Flexfilm文章

• 椭偏仪原理和应用 | 精准测量不同基底光学薄膜TiO₂/SiO₂的光学常数2025-07-22 09:51

  

  椭偏仪作为表征光学薄膜性能的核心工具，在光学薄膜领域具有不可替代的作用。本研究聚焦基底类型（K9玻璃、石英玻璃、单晶硅）对溶胶-凝胶法制备的TiO₂和SiO₂薄膜光学性能的调控机制。Flexfilm费曼仪器作为国内领先的薄膜材料检测解决方案提供商，致力于为全球工业智造提供精准测量解决方案。其中全光谱椭偏仪可以精确量化薄膜的折射率、消光系数及厚度参数，揭示基底

  仪器 测量 1169浏览量

• 台阶仪在Micro LED巨量转移中的应用 | 测量PDMS微柱尺寸提升良率2025-07-22 09:51

  

  微型发光二极管Micro-LED显示技术是一种新兴技术。它在可穿戴设备、虚拟现实、手机，微投影显示器等便携式应用中具有巨大的潜力。本研究聚焦Micro-LED巨量转印技术中弹性印章（PDMS材质）的关键制程参数优化。半导体制造中表面粗糙度测量非常重要，Flexfilm费曼仪器作为国内领先的薄膜材料检测解决方案提供商，其提供的Flexfilm探针式台阶仪可以用

  Micro LED 二极管 测量 383浏览量

• 薄膜厚度高精度测量 | 光学干涉+PPS算法实现PCB/光学镀膜/半导体膜厚高效测量2025-07-21 18:17

  

  透明薄膜在光学器件、微电子封装及光电子领域中具有关键作用，其厚度均匀性直接影响产品性能。然而，工业级微米级薄膜的快速测量面临挑战：传统干涉法设备庞大、成本高，分光光度法易受噪声干扰且依赖校准样品。本文本文基于FlexFilm单点膜厚仪的光学干涉技术框架，提出一种基于共焦光谱成像与薄膜干涉原理的微型化测量系统，结合相位功率谱（PPS）算法，实现了无需校准的高效

  pcb PCB 半导体 高精度测量 1267浏览量

• 全光谱椭偏仪测量：金属/半导体TMDs薄膜光学常数与高折射率特性2025-07-21 18:17

  

  过渡金属二硫族化合物（TMDs）因其独特的激子效应、高折射率和显著的光学各向异性，在纳米光子学领域展现出巨大潜力。本研究采用Flexfilm全光谱椭偏仪结合机械剥离技术，系统测量了多种多层TMD薄膜材料的光学常数。研究表明，半导体性TMD（如MoTe₂）表现出极高的折射率（n∥≈4.84）和强双折射（Δn≈1.54），而金属性TMD（如TaS₂）在近红外波段

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• 芯片制造中高精度膜厚测量与校准：基于红外干涉技术的新方法2025-07-21 18:17

  

  在先进光学、微电子和材料科学等领域，透明薄膜作为关键工业组件，其亚微米级厚度的快速稳定测量至关重要。芯片制造中，薄膜衬底的厚度直接影响芯片的性能、可靠性及功能实现，而传统红外干涉测量方法受机械振动、环境光干扰及薄膜倾斜等因素限制，测量精度难以满足高精度工业需求。为此，本研究提出一种融合红外干涉与激光校准的薄膜厚度测量新方法，旨在突破传统技术瓶颈，实现更精准、

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• 芯片制造中的膜厚检测 | 多层膜厚及表面轮廓的高精度测量2025-07-21 18:17

  

  随着物联网(IoT)和人工智能(AI)驱动的半导体器件微型化，对多层膜结构的三维无损检测需求急剧增长。传统椭偏仪仅支持逐点膜厚测量，而白光干涉法等技术难以分离透明薄膜的多层反射信号。本文提出一种单次曝光光谱分辨干涉测量法，通过偏振编码与光谱分析结合，首次实现多层膜厚度与3D表面轮廓的同步实时测量。并使用Flexfilm探针式台阶仪对新方法的检测精度进行验证。

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• 分光光度法结合进化算法精确测定：金属氧化物薄膜厚度与光学常数2025-07-21 18:17

  

  薄膜厚度和复折射率的测定通常通过椭圆偏振术或分光光度法实现。本研究采用Flexfilm大样品仓紫外可见近红外分光光度计精确测量薄膜的反射率（R）和透射率（T）光谱，为反演光学参数提供高精度实验数据。该方法在太阳能电池、传感器等领域至关重要，解决了传统优化算法易陷入局部最优、商业软件依赖初始猜测敏感的问题。通过进化算法（EAs）的群体搜索策略，实现了从350–

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