我们华林科纳研究了三种化学溶液，用于在分布反馈激光器应用的InP外延生长之前清洗光栅。这些化学物质是浓缩的HMSO和n< SO，H2 2的混合溶液，其中n =β和
2022-05-12 13:42:40
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本文展示了一种使用连续湿法化学表面活化(即SPM→RCAl清洗)结合硅和石英玻璃晶片的键合方法。经过200 ℃的多步后退火，获得了无空洞或微裂纹的牢固结合，基于详细的表面和键合界面表征，建立了一个键
2022-05-13 16:08:323705 
一种新型光纤位移传感器的设计
2012-08-14 23:19:19
一种新型单相脉冲整流器
2012-08-20 17:00:38
一种新型多协作中继选择协议研究
2012-08-06 13:35:31
请求大佬详细介绍一下一种新型微弱激光检测系统
2021-04-21 06:19:40
一种新型的矩阵键盘扫描方式
2016-10-09 21:37:27
新型铜互连方法—电化学机械抛光技术研究进展多孔低介电常数的介质引入硅半导体器件给传统的化学机械抛光（ＣＭＰ）技术带来了巨大的挑战，低ｋ 介质的脆弱性难以承受传统ＣＭＰ 技术所施加的机械力。一种结合了
2009-10-06 10:08:07
新型非联网2.4GHz技术为什么会是一种理想的选择？
2021-05-28 06:15:05
1、全自动化的在线式清洗机 一种全自动化的在线式清洗机，该清洗机针对SMT/THT的PCBA焊接后表面残留的松香助焊剂、水溶性助焊剂、免清洗性助焊剂/焊膏等有机、无机污染物进行彻底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
抄板之免清洗技术 在焊接过程中采用免清洗助焊剂或免清洗焊膏，焊接后直接进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种替代技术，尤其是移动通信产品基本上都是采用免洗方法来替代ODS.目前国内
2018-09-13 15:47:25
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 08:22 编辑
1、免清洗技术 在焊接过程中采用免清洗助焊剂或免清洗焊膏，焊接后直接进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种
2012-07-23 20:41:56
定义的CSP分类中。晶片级CSP是多种应用的一种低成本选择,这些应用包括EEPROM等引脚数量较少的器件，以及ASIC和微处理器。CSP采用晶片级封装(WLP)工艺加工，WLP的主要优点是所有装配
2018-08-27 15:45:31
分享一种CameraCube新型图像传感技术
2021-06-08 09:29:49
有机物光纤的特点是什么？一种新型有机物光纤的全光交换系统设计与实现
2021-06-03 06:45:33
新型车载影音系统的工作原理是什么？如何去设计一种新型车载影音系统？
2021-05-12 06:46:11
为什么要提出一种新型AC-PDP驱动电路？新型AC-PDP驱动电路的设计思想及其计算机仿真新型AC-PDP驱动电路的具体实现
2021-04-21 07:00:47
在本设计中，设计了一种新型的应用pin diodes的射频开关转换电路，实现的功能是4路RF输入信号选择其中任意2路RF信号输出。
2021-06-04 06:55:00
什么是DPGA（数字可编程增益放大器）？如何设计一种采用发散指数曲线理念的新型DPGA？
2021-04-23 07:05:37
根据供电企业的实际需要，采用无线技术设计了一种新型电缆接头温度监测系统终端。
2021-04-09 06:05:47
本文介绍了一种新型UHF频段RFID读写器设计方案。
2021-06-01 06:33:21
基于FPGA的新型数字微镜芯片测试系统是由哪些部分组成的？怎样去设计一种基于FPGA的新型数字微镜芯片测试系统？
2021-11-10 06:05:57
怎样去设计一种基于STM32的负压式玻璃清洗机器人呢？有哪些操作流程？
2021-10-14 08:47:00
求一种新型WCDMA直放站PA的设计方案
2021-05-26 06:14:52
求一种新型低温科里奥利质量流量计
2021-05-06 06:56:40
请求大佬分享一种新型光电定向系统的设计与实现
2021-04-22 06:16:37
求一种新型系统级可编程芯片的设计方案
2021-05-06 07:44:32
求一种DSP+CPLD新型的智能仪器的设计方案
2021-05-08 07:54:25
