清洗设备中，由于大而薄的硅片对夹紧力较为敏感，再加上硅片的翘曲率不同，因此对于硅片的抓取、传输提出了更高的要求。
2022-08-15 17:01:354061 
时间2022年11月2日地点上海国际会议中心，5楼，长江厅 活动简介 芯和半导体受邀于11月2日参加在上海国际会议中心举办的“SEMICON 半导体制造与先进封装论坛”。 2021
2022-11-01 18:49:301272 针对半导体制造工艺的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解决方案，可适配步进器和掩膜版设备，更换传统工具中的传统灯箱，实现高质量的半导体质量控制。
2023-03-29 10:35:41712 
结 构。 得益于LED的技术优势和成本优势，半导体制造领域正在摆脱长期以来的传统放电汞灯技术，进而选择 UVLED技术 作为一种理想解决方案。 虹科UVLED紫外光源 提供稳定且超高功率的UV辐射输出，最高 输出功率可达80W ，具有长寿命和成本优势，无需额外冷却时间，即开即用，取代了传统的灯箱结构
2023-04-20 09:32:24412 
结 构。 得益于LED的技术优势和成本优势，半导体制造领域正在摆脱长期以来的传统放电汞灯技术，进而选择 UVLED技术 作为一种理想解决方案。 虹科UVLED紫外光源 提供稳定且超高功率的UV辐射输出，最高 输出功率可达80W ，具有长寿命和成本优势，无需额外冷却时间，即开即用，取代了传统的灯箱结构
2023-05-16 09:54:17533 随着晶体管尺寸的不断微缩，晶圆制造工艺日益复杂，对半导体湿法清洗技术的要求也越来越高。
2023-08-01 10:01:561652 
早些时期半导体常使用湿式清洗除尘方法，湿式清洗除尘通常使用超纯水或者化学药水来清洗除尘，优点就是价格低廉，缺点是有时化学药水或者超纯水会把产品损害。随着科技技术的进步，人们对半导体的清洗除尘要求越来越高，不仅要保证产品的良率达到一定的标准，还需要清洗除尘的程度达到不错的水平
2023-08-22 10:54:45681 半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:541223 
随着科技的不断发展，半导体技术在全球范围内得到了广泛应用。半导体设备在制造过程中需要经过多个工艺步骤，而每个步骤都需要使用到各种不同的材料和设备。其中，华林科纳的PFA管在半导体清洗工艺中扮演着
2023-10-16 15:34:34258 在芯片制造中，单纯的物理研磨是不行的。因为单纯的物理研磨会引入显著的机械损伤，如划痕和位错，且无法达到所需的平整度，因此不适用于芯片制造。
2023-11-29 10:03:32327 
化学机械研磨工艺操作的基本介绍以及其比单纯物理研磨的优势介绍。
2023-11-29 10:05:09349 在半导体产业中，清洗机与PFA阀门扮演着至关重要的角色。它们是半导体制造过程中的关键设备，对于提高产品质量、确保生产效率具有举足轻重的作用。 半导体清洗机是一种专门用于清洗半导体的设备。在半导体制造
2023-12-26 13:51:35258 
。以下是半导体制造中气体混合的一些常见用途和相关操作。 1、清洗:气体混合用于制备清洗气体，例如氢气和氮气的混合物，以去除制造设备和器件上的杂质和残留物，确保器件的纯度。 2、退火:气体混合物，通常是氢气和氮气的混
2024-03-05 14:23:0897 
电子发烧友App
工商网监
评论