双层胶工艺是什么

文章来源：Tom聊芯片智造

原文作者：Tom

随着线条宽度的不断缩小，为了防止胶上图形出现太大的深宽比，提高对比度，应该采用很薄的光刻胶。但薄胶会遇到耐腐蚀性的问题。由此开发出了 双层光刻胶技术，这也是所谓超分辨率技术的组成部分。

涂双层胶一般不是为了增加厚度，如果仅仅为了增加厚度，完全没必要做双层，因为双层胶工艺难度极大，而且各种厚度的光刻胶都可以买到。而双层胶工艺一般是在Lift-off工艺中使用的较多。

一般的lift off胶分辨率较低，如下图所示，无法做更精细的结构：

而双层胶结构可以看出上层胶的开口较小，而下层胶的开口较大，这样在镀膜的时候，可以做出的图形更小。

双层胶的工艺是什么样的？

1，底层胶涂覆，烘烤

2，第二层胶涂敷，烘烤

3，曝光

4，显影

为什么下面的胶溶解的更多？

该双层胶，上层是光刻胶，可曝光可显影，下层胶不感光但可溶于碱溶液。显影时，先将上层的光刻胶显影出图案，之后显影剂开始以各向同性方式溶解底层。这样就制作出了上下两层开口不同的效果。