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电子发烧友网>电源/新能源>意法半导体推出40V STripFET F8 MOSFET晶体管,具备更好的节能降噪特性

意法半导体推出40V STripFET F8 MOSFET晶体管,具备更好的节能降噪特性

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2023-03-01 18:47:590

具有N沟道沟槽 MOSFET40V,2A PNP 低 VCEsat(BISS) 晶体管-PBSM5240PFH

具有 N 沟道沟槽 MOSFET40 V、2 A PNP 低 VCEsat (BISS) 晶体管-PBSM5240PFH
2023-03-02 23:00:330

40V、600mA双PNP开关晶体管-PMBT4403YS

40V、600mA双PNP开关晶体管-PMBT4403YS
2023-03-02 23:12:530

半导体SiC MOSFET的路线图

显然特斯拉用的是半导体2018年的第二代SiC MOSFET产品,第四代产品目前还没有推出。沟槽型是发展方向,但半导体要到2025年才开始推出
2023-03-14 11:22:393149

半导体发布100V工业级STripFET F8晶体管,优值系数提高40%

中国—— 半导体的STL120N10F8N沟道100V功率MOSFET拥有极低的栅极-漏极电荷(QGD)和导通电阻RDS(on),优值系数 (FoM) 比上一代同类产品提高40%。
2023-05-25 10:08:231110

东芝推出采用新型封装的车载40V N沟道功率MOSFET

东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)宣布,推出两款采用东芝新型S-TOGL(小型晶体管轮廓鸥翼式引脚)封装与U-MOS IX-H工艺芯片的车载40V N沟道功率MOSFET——“XPJR6604PB”和“XPJ1R004PB”。两款产品已于8月17日开始支持批量出货。
2023-08-24 11:19:101596

基于ST 半导体ST-ONE和MASTERGAN4的超高功率密度65W USB Type-C PD 3.1解决方案

ST-ONEMP与半导体的MasterGaN功率技术配套使用。 MasterGaN技术包含意半导体的集成栅极驱动器的氮化镓(GaN)宽带隙功率晶体管半导体GaN技术的开关频率比传统硅 MOSFET更高,使适配器能够提供更高的功率密度和符合最新生态设计规范的高能效。
2023-03-16 10:29:162011

安建半导体40V SGT MOSFET产品已经通过AEC-Q101车规全部测试

安建半导体40V SGT MOSFET产品已经通过AEC-Q101车规认证的全部测试。
2023-09-06 17:48:451376

半导体推出首款具有电流隔离功能的氮化镓晶体管栅极驱动器

2023 年 9 月 6 日,中国 ——半导体推出了首款具有电流隔离功能的氮化镓 (GaN) 晶体管栅极驱动器,新产品 STGAP2GS缩小了芯片尺寸,降低了物料清单成本,能够满足应用对宽禁带芯片的能效以及安全性和电气保护的更高要求。
2023-09-07 10:12:132054

半导体推出新系列IGBT晶体管

半导体新系列 IGBT晶体管将击穿电压提高到 1350V,最高工作温度拓宽到175°C,更高的额定值确保晶体管在所有工作条件下具有更大的设计余量、耐变性能和更长久的可靠性。
2023-09-12 10:38:001184

半导体的新型IGBT器件可将功耗降低11%

2023 年 9 月 11 日,中国 – 半导体新系列 IGBT晶体管将击穿电压提高到 1350V,最高工作温度拓宽到175°C,更高的额定值确保晶体管在所有工作条件下具有更大的设计余量、耐变性能和更长久的可靠性。
2023-09-12 10:39:111438

半导体1350V新系列IGBT晶体管提高耐变性和能效

2023 年 9 月 11 日,中国 – 半导体新系列 IGBT晶体管将击穿电压提高到 1350V,最高工作温度拓宽到175°C,更高的额定值确保晶体管在所有工作条件下具有更大的设计余量、耐变性能和更长久的可靠性。
2023-09-19 11:07:01691

【科普小贴士】金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET

【科普小贴士】金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET
2023-12-13 14:22:412183

涉嫌侵犯晶体管专利 半导体被判赔3250万美元

该陪审员同意了普度的意见,即电动汽车用充电器及其他产品使用的碳化物金属氧化物半导体电场效果晶体管mosfet)侵害了高电压电源应用(high power power application)使用的晶体管的专利。
2023-12-06 13:55:231405

半导体推出新型40V工业级与汽车级线性稳压器

半导体近日推出了两款全新的线性稳压器——LDH40和LDQ40,这两款产品不仅具备出色的能效,还在设计上展现了极高的灵活性。
2024-05-11 10:31:42970

半导体推出40V STripFET F8 MOSFET晶体管

半导体近期推出了标准阈值电压(VGS(th))的40V STripFET F8 MOSFET晶体管系列。该系列晶体管融合了强化版沟槽栅技术的优势,并具备出色的抗噪能力,专为非逻辑电平控制的应用场
2024-12-11 14:27:00971

半导体发布250W MasterGaN参考设计

参考设计,旨在加速紧凑、高效工业电源的实现。 MasterGaN-SiP是半导体的创新之作,它将GaN功率晶体管与经过优化的栅极驱动器完美整合于一个封装内。这一设计不仅显著提升了电源的性能和可靠性,还通过高度集成的方式,极大地加快了设计速度,并有效节省了PCB电路板空间。 与传统
2024-12-25 14:19:481143

半导体推出全新40V MOSFET晶体管

半导体推出了标准阈值电压(VGS(th))的40V STripFET F8 MOSFET晶体管,新系列产品兼备强化版沟槽栅技术的优势和出色的抗噪能力,适用于非逻辑电平控制的应用场景。
2025-01-16 13:28:271022

半导体工业级40V和100V STripFET F8 MOSFET概述

STripFET F8与上一代产品相比,品质因数 (FoM) 提高了40%,有助于工程师设计出更紧凑、功率密度更高的功率级,适用于计算机和外设应用、数据中心、电信、太阳能、电源、电池充电器、家用和专业电器、游戏、无人机等领域。
2025-10-10 09:34:20468

STL120N10F8功率MOSFET技术解析与应用指南

STMicroelectronics STL120N10F8100V N沟道增强模式STripFET MOSFET采用ST的STripFET F8技术,具有增强型沟槽栅极结构。它确保极低的导通电
2025-10-25 09:55:21933

STL325N4LF8AG N通道功率MOSFET技术解析与应用指南

半导体STL325N4LF8AG N沟道功率MOSFET采用STripFET F8技术,具有增强型沟槽栅极结构。 STL325N4LF8AG可确保非常低的导通电阻。该器件还降低内部电容和栅极电荷,实现更快、更高效的开关。
2025-10-29 15:34:56476

‌STL320N4LF8 N沟道功率MOSFET技术解析与应用指南

半导体 STL320N4LF8 N沟道STripFET F8功率MOSFET 采用STripFET F8沟槽式MOSFET技术制造而成。 该器件完全符合工业级标准。STL320N4LF8可降低
2025-10-29 15:48:51509

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