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中科院物理研究所探索用一种新的方法生长碳化硅晶体

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2022-02-09 09:27:53440

碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》全书

和载流子浓度2.2.2光吸收系数和折射率2.2.1能带结构2.1晶体结构第3章碳化硅晶体生长3.9总结3.8切片及抛光3.7化学气相淀积法生长3C-SiC晶圆3.6溶液
2022-05-09 17:19:452152

8.2.6 功率MOSFET 的实施:DMOSFET和UMOSFET∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.6功率MOSFET的实施:DMOSFET和UMOSFET8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内
2022-02-28 11:20:021054

6.3.4.6 C-Ψs方法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.3.4.6C-Ψs方法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.5高低频方法
2022-01-10 14:04:39631

6.3.4.7 电导法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.3.4.7电导法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.6C-Ψs方法
2022-01-12 10:44:27394

8.2.7 DMOSFET的先进设计∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.7DMOSFET的先进设计8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.2.6功率MOSFET
2022-02-28 10:46:39321

6.4.1.2 SiC上的肖特基接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.4.1.2SiC上的肖特基接触6.4.1n型和p型SiC的肖特基接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.1.1基本原理∈《碳化硅技术
2022-01-24 10:22:28480

6.3.4.1 SiC特有的基本现象∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

的结构和物理特性∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.2氧化硅的介电性能∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.1氧化速率
2022-01-05 13:59:37493

8.2.10.2 反型层迁移率的器件相关定义∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.10.2反型层迁移率的器件相关定义8.2.10反型层电子迁移率8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-03-04 10:19:46275

6.1.5 高温退火和表面粗糙化∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.1.5高温退火和表面粗糙化6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.4半绝缘区域的离子注入∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2021-12-31 14:25:52549

7.3 pn与pin结型二极管∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

7.3pn与pin结型二极管第7章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.2肖特基势磊二极管(SBD)∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-02-10 09:18:15614

8.1.4 比通态电阻∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.4比通态电阻8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.3饱和漏极电压∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征
2022-02-20 16:16:46636

6.3.4.8 其他方法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.3.4.8其他方法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.7电导法∈《碳化硅
2022-01-11 17:26:05445

6.4.2.2 n型SiC的欧姆接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.4.2.2n型SiC的欧姆接触6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技术
2022-01-25 09:18:08743

8.1 结型场效应晶体管(JFET)∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.1夹断电压8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.4结势垒肖特基(JBS)二极管与混合pin肖特基(MPS
2022-02-16 09:43:48325

8.1.5 增强型和耗尽型工作模式∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.5增强型和耗尽型工作模式8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.4比通态电阻∈《碳化硅技术基本原理——生长
2022-02-20 14:15:56384

8.1.6 功率JFET器件的实现∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.6功率JFET器件的实现8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.5增强型和耗尽型工作模式∈《碳化硅技术
2022-02-21 09:29:28537

6.3.4.2 MOS电容等效电路∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

特有的基本现象∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.3热氧化氧化硅的结构和物理特性∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.2氧
2022-01-07 14:24:25420

5.3.2.1 寿命控制∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

5.3.2.1寿命控制5.3.1SiC中的主要深能级缺陷5.3SiC中的点缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.3.2载流子寿命“杀手
2022-01-06 09:38:25510

6.4.2.3 p型SiC的欧姆接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.4.2.3p型SiC的欧姆接触6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.2n型SiC的欧姆接触
2022-01-26 10:08:16636

超40个,碳化硅项目企业汇总

单晶生长,以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料形成碳化硅晶体;2)衬底环节,碳化硅晶体经过切割、研磨、抛光、清洗等工序加工形成单晶薄片,也即半导体衬底材料;
2023-12-05 15:26:53560

碳化硅和氮化镓哪个好

性质、结构、制备方法、特性以及应用方面存在着一些差异。以下将详细介绍碳化硅和氮化镓的区别。 1. 物理性质 碳化硅是由碳和硅元素组成的化合物,具有多种晶体结构,包括六方晶系、三方晶系和立方晶系。它具有较高的熔点、硬度、热导率和
2023-12-08 11:28:51742

三种碳化硅外延生长炉的差异

碳化硅衬底有诸多缺陷无法直接加工,需要在其上经过外延工艺生长出特定单晶薄膜才能制作芯片晶圆,这层薄膜便是外延层。几乎所有的碳化硅器件均在外延材料上实现,高质量的碳化硅同质外延材料是碳化硅器件研制的基础,外延材料的性能直接决定了碳化硅器件性能的实现。
2023-12-15 09:45:53607

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