0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

华为公布新专利:晶圆处理技术再升级!

fcsde-sh 来源:未知 2023-12-19 19:40 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

作为中国电子产业的领军企业,华为最近在芯片领域取得了一系列突破。除了麒麟9000S芯片的研发,华为还公布了多条专利信息。其中一项便是关于晶圆制造的,这将有利于提高晶圆对准效率和对准精度。

根据企查查公开的信息显示,这项新专利的名称为“晶圆处理装置和晶圆处理方法”,申请日期为2022年6月2日,申请公布日为2023年12月12日,申请公开号为CN117219552A。

wKgZomWBgj6ALqEHAAJN2i9Hi6M544.png

(图片来源:企查查)

根据专利摘要显示,本公开的实施例涉及晶圆处理装置和晶圆处理方法。

晶圆处理装置包括:晶圆载台,晶圆载台可沿旋转轴线旋转;机械臂,包括机械手,用于搬运晶圆并将晶圆放置在晶圆载台上;控制器;以及校准组件(包括:光栅板,相对于晶圆载台固定;光源,相对于光栅板固定;以及成像元件,固定设置在机械臂上,并且适于接收从光源发出的、透过光栅板的光)。

其中,控制器被配置成基于成像元件对接收到的光的检测,控制机械臂或机械臂上的调整装置来调整晶圆的位置;其中,在晶圆载台承载晶圆的情况下,光栅板和成像元件分别位于晶圆载台的上表面所在平面相对两侧,上表面用于承载晶圆。

专利摘要指出,本公开的实施例提供的装置和方法,能够提高晶圆对准效率和对准精度。

wKgZomWBgj6AJ1IzAAFO33gvEsc080.png

wKgZomWBgj-ABaZUAADMx3VhEYY862.png

wKgZomWBgj-Af-P4AACijsOKD9g370.png

wKgZomWBgj-ANMuVAAFEsMN8UIA887.png

(专利原理示意图)

这些年,华为虽然遭受了外界的打压,但却丝毫没有影响其在科研领域的研究,尤其是专利数量方面,一直在不断攀升。

未来,我们可以期待华为在芯片领域的更多创新和突破,为中国科技发展贡献更多的力量。

免责声明:本文转自网络,版权归原作者所有,如涉及作品版权问题,请及时与我们联系,谢谢!

加入粉丝交流群

张飞实战电子为公众号的各位粉丝,开通了专属学习交流群,想要加群学习讨论/领取文档资料的同学都可以扫描图中运营二维码一键加入哦~(广告、同行勿入)


原文标题:华为公布新专利:晶圆处理技术再升级!

文章出处:【微信公众号:fcsde-sh】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。


声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 模拟技术
    +关注

    关注

    17

    文章

    472

    浏览量

    40898
  • 张飞电子
    +关注

    关注

    56

    文章

    176

    浏览量

    13884

原文标题:华为公布新专利:晶圆处理技术再升级!

文章出处:【微信号:fcsde-sh,微信公众号:fcsde-sh】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    扇出型级封装技术介绍

    本文主要介绍扇出型(先上芯片面朝下)级封装(FOWLP)。首个关于扇出型级封装(FOWLP)的美国
    的头像 发表于 04-10 09:58 1799次阅读
    扇出型<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>级封装<b class='flag-5'>技术</b>介绍

    解析Mapping的核心逻辑与应用

    随着半导体芯片制造技术持续迭代升级尺寸从早期的150mm、200mm,逐步普及至300mm及更大规格。
    的头像 发表于 04-08 10:36 425次阅读

    再生和普通的区别

    再生与普通在半导体产业链中扮演着不同角色,二者的核心区别体现在来源、制造工艺、性能指标及应用场景等方面。以下是具体分析:定义与来源差异普通
    的头像 发表于 09-23 11:14 1536次阅读
    再生<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>和普通<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的区别

    华为卫星通信专利公布

    据企查查APP信息显示华为卫星通信专利公布。 日前,华为申请了“一种卫星通信方法、系统以及电子设备”的专利
    的头像 发表于 09-09 17:02 1844次阅读

    处理前端模块的技术特点与服务体系

    效率的双重要求。通过持续的技术研发,为行业提供了性能稳定的处理前端模块解决方案。 在直线电机平台领域已经拥有十三年的专业经验,在
    的头像 发表于 08-26 09:57 586次阅读

    探秘宏观缺陷:检测技术升级与根源追踪新突破

    加工流程中,早期检测宏观缺陷是提升良率与推动工艺改进的核心环节,这一需求正驱动检测技术测试图分析领域的创新。宏观缺陷早期检测的重
    的头像 发表于 08-19 13:48 1593次阅读
    探秘<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>宏观缺陷:检测<b class='flag-5'>技术</b><b class='flag-5'>升级</b>与根源追踪新突破

    清洗机怎么做夹持

    清洗机中的夹持是确保在清洗过程中保持稳定、避免污染或损伤的关键环节。以下是
    的头像 发表于 07-23 14:25 1518次阅读

    超薄浅切多道切割中 TTV 均匀性控制技术探讨

    超薄厚度极薄,切割时 TTV 均匀性控制难度大。我将从阐述研究背景入手,分析浅切多道切割在超薄 TTV 均匀性控制中的优势,深入探
    的头像 发表于 07-16 09:31 787次阅读
    超薄<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>浅切多道切割中 TTV 均匀性控制<b class='flag-5'>技术</b>探讨

    什么是贴膜

    贴膜是指将一片经过减薄处理(Wafer)固定在一层特殊的胶膜上,这层膜通常为蓝色,业内常称为“ 蓝膜 ”。贴膜的目的是为后续的切割
    的头像 发表于 06-03 18:20 1876次阅读
    什么是<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>贴膜

    提高键合 TTV 质量的方法

    关键词:键合;TTV 质量;处理;键合工艺;检测机制 一、引言 在半导体制造领域,键合
    的头像 发表于 05-26 09:24 1403次阅读
    提高键合<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 质量的方法

    减薄对后续划切的影响

    完成后,才会进入封装环节进行减薄处理为什么要减薄封装阶段对
    的头像 发表于 05-16 16:58 1654次阅读
    减薄对后续<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>划切的影响

    瑞乐半导体——TC Wafer测温系统持久防脱专利解决测温点脱落的难题

    过程中的温度变化数据,为半导体制造过程提供一种高效可靠的方式来监测和优化关键的工艺参数。【核心技术】防脱落专利技术:TCWafer测温系统在高温、真空或强振动环
    的头像 发表于 05-12 22:23 1070次阅读
    瑞乐半导体——TC Wafer<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>测温系统持久防脱<b class='flag-5'>专利</b>解决测温点脱落的难题

    简单认识减薄技术

    英寸厚度约为670微米,8英寸厚度约为725微米,12英寸厚度约为775微米。尽管芯
    的头像 发表于 05-09 13:55 3034次阅读