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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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光刻胶的性能:光刻胶的性能对套刻精度有显著影响。它决定了图形的套刻分辨率和边缘清晰度,光刻胶的收缩和厚度不均匀性都可能导致实际图案尺寸与设计尺寸之间的偏差。
对于未来发展,JSR强调通过并购获取新技术及扩大规模是实现成功的关键。作为全球最大的光刻胶生产商之一,JSR在半导体晶圆电路形成领域占据了27%的市场份...
康达新材投资2.89亿元建设半导体光刻胶关键材料光引发剂技术项目
康达新材表示,为了贯彻其“新材料+电子科技”战略,优化旗下彩晶光电产品构成,填补内地资源空缺,推进国产化进程,解决半导体光刻胶核心材料受限问题,打破国际...
随着半导体制造工艺节点不断发展至100纳米甚至更小的10纳米级别,如何制作出尺寸精度高、表面特征优秀、线边缘粗糙度低的光刻图形已逐渐成为整个行业面临的挑战。
据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
万润股份2023年实现净利润7.21亿元-7.93亿元,同比预增0-10%
针对业绩增长原因,该公司表示,今年以来,虽然受到MP抗原检测产品下游需求疲软的不利因素制约,但其加强了国内国际两个市场的拓展力度,不断升级和改良工艺流程...
Hidehito Takahashi指出,行业应进行整合以保持国际竞争力。 “半导体材料领域正是日本能在全球赛场上屡次取得胜利的关键领域之一。而现在这种...
所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。...
鼎龙股份投资300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目,增资扩股
据了解,潜江新材料主营业务含电子专用材料研发、销售、制造,及工程和技术研究发展、新材料技术研发等多个领域。本次增资后,鼎龙股份对潜江新材料的持股比例减至...
上海衡封新材料科技A轮融资近亿元,扩大研发,提升产品供应能力
衡封新材诞生于2018年,主营业务为电子级酚醛树脂与特种环氧树脂产品,应用范围涵盖半导体封装、覆铜板、光刻胶、电子胶等诸多领域。在衡封新材的精英员工队伍...
光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学...
万润股份在半导体制造材料领域稳步推进,涉足光刻胶单体、PI等业务
近期,万润股份在接受机构调研时透露,其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
艾森半导体成功上市!开盘涨超114%,募资6.18亿扩产半导体材料
电子发烧友网报道(文/刘静)12月6日,半导体材料领域又一家优秀的国产企业在科创板成功上市。作为一家半导体材料商,江苏艾森半导体材料股份有限公司(以下简...
韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶,可助力3D NAND闪存制造
据悉,skmp开发的新型KrF光刻胶的厚度为14至15米,与东进半导体(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的产品相似。日本jsr公司的类似产...
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