Flexfilm文章

• 「纳米光栅无损检测」告别破坏性表征，光谱椭偏仪实现99.97%精度无损测量2026-04-13 18:04

  

  随着半导体技术的持续演进，器件特征尺寸不断缩减，而量产化的工艺需求却日益提高，纳米压印技术因此应运而生。纳米压印（NIL）的基本原理是将模具上的图形直接转移至衬底，从而实现批量化复制。与传统光刻工艺相比，纳米压印还具有工艺简单、分辨率高、生产效率高、成本低等显著优势，已成为半导体加工工艺中最重要的技术路线之一。在纳米压印工艺过程中，模板和器件的关键尺寸（CD

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• 磁控溅射SiO₂薄膜工艺优化：台阶仪在膜厚与粗糙度表征中的应用2026-04-10 18:04

  

  氧化硅（SiO₂）薄膜作为典型的功能薄膜材料，具有优良的光学、电学及机械性能，在液晶显示、太阳能电池、建筑玻璃及汽车玻璃等领域得到广泛应用。其低折射率和高透光特性，使其在光学减反射膜和表面保护层中具有重要作用。在太阳能电池中，氧化硅薄膜不仅可作为隔离层抑制载流子复合，还可作为抗反射层提升光吸收效率，从而改善器件整体性能与稳定性。随着高性能薄膜需求的不断提升，

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• 椭偏仪薄膜测试解决方案：半导体、聚合物与生物传感的高精度表征2026-04-08 18:05

  

  近年来，随着材料科学的快速发展，薄膜制备技术及表界面研究逐渐成为研究热点。纳米加工技术的不断成熟，使得器件性能要求持续提高，相应地，各类微纳表征技术也得到了快速发展。SEM、AFM及TEM等方法虽具备高空间分辨率与良好的可视化能力，但普遍存在对样品造成不可逆损伤的问题，且难以实现原位检测。相比之下，椭圆偏振光谱（SpectroscopicEllipsomet

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• 台阶仪在薄膜晶体管的应用 | 精准表征有源层厚度均匀性2026-04-03 18:01

  

  在薄膜晶体管（TFT）的研发与性能优化中，有源层（即半导体沟道层）的厚度是决定器件电学特性（如阈值电压、开关比、迁移率）的核心参数之一。本文聚焦于互补型薄膜晶体管（CTFT）的工艺优化，系统探究了P型SnO、Te及N型SnO₂薄膜的厚度对最终器件性能的影响。为确保实验结论的可靠性，精确控制并验证薄膜的实际沉积厚度成为前提条件。本研究采用Flexfilm费曼仪

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• 光谱椭偏法对大面积室温直流溅射AZO薄膜均匀性的表征研究2026-04-01 18:05

  

  铝掺杂氧化锌（Al:ZnO，AZO）兼具高透明度与高导电性，且组成元素储量丰富、无毒，适用于多种大面积光电器件。光谱椭偏法通过引入振荡子模型，可以同时提取薄膜的多个光学和电学参数，是评估大面积沉积质量的有效手段。本研究用该方法对沉积在15cm×15cm玻璃衬底上的AZO薄膜进行多点测量，获取方块电阻和可见光透过率的空间分布。对照测量（分光光度法和四探针法）显

  光谱 测量 薄膜 318浏览量

• 台阶仪在Mo₂C薄膜测量中的应用 | 粗糙化比率>1的薄膜材料2026-03-30 18:02

  

  在薄膜科学与技术领域，表面粗糙度是评价薄膜质量、理解生长机制的重要指标。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚，为材料质量把控和生产效率提升提供数据支撑。本文基于台阶仪对Mo₂C薄膜表面粗糙度的测量结果，结合晶粒边界修正，系统分析了其快速粗糙化现象，并对常规粗糙化理论难以解释的

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• 基于椭偏仪的大尺寸MPALD氧化铝薄膜厚度均匀性与n、k值表征2026-03-27 18:02

  

  随着半导体制造工艺不断向更小线宽和更高精度演进，原子层沉积技术因其原子级厚度可控性及优异的均匀性、保形性，在集成电路制造领域获得广泛应用。然而，传统热驱动原子层沉积工艺受限于配体交换反应的温度要求，难以满足热敏感基底的低温沉积需求。为此，等离子体增强原子层沉积技术通过引入高活性自由基替代热反应，有效拓宽了材料范围并降低了沉积温度。在各类等离子体源中，微波等离

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• AlN薄膜表征难点解析：椭偏仪从光学常数到附着性能的系统表征2026-03-23 18:03

  

  氮化铝（AlN）作为Al-N二元体系中唯一的稳定相，具有六方纤锌矿结构，是一种宽带隙半导体材料，禁带宽度达6.2eV。其具备高电阻率、低热膨胀系数、高硬度、良好的化学稳定性以及优异的热导率（3.2W/cm·K），在可见光至红外波段也表现出较高的光学透过率。这些特性使AlN薄膜在微电子器件、光电器件以及防护涂层等领域具有广泛的应用前景。Flexfilm费曼仪器

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• 台阶仪在集成电路制造中的应用：高端光刻胶材料纯化研究进展2026-03-20 18:05

  

  随着集成电路制程节点不断向纳米尺度迈进，光刻技术已从紫外全谱（g线、i线）发展到深紫外（KrF、ArF）乃至极紫外（EUV）光源。光刻胶作为光刻工艺的核心材料，其纯度直接影响光刻图案的分辨率与芯片良率。尤其在EUV光刻时代，对光刻胶中金属杂质和颗粒物的控制要求已趋极致，因此光刻胶原料及成品的纯化处理成为决定光刻技术水平的关键环节之一。Flexfilm费曼仪器

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• 光谱椭偏仪在AR衍射光波导工艺表征中的应用研究2026-03-18 18:02

  

  增强现实显示技术通过将虚拟信息与真实场景无缝融合，为用户提供全新的视觉体验，在娱乐、教育、医疗、设计及导航等领域具有广阔的应用前景。AR近眼显示设备作为下一代显示技术的代表，正逐步从军用领域向消费电子领域拓展。其核心挑战在于如何在轻薄化的设备中实现高画质、大视场角和高光效的图像传输。Flexfilm费曼仪器全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表

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