荷兰阿斯麦公司EUV光刻机的王者到底有多牛

中芯国际和华虹半导体在国内的半导体行业还是有一定影响力的，但是在全球的半导体行业里，这两家公司还没那么出名。全球有名气的、有影响力的三大半导体巨头是美国的英特尔、***的台积电、韩国的三星，这三大巨头在技术上和业务上是彼此竞争的关系。

在荷兰，有一家公司，不是这三大半导体巨头的客户，但这三大巨头不光不敢得罪，还要努力讨好。这家荷兰的公司就是阿斯麦（ASML.O），全球唯一一家成功开发EUV光刻机的公司。

阿斯麦简介

阿斯麦的总部位于荷兰，于1984年成立，原名Advanced Semiconductor Material Lithography Holding N.V.。1995年阿斯麦在NASDAQ和阿姆斯特丹交易所上市，2001年更名为ASML。公司拥有员工约16500人，其中研发人员超过6000人，研发人员占比超过36%。

阿斯麦的主要业务是光刻机，在光刻机领域处于绝对领先的地位。在45纳米以下制程的高端光刻机市场中，占据80%以上的市场份额，而在EUV光刻机领域，目前处于绝对垄断地位，市占率为100%，处于独家供货的状态。

阿斯麦的主要客户为全球一线的晶圆厂，除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外，国内的中芯国际也是阿斯麦的客户。

最近几年，阿斯麦的营收呈增长态势。2012至2016年，半导体行业发展缓慢，公司的营收增速也有所放缓，增速大概在10%左右。2016年营收67亿欧元，增长8.1%，净利润15亿欧元，增长5.5%。2017年半导体行业还是景气，公司业绩开始增速；2017年前三季，公司营收65亿欧元，同比增长32%，净利润15亿欧元，同比增长56%。预计2017年的营收可以增长25%左右。

EUV光刻机的王者

集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。光刻机是半导体行业的最关键设备，因为它决定了光刻工艺的水平。工欲善其事，必先利其器，要想开发先进的半导体制程，就必需要有先进的光刻机。

阿斯麦的光刻机按照使用的光源不同，可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。DUV是Deep

Ultra Violet，即深紫外光；EUV是Extreme

Ultra Violet，即极紫外光。

DUV光刻机的极限工艺节点是28nm，要想开发更先进的制程，就只能使用EUV光刻机了。

从2012年开始，光刻机技术没有发生革命性变化，著名的摩尔定律开始失效，半导体行业发展缓慢，2015年甚至出现了2.3%的负增长。半导体行业迫切需要使用EUV来提高光刻能力。

2013年阿斯麦的EUV光刻机研发成功，使用的光源是22nm；2017年更先进的EUV光刻机研成功，使用的光源是13nm，使得7nm线宽的制程可以实现。

要想开发10纳米以下的制程，EUV光刻机是必须的设备，而全球只有阿斯麦一家有EUV光刻机。为了能够顺利买到EUV光刻机，半导体行业三大巨头英特尔、三星和台积电都已经入股了阿斯麦。三星计划2018年开始使用阿斯麦的EUV设备，台积电计划2019开始使用阿斯麦的EUV设备，格罗方德计划2019年使用EUV，英特尔计划2021开始使用7nm工艺。

目前，阿斯麦的EUV光刻机已经开始出货，2017年预计出货12台，2018年预计出货24台，到2019年预计出货30台。

小结

公司分为两类，一类是普通的公司，一类是伟大的公司。普通的公司被行业影响，被动适应行业的发展；伟大的公司影响行业，主动推动行业的发展。

目前全球只有阿斯麦一家公司有能力制造EUV光刻机。半导体行业有了EUV光刻机，就可进行10纳米以下的制程开发了。也就是说阿斯麦能不能开发出来EUV光刻机，将直接决定半导体行业的制程能不能发展到10纳米以下。

半导体三大巨头英特尔、三星和台积电要想开发10纳米以下的半导体制程，都只能使用阿斯麦的EUV光刻机。不管三大巨头之间怎么竞争，阿斯麦都可以稳坐钓鱼台。