求一种可以让汽车中电容传感器的应用数量大幅增长的新型测量技术？
2021-05-11 07:04:26
本文以传统的电磁式系统为基础，研制一种使用红外辐射技术的新型转速测量仪，安装方便，对周围环境要求不高，可以很容易地完成转速的测量。具有较宽的动态测量范围，测量精度较高。
2021-05-08 06:46:34
进入下道工序不再清洗，免清洗技术是目前使用最多的一种替换技术，尤其是移动通讯产品基本上都是采用免洗方法来替换ODS。目前海内外已经开发出良多种免洗焊剂，海内如北京晶英公司的免清洗焊剂。免清洗焊剂大致
2018-09-13 15:50:54
怎么设计一种新型射频开关转换电路？射频开关转换电路设计步骤有哪些？
2021-04-21 07:06:21
为什么要设计一种新型电压基准电路？怎样去设计一种新型电压基准电路？
2021-04-22 06:37:20
为什么要提出一种基于AVR的新型防汽车追尾安全装置设计？怎样去设计一种新型防汽车追尾安全装置？
2021-05-12 06:02:32
一种新型接近开关及应用
2009-04-14 09:15:29
15 一种新型的高压交流调压技术:摘要：介绍了一种新型的星点控制交流调压方案，它解决了传统的交流调压谐波大，保护较难实现等问题，已在110kV/150A高压直流电源系统中实际应用
2009-06-20 21:30:3238 利用法布里珀罗振荡模构造了一种新型的光化学传感器。与传统的以表面等离子模和光导模为探针的迅衰场传感器不同,这种新型结构中被传感介质处于法布里珀罗腔的振荡场中,其能
2009-07-14 09:18:5019 将一种自合成的水溶性聚对苯撑乙烯(P PV ) 衍生物电聚合到玻碳电极表面, 制得一种新型N O 电化学传感器. 实验结果表明, 该传感器对N O 具有灵敏的伏安响应, 相对裸玻碳电极两个氧
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介绍了一种新型的水处理技术——纳滤膜法，对它的发展概况、特点，分离机理以及在水处理领域的应用作了简单的阐
2010-02-22 11:40:0710 为了降低全搜索运动估计算法带来的巨大计算量,提高运动估计计算速度,提出了一种新型的用于全搜索运动估计硬件结构。该硬件结构能实时地通过全搜索运动估计来搜索每个像素块
2010-07-29 16:07:4516
一种新型通信用整流器
摘要：介绍了一种新型通信用整流器的电路组成与技术特点，给出了主电路结构与技术指标。
关
2009-07-09 10:42:52702 
一种新型的双向全桥直流变换器控制策略_黄知超
2016-12-28 14:23:303 一种基于DDS技术的新型激光测距系统的设计
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2017-01-02 16:09:050 一种新型便携式转辙机测试仪的设计与实现_王全刚
2017-02-07 18:11:351 今天为大家介绍一项国家发明授权专利——一种自动清洗的新型智能水表。该专利由安徽翼迈科技股份有限公司申请，并于2018年3月6日获得授权公告。
2018-07-01 09:20:001000 
本文研究了一种新型全桥电路的零电压零电流开关(zvzcs)变换器，分析了电路的原理和设计原则。
2018-05-30 09:39:1714 快速、高效、经济的农药痕量残留的检测技术具有重要意义。本文构建了一种新型的仿生电化学传感器以实现对农产品中农药残留的快速检测。主要研究结果如下：
2018-12-24 08:00:008 摘要：化学机械抛光（CMP）技术是目前广泛采用的几乎唯一的高精度全局平面化技术。抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP技术水平的高低。介绍了各种机械、物理及化学清洗方法与工艺技术优缺点，指出了清洗荆
2020-12-29 12:03:262353 本发明的工艺一般涉及到半导体晶片的清洗。更确切地说，本发明涉及到可能存在于被研磨的单晶硅晶片的表面上的有机残留物、金属杂质和其它特定的沾污物的清洗处理步骤的顺序。 集成电路制造中所用的半导体晶片
2020-12-29 14:45:212673 当传感器监测到选定的压力信号传递到晶体管时会产生响应，随后传导并放大这些信号进行检测。近来，一种被称为有机电化学晶体管（OECT）的新型晶体管技术，在低电压和低功耗下展现出了优越的信号放大能力。
2021-03-17 13:59:5815031 近日，中国科学院微系统与信息技术研究所第八研究室宓现强课题组通过同时引入电化学生物传感器、DNA四面体探针和微流控芯片，开发了一种新型的微流控-电化学检测系统
