(1)SJ-MOS在N层具有柱状P层(P柱层)。P层和N层交替排列。(参见图3-9(b))
(2)通过施加VDS,耗尽层在N层中扩展,但其在SJ-MOS中的扩展方式与在一般D-MOS中不同。(关于电场强度,参见图3-9(a)/(b)。电场强度将表示耗尽层的状态。
(3)如果是D-MOS的情况,电场强度在P/N层接口处最强。当电场强度超过硅的极限时,会发生击穿现象,这就是电压极限。另一方面,如果是SJ-MOS的情况,电场强度在N层中是均匀的。
(4)所以,SJ-MOS可采用具有较低电阻的N层设计,以实现低导通电阻产品。
采用与DMOS相同尺寸的芯片,SJ-MOS可以实现更低的导通电阻。
图3-9(a)D-MOS(π-MOS)的结构和电场
图3-9(b)SJ-MOS(DTMOS)的结构和电场
审核编辑:汤梓红
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