0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

集成电路的核心材料到底是什么 晶圆是如何制造的

旺材芯片 来源:旺材芯片 2023-07-27 17:34 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

没有半导体,我们的生活能坚持一天吗?我们日常生活的许多方面,包括手机、笔记本电脑、汽车、电视和信用卡等,都离不开半导体。这些半导体与我们的生活密切相关。那么,它们是如何制作的呢?

如果您对半导体略知一二,您可能听说过八种基本的半导体工艺。制造半导体所需的无数任务被分为八个基本工艺,正如我们文章里第一张图片里的标题所示:“八个基本半导体工艺”。

今天,我们将看一下第一步,“晶圆制造”。我们将讨论晶圆,即集成电路的核心材料到底是什么,以及晶圆是如何制造的。

制造晶圆所需的材料

在开始之前,我们先想一个简短的问题!半导体集成电路与晶圆有什么关系?

集成电路是一种半导体芯片,它包含许多处理各种功能的电气元件。集成电路是通过在称为晶圆的基板上创建许多相同的电路来制造的。

因此,晶圆是半导体的基础。这类似于制作披萨——我们先准备一个面团,以便以后添加配料。 晶圆是从硅棒上切成薄片的圆盘,由硅或砷化镓等元素制成。大多数晶圆是