2021-05-30 08:58:413817 
一种新型的多智能体深度强化学习算法
2021-06-23 10:42:4736 [技术领域] 本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体地说是一种酸性化学品供应控制系 统。 由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片，而能在硅晶片上蚀刻图形 以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学
2023-04-20 13:57:00465 一种三电平全桥直流变换器新型控制策略研究(现代电源技术王建辉课后答案)-一种三电平全桥直流变换器新型控制策略研究
2021-08-31 18:40:2311 一种基于UC3879的新型软开关DC-DC移相全桥变换器(ups电源技术支持祥云平台)-一种基于UC3879的新型软开关DC-DC移相全桥变换器
2021-09-22 10:12:4865 索引术语—清洗、化学机械抛光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氢。 摘要 本文为后化学机械抛光工艺开发了新型清洗液，在稀释的氢氧化铵(NH4OH+H2O)碱性水溶液中加入表面活性剂四甲基氢氧化铵
2022-01-26 17:21:181363 
半导体制造工业中的湿法清洗/蚀刻工艺用于通过使用高纯化学品清洗或蚀刻来去除晶片上的颗粒或缺陷。扩散、光和化学气相沉积(CVD)、剥离、蚀刻、聚合物处理、清洁和旋转擦洗之前有预清洁作为湿法清洁/蚀刻
2022-02-22 13:47:512798 
和极低温的关于向粒子喷射氮气溶胶等“清洗能力相关技术”进行了大量研究;另一方面，关于通过清洗暂时远离晶片的粒子，重新附着到晶片上，进行叶片式清洗，在干燥时晶片和保持晶片的转盘高速旋转。
2022-02-22 16:01:081496 
清洗都是开发半导体电子器件的首要和基本步骤。清洗过程是在不改变或损坏晶圆表面或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。 介绍 半导体是一种固体物质，其导电性介于绝缘体和导体之间。半导体材料的定义性质是，它可以掺杂
2022-02-23 17:44:202533 摘要 该公司提供了一种用于清洗半导体晶片的方法和设备 100，该方法和方法包括通过从装载端口 110 中的盒中取出两个或多个晶片来填充化学溶液的第一罐将晶片放入。将晶片放入装满液体的第一槽(137
2022-02-28 14:56:031771 
摘要 本文介绍了半导体晶片加工中为颗粒去除(清洗)工艺评估而制备的受污染测试晶片老化的实验研究。比较了两种晶片制备技术:一种是传统的湿法技术，其中裸露的硅晶片浸泡在充满颗粒的溶液中，然后干燥；另一种
2022-03-04 15:03:503354 
残留物由不同量的聚乙二醇或矿物油(切削液)、铁和铜的氧化物、碳化硅和研磨硅，这些残留物可以通过锯切过程中产生的摩擦热烧到晶片表面，为了去除这些残留物，需要选择正确的化学物质来补充所使用的设备。 在晶片清洗并给予
2022-03-15 16:25:37882 
本文介绍了新兴的全化学晶片清洗技术，研究它们提供更低的水和化学消耗的能力，提供了每种技术的工艺应用、清洁机制、工艺效益和考虑因素、环境、安全和健康(ESH)效益和考虑因素、技术状态和供应商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57943 
单片SPM系统使用了大量的化学物质，同时满足28nm以下的清洁规格。 本文描述了在集成系统Ultra-C Tahoe中使用批量SPM系统和单晶片清洗，结果达到了技术规范，使用了不到单晶片系统中使用的80%的SPM化学物质。
2022-04-01 14:22:552107 
晶片干洗系统，更详细地说，是一种能够提高对晶片干燥效率的马兰戈尼型(MARANGONI)TYPE)干洗系统。
2022-04-08 14:51:041388 
、封闭系统的实现。另一方面，动态自旋清洗法解决了现在普遍使用的静态分批清洗法中存在的交叉污染、药液使用量的减少化、清洗时间的缩短化问题，而且还可以抑制自然氧化膜的生成，因此受到了人们的关注。将自旋清洗
2022-04-13 15:25:213124 
本文利用CZ、FZ和EPI晶片，研究了湿式化学清洗过程对硅晶片表面微粒度的影响。结果表明，表面微粗糙度影响了氧化物的介电断裂~特性：随着硅基底的微粗糙度的增加，氧化物的微电击穿会降解。利用
