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mocvd设备

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好的,以下是关于 MOCVD设备 的中文介绍:

MOCVD设备(金属有机化合物化学气相沉积设备)

  1. 核心概念:

    • MOCVDMetal Organic Chemical Vapor Deposition 的缩写。
    • 中文名称常称为 金属有机化学气相沉积金属有机物气相外延
    • 它是一种先进的薄膜制备技术,用于在特定基底(如硅片、蓝宝石片、砷化镓片等)上生长高质量、高纯度的单晶或多晶薄膜层。
    • 该技术是半导体制造(尤其是化合物半导体)、光电子器件(如LED、激光器LD、太阳能电池、探测器)等领域的关键核心设备
  2. 工作原理:

    • 前驱体供应: 将所需的金属有机化合物(通常是气态或易挥发液态,如三甲基镓 TMGa, 三甲基铝 TMAl, 三甲基铟 TMIn)和非金属气态氢化物(如氨气 NH₃, 砷烷 AsH₃, 磷烷 PH₃)作为源材料。
    • 载气输送: 使用高纯氢气 H₂ 或氮气 N₂ 作为载气,将精确控制流量的气态前驱体输送到反应腔室内。
    • 高温反应: 基底在反应腔内被加热到特定的高温(通常600-1200°C)。前驱体气体在高温基底表面附近发生热分解和化学反应。
    • 薄膜生长: 反应产生的原子或分子沉积在基底表面,并按晶格排列逐层生长出所需的薄膜(外延层)。通过精确控制生长温度、压力、气流比例和时间,可以生长出成分、厚度、掺杂浓度精准控制的薄膜结构。
    • 尾气处理: 未反应和反应副产物气体被排出反应腔,并通过专门的尾气处理系统进行安全、环保的分解和处理。
  3. 设备关键组成部分:

    • 气路系统: 高精度质量流量控制器、气柜、阀门、管道,用于精确输送和切换多种高纯气体和前驱体。
    • 反应腔: 核心部分,通常由石英或不锈钢等耐高温、耐腐蚀材料制成,提供高真空或低压环境。腔内有基底托(石墨或金属材质)和加热器。
    • 温控系统: 精确控制反应腔内基底温度,确保均匀生长。
    • 压力控制系统: 精确控制反应腔内的气压(低压生长是主流)。
    • 尾气处理系统: 安全处理有害或有毒的未反应前驱体和副产物。
    • 控制系统: 自动化控制系统(软硬件),用于监控、设定和运行整个生长工艺过程。
    • 原位监测系统 (可选): 如光学测温仪、膜厚监控仪、反射率监控仪等,用于实时监测生长状态。
  4. 主要特点与优势:

    • 可生长多种化合物半导体材料(III-V族如GaAs, InP, GaN; II-VI族如ZnSe, CdTe; IV族等)。
    • 高生长速率,适合大规模生产(尤其对LED行业至关重要)。
    • 可实现大面积薄膜的均匀生长(单片和多片)。
    • 薄膜纯度高、晶体质量好、界面陡峭。
    • 可实现精准的组分控制和掺杂(生长超晶格、量子阱等复杂结构)。
    • 可进行大面积掺杂(优于MBE)。
  5. 主要应用领域:

    • LED生产: MOCVD是制造蓝光、白光、绿光、紫外等LED芯片(使用GaN基材料)的绝对主流技术
    • 激光二极管: 红光、蓝光、绿光、近红外等LD器件。
    • 高电子迁移率晶体管 / 微波射频器件: 用于5G通讯、雷达、卫星通信(基于GaAs, InP, GaN等)。
    • 高效太阳能电池: 砷化镓太阳能电池等。
    • 光电探测器: 红外探测器等。
    • 功率电子器件: 基于GaN和SiC的高压、高频功率器件(部分SiC外延也采用类似技术)。
    • 其他:如磁存储读取头等。
  6. 市场主要厂商:

