半导体清洗除尘，是芯片制造的重要环节

半导体清洗除尘，用于去除芯片生产中产生的各种沾污杂质，是芯片制造中步骤最多的工艺。每一步光刻、刻蚀、沉积、离子注入、CMP(化学机械抛光)后均需要清洗。长久以来，半导体清洗设备没有***、刻蚀机、沉积设备的耀眼光芒，常常被人们所忽视，甚至有人认为，芯片生产中所用的清洗设备，并不具有很高的技术门槛。事实真的如此吗?本文将从半导体清洗设备-非接触精密除尘设备来探讨上述问题。

在芯片制造过程中会有各种各样的杂质，其中可以追溯的污染源有颗粒、金属、有机物等沾污，这些污染源是芯片良率下降的罪魁祸首，芯片制造需要在无尘室中进行，如果在制造过程中，有沾污现象，将影响芯片上器件的正常功能。沾污杂质是指半导体制造过程中引入的任何危害芯片成品率及电学性能的物质。沾污杂质导致芯片电学失效，导致芯片报废。据估计，80%的芯片电学失效都是由沾污带来的缺陷引起的。所以在芯片制造过程中对于芯片的清洁除尘洁净异常重要。

早些时期半导体常使用湿式清洗除尘方法，湿式清洗除尘通常使用超纯水或者化学药水来清洗除尘，优点就是价格低廉，缺点是有时化学药水或者超纯水会把产品损害。随着科技技术的进步，人们对半导体的清洗除尘要求越来越高，不仅要保证产品的良率达到一定的标准，还需要清洗除尘的程度达到不错的水平。所以旋风非接触精密除尘设备就应运而生，主要是针对精密器件除尘清洁，比如半导体封装、摄像头、显示器、芯片等领域清洁除尘。自旋风非接触精密除尘设备上市以来，就凭借它的优势让各行业的朋友对它青睐有加。它可以适应的产品类型很多，不仅对平面，对凹凸面、立体表面部件也具有高效的洁净效果；它布局灵活，设置合理，可以在原有的产线上安装调配；它具有节能、环保的优势，非接触除尘设备的高旋转轴是以气压驱动，并不使用电能，连续长时间运转设备也非常节能环保。旋风非接触除尘设备的优势还有很多，如果对精密器件除尘的朋友有需求都欢迎来咨询上海拢正半导体。

审核编辑 黄宇