2022-04-14 13:57:201074 
本发明公开了一种用湿式均匀清洗半导体晶片的方法,所公开的本发明的特点是:具备半导体晶片和含有预定清洁液的清洁组、对齐上述半导体晶片的平坦区域，使其不与上述清洁组的入口相对、将上述对齐的半导体晶片浸入
2022-04-14 15:13:571071 本文的目标是讨论一种新技术，它可以在保持竞争力的首席运营官的同时改善权衡。 将开发湿化学抗蚀剂去除溶液的能力与对工艺和工具要求的理解相结合，导致了用于光刻胶去除的单晶片清洗技术的发展。 该技术针对晶
2022-05-07 15:11:111355 
引言 描述了溢流晶片清洗工艺中的流场。该信息被用于一项倡议，其主要目的是减少晶片清洗中的用水量。使用有限元数值技术计算速度场。大部分的水无助于晶片清洗。 介绍 清洗步骤占工厂中使用的ulaa纯水
2022-06-06 17:24:461876 
表面和亚微米深沟槽的清洗在半导体制造中是一个巨大的挑战。在这项工作中，使用物理数值模拟研究了使用脉动流清洗毯式和图案化晶片。毯式晶片清洗工艺的初步结果与文献中的数值和实验结果吻合良好。毯式和图案化晶片的初步结果表明，振荡流清洗比稳定流清洗更有效，并且振荡流的最佳频率是沟槽尺寸的函数。
2022-06-07 15:51:37737 
本发明涉及一种在集成电路制造中减少漏电流的方法，更具体地说，涉及一种在集成电路制造中通过新的预氧化清洗顺序减少超薄栅氧化物漏电流的方法。 根据本发明的目的，实现了一种预氧化清洗衬底表面的新方法。我们
2022-06-17 17:20:401625 
本文讲述了我们华林科纳的一种在单个晶圆清洗工艺中使用新型清洗溶液的方法，该方法涉及在单一晶片模式下使用清洗溶液，并且清洗溶液包括至少包括氢氧化铵（NH-OH）、过氧化氢(HO)、水(HO)和螯合剂
2022-06-30 17:22:114125 
虽然听起来可能没有极紫外(EUV)光刻那么性感，但对于确保成功的前沿节点、先进半导体器件制造，湿法晶片清洗技术可能比EUV更重要，这是因为器件的可靠性和最终产品的产量都与晶片的清洁度直接相关，因为晶片要经过数百个图案化、蚀刻、沉积和互连工艺步骤。
2022-07-07 16:24:232658 
的实验和理论分析来建立晶片表面清洁技术。本文解释了金属和颗粒杂质在硅片表面的粘附机理，并提出了一些清洗方法。 介绍 LSI(大规模集成电路)集成密度的增加对硅片质量提出了更高的要求。更高质量的晶片意味着晶体精度、成形质量和
2022-07-11 15:55:451911 
在半导体和太阳能电池制造过程中，清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术，如离子水清洗、超声波清洗、低压等离子和机械方法。由于湿法工艺一般需要使用含有有害化学物质的酸和碱溶液，会产生大量废水，因此存在废物处理成本和环境监管等问题。
2023-06-02 13:33:212934 
激光清洗技术是激光技术在工程领域的一种成功应用，其基本原理是利用激光能量密度高的特点，使激光与工件基底上附着的污染物相互作用，以瞬间受热膨胀、熔化、气体挥发等形式与工件基底分离。激光清洗技术具有高效
2023-10-29 08:07:495391 
近日，北京理工大学光电学院许廷发教授科研团队与清华大学林星助理教授团队联合开发了一种新型全光学智能光谱仪(Opto-Intelligence Spectrometer, OIS)。
2024-07-31 06:18:53974 
引言
碳化硅（SiC）作为一种宽禁带半导体材料，因其出色的物理和化学性质，在电力电子、微波器件、高温传感器等领域具有广泛的应用前景。然而，在SiC晶片的制备和加工过程中，表面金属残留成为了一个
2025-02-06 14:14:59395 
引言
碳化硅（SiC）外延晶片因其卓越的物理和化学特性，在功率电子、高频通信、高温传感等领域具有广泛应用。在SiC外延晶片的制备过程中，硅面贴膜是一道关键步骤，用于保护外延层免受机械损伤和污染。然而
2025-02-07 09:55:37317 引言
碳化硅（SiC）作为一种高性能的半导体材料，因其卓越的物理和化学性质，在电力电子、微波器件、高温传感器等领域展现出巨大的应用潜力。然而，在SiC外延片的制造过程中，表面污染物的存在会严重影响
2025-02-11 14:39:46414 好奇，一台“清洗机”究竟有多重要?本文将带你了解：全自动半导体晶片清洗机的技术原理、清洗流程、设备构造，以及为什么它是芯片制造中不可或缺的核心装备。一、晶片为什么要反
2025-06-24 17:22:47688 
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