    • 美国维易科精密仪器 (Veeco Instruments Inc.)
    • 德国爱思强公司 (AIXTRON SE)
    • 日本日新电机 (Nissin Electric Co., Ltd.) - 高端GaN/SiC设备
    • 中国: 近年来发展迅速,如:
      • 中微半导体设备(上海)股份有限公司
      • 拓荆科技股份有限公司
      • 北京北方华创微电子装备有限公司
      • 江苏微导纳米科技股份有限公司
      • 江苏华兴激光科技有限公司
      • 江西兆驰半导体有限公司(兆驰股份子公司)
      • 江西中微半导体设备有限公司

总结

MOCVD设备是现代化合物半导体器件、特别是光电子器件(如LED、激光器)大规模生产的基石。它通过精确控制气态金属有机化合物和气态氢化物在高温基底表面的化学反应,生长出满足各种复杂器件需求的高质量外延薄膜,在照明、显示、通信、能源等多个领域发挥着至关重要的作用。其技术的先进性和设备的稳定性直接关系到最终器件的性能和产量。

中微公司发布MOCVD设备Prismo UniMax™

中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,股票代码:688012)今日宣布推出专为高性能Mini LED量产而设计的Prismo UniMax MOCVD设备,该设备在帮助LED芯片

2021-06-18 10:38:50

中微公司MOCVD设备在行业内主要的LED生产线上全面投入量产

中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,上交所股票代码:688012)今日宣布其MOCVD设备迎来又一里程碑:Prismo UniMax MOCVD设备订单超100腔。Prismo

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中微公司喜迎全球第500台MOCVD设备付运里程碑

上海2022年10月25日 /美通社/ -- 10月25日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称"中微公司",上交所股票代码:688012)宣布其MOCVD设备系列喜迎

2022-10-25 20:58:33

中微半导体推出MOCVD设备,用于深紫外LED量产

昨(30)日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布推出Prismo HiT3™ MOCVD设备,主要用于深紫外LED量产。

2020-07-31 11:34:28

中微2019年成绩亮眼 氮化镓基MOCVD设备市场规模有望进一步扩大

据LEDinsde了解,随着紫外LED和Mini/Micro LED等新兴产业如火如荼地发展,近两年来,国内外相关大企纷纷加购重要的MOCVD设备,很大程度推动了MOCVD设备的发展并刺激了市场需求。

2020-04-18 10:29:11

MOCVD设备大厂美国 Veeco公布Q1财报,实现营收9940万美元

昨(6)日,MOCVD设备大厂美国维易科精密仪器有限公司(Veeco Instruments Inc.)公布了截至2019年3月31日的第一季度财报。

2019-05-09 14:39:29

半导体相关设备销量增长,Veeco营收大幅增长

外媒日前报道显示,美国MOCVD设备制造商Veeco公布了2020财年第四季及全年财报(截至12月31日)。

2021-02-21 10:06:19

国内地方LED企业补贴遭削减

据业内人士称,中国地方政府已经大幅削减了对国内LED企业的补贴,将补贴重点从MOCVD设备的采购转移到了技术研发创新和专利申请。

2019-06-05 15:44:16

全新光电计划额外采购5~10台MOCVD设备用于产能扩张

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2021-03-29 16:57:00

中微公司持续发力半导体设备,5-10年内目标占据50%-60%集成电路市场

其中,刻蚀设备销售额约47.03亿元,同比增长49.43%;而MOCVD设备销售额则约4.62亿元,同比下滑33.95%。自2012年以来,中微公司的年均营收增长率始终保持在35%以上。

2024-05-23 15:42:14

Veeco薄膜制程设备助力Aledia 3D Micro LED的研发

有机金属化学汽相沉积系统(MOCVD设备大厂美国维易科精密仪器有限公司(Veeco Instruments Inc.)宣布,次世代3D LED研发制造商Aledia扩增 Veeco 薄膜制程的设备组合,以助其3D Micro LED的研发生产。

2019-04-16 15:03:01

中微公司正在开发新一代的电容性等离子体刻蚀设备

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中国集成电路产业的发展迎来转折之年

中微半导体公司是我国集成电路设备行业的领先企业。公司聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。

2020-09-25 16:58:55

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2019-05-15 08:09:00

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