0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

陛通半导体:15年技术积累,专注国内薄膜沉积设备的差异化创新

Monika观察 来源:电子发烧友网 作者:莫婷婷 2023-12-27 11:14 次阅读

岁末年初之际,电子发烧友网策划的《2024半导体产业展望》专题,收到数十位国内外半导体创新领袖企业高管的前瞻观点。此次,电子发烧友特别采访了上海陛通半导体能源科技股份有限公司执行董事、副总裁、市场销售总经理陈浩,以下是他对2024年半导体市场的分析与展望。

上海陛通半导体能源科技股份有限公司执行董事、副总裁、市场销售总经理陈浩

2023年市场环境低迷,终端市场需求不振,导致上游半导体制造整体收入增长放缓、整体产能利用率处于爬坡过坎阶段。尽管如此,国内晶圆制造行业仍在逆周期的建厂、扩建,以顺应未来增长的预期,此外凭借国产替代的东风,国内晶圆代工厂对于国产设备的需求也出现了明显的增长。

陛通半导体自2008年成立至今,公司已相继推出了国产12吋PECVD&SACVD、12吋UV Cure、12吋PVD、12吋ALD、8吋PVD。2023年是陛通持续发力的一年,市场拓展迅猛,已获得多家国内8吋及12吋知名Foundry PVD&PECVD重复订单;12吋PECVD已正式交付3D NAND客户;首台HT UV、Low-k UV、HT SiN等设备也已相继交付;交付及验收的设备覆盖6/8/12吋逻辑、存储和功率等多个领域。

15年技术积累,坚持“差异化创新”

受大环境影响,近几年国内Foundry/IDM对于国内设备的关注度与日俱增,国内半导体设备行业出现了突飞猛进的增长。从相关数据可以看出,仅2023年上半年,国内半导体设备销售收入同比增长了71.4%,达到387.8亿元。近三年来,中国大陆集成电路装备占全球的市场份额从1.56%提升至3.11%。

陈浩在接受电子发烧友网采访时表示,随着国内市场的向好,国内设备市场的发展潜力巨大。同时,不可否认,国内设备厂商相较国外起步较晚,不可能做到尽善尽美,技术的发展和成熟也不是一蹴而就的,需要持续不断的投入,陛通也是经历了15年的技术积累,从设备翻新业务起家,通过不断的技术攻关和迭代,才形成自主创新技术。

面对国内外竞争对手的压力,陛通半导体坚持走“差异化创新”的发展道路,其中最佳案例就是陛通独有的、具有自主知识产权的“小亮旋转”技术,这是基于CVD、UV Cure和PVD磁控溅射腔的成功应用,该技术已使用在陛通的多款产品上,实现了产业化应用,各项均匀性指标均超过了国内外同类产品。

未来陛通将继续深耕技术研发,形成自身的产品优势,实现在更多关键技术上的突破。在产品层面,公司将专注于薄膜沉积设备,做细做精,并且往多种薄膜工艺集成化平台的方向发展,以满足客户对新工艺和新器件的需求。”

新需求拉升芯片产能,薄膜关键指标的提升是未来攻关方向

2023年半导体市场迎来不同的增长动力,AI以及SiC、GaN第三代半导体的需求在不断提升。那么,这些转变陛通的客户产生了哪些迫切的新的需求?与此同时,国产半导体薄膜沉积设备厂商需要面对哪些技术挑战?

陈浩表示,生成式AI和第三代半导体都是行业的热点。ChatGPT掀起算力热潮,引领了AI高算力应用场景的蓬勃发展。SiC/GaN凭借高禁带宽度、高击穿电压、低电阻、高频等优势,正在逐渐起势,在汽车、公共交通、工业、光伏能源等领域已经取得了大规模的应用。近些年来,新技术及新材料的发展驱动了应用端的持续创新,进而带动了SoC/GPUMOSFET/IGBT等的旺盛需求。

对于国内企业来说,这将是个机遇期,上升的需求将逐步拉升芯片制造的产能。作为芯片生产线核心设备之一,薄膜沉积设备在整个芯片制造流程中应用甚广,工艺应用占比高。国内薄膜沉积设备将有机会更多地覆盖从后道至前道、从传统到成熟再到先进的各个工艺环节。

同时他也提到国内设备厂商也面临巨大挑战,例如Chiplet、TSV、HBM等超低线宽、超高深宽比的先进制程;功率器件在超薄晶圆上的正面背面工艺,这些都对成膜环境和工艺的要求极为苛刻。这也迫使国内薄膜沉积厂商要时刻紧跟半导体制造技术发展的步伐,才能应对未来市场的变化。要做到这点,拼搏和匠心精神是必要条件,机械电气、软件甚至工艺都需要持续地研发投入,对于薄膜的均匀性、颗粒度、厚金属破片率等关键指标也成为国内薄膜沉积设备厂商技术研发的聚焦点和重点攻关方向。

2024年展望

2023年半导体市场触底迹象明显,2024年整体市场有望复苏,预计需求量将出现稳步增长。国内晶圆制造产线的建设和投产仍将处于高峰期,重点聚焦在成熟工艺,12吋逻辑生产线所占比重将会越来越高。第三代半导体也将大行其道,发展会持续提速,特别是在新能源汽车、5G、数据中心的使用场景广泛。

对于国产半导体设备厂商来说,在成熟工艺、传统工艺、第三代半导体上的应用将会呈现规模化增长;在先进封装和新型存储器上,国产半导体制造设备也将取得长足的发展。芯片制造行业的如火如荼,必定会牵引国内半导体制造设备产业及供应链的发展,晶圆制造产线中设备国产化率的比重将会进一步提升,从而催化国产半导体制造设备在技术上不断演进。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    流量控制器在半导体加工工艺化学气相沉积(CVD)的应用

    薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备
    的头像 发表于 03-28 14:22 196次阅读
    流量控制器在<b class='flag-5'>半导体</b>加工工艺化学气相<b class='flag-5'>沉积</b>(CVD)的应用

    一微半导体位列珠海高成长创新型企业知识产权授权量第三

    一微半导体是一家专注于机器人技术及大规模高集成度数模混合芯片设计的国家专精特新“小巨人”企业,致力于通过算法芯片化、硬件加速化等差异化策略,研发各种类型的机器人芯片产品,为移动机器人提
    的头像 发表于 03-07 09:51 187次阅读

    思锐智能完成B轮数亿元融资,专注半导体设备研发

    据了解,思锐智能专注于核心半导体前道工艺设备领域,且已实施“双主营”策略,提供LD(原子层沉积设备及IMP(离子注入)
    的头像 发表于 03-01 15:40 258次阅读

    方壳电芯价格内卷下,大圆柱电池差异化竞争能力越加凸显

    同质化竞争、价格内卷严重让锂电产业差异化竞争诉求越加强烈。
    的头像 发表于 01-25 10:20 607次阅读

    化学气相沉积与物理气相沉积差异

    在太阳能电池的薄膜沉积工艺中,具有化学气相沉积(CVD)与物理气相沉积(PVD)两种薄膜沉积方法
    的头像 发表于 12-26 08:33 487次阅读
    化学气相<b class='flag-5'>沉积</b>与物理气相<b class='flag-5'>沉积</b>的<b class='flag-5'>差异</b>

    半导体制造之薄膜工艺讲解

    薄膜沉积技术主要分为CVD和PVD两个方向。 PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,分为蒸镀和溅射两大类,目前的主流工艺为溅射。CVD主要
    的头像 发表于 12-05 10:25 1479次阅读

    恒流和恒压两种驱动差异化原因

    恒流和恒压两种驱动差异化原因  恒流和恒压是在电子领域中用于驱动不同类型元件的两种电路驱动方法。它们在电子设备中的应用非常广泛,包括LED照明、电动机驱动、太阳能电池和电子器件测试等领域。虽然
    的头像 发表于 11-17 12:31 978次阅读

    满足差异化需求 FTTH用光缆需科学合理选择

    电子发烧友网站提供《满足差异化需求 FTTH用光缆需科学合理选择.pdf》资料免费下载
    发表于 11-10 14:36 0次下载
    满足<b class='flag-5'>差异化</b>需求 FTTH用光缆需科学合理选择

    爱立信推出全新软件套件以差异化5G连接实现卓越服务

    日前,爱立信推出一款全新软件套件,该套件能够加强5G独立组网的网络功能,通过差异化连接实现卓越服务。
    的头像 发表于 11-01 10:04 1643次阅读

    IGBT基础知识及国内厂商盘点

    技术有限公司(Xiner芯能半导体)成立于2013,致力于IGBT芯片、IGBT驱动芯片以及大功率智能功率模块的研发、应用和销售。主要人员都有十多年的行业积累,在
    发表于 10-16 11:00

    传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;商汤科技多部门启动裁员 最高幅度达15%,赔偿N+2

    热点新闻 1、传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制 据报道,随着日本对华半导体设备出口禁令于7月23日正式生效,业内普遍想知道这将
    的头像 发表于 08-28 16:45 1621次阅读
    传日本更可能实施对光刻/<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b><b class='flag-5'>设备</b>的出口管制;商汤科技多部门启动裁员 最高幅度达<b class='flag-5'>15</b>%,赔偿N+2

    今日看点丨传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;科大讯飞刘庆峰:华为 GPU 可对标英伟达 A1

    设备,涵盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、热处理、清洗和检验等。DIGITIMES Research分析师Eric Chen表示,对光刻和薄膜沉积
    发表于 08-28 11:19 600次阅读
    今日看点丨传日本更可能实施对光刻/<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b><b class='flag-5'>设备</b>的出口管制;科大讯飞刘庆峰:华为 GPU 可对标英伟达 A1

    韫茂科技获数亿元融资,加快薄膜沉积设备量产

    韫茂科技成立于2018年,致力于成为平台形态的纳米级薄膜沉积设备制造企业。目前拥有ald原子层沉积系统、pvd物理气体沉积系统、cvd化学气
    的头像 发表于 06-28 10:41 596次阅读

    基于PVD 薄膜沉积工艺

    。 PVD 沉积工艺在半导体制造中用于为各种逻辑器件和存储器件制作超薄、超纯金属和过渡金属氮化物薄膜。最常见的 PVD 应用是铝板和焊盘金属化、钛和氮化钛衬垫层、阻挡层沉积和用于互连金
    的头像 发表于 05-26 16:36 2014次阅读

    中微公司推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW

    近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,上交所股票代码:688012)推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex
    的头像 发表于 05-17 17:08 874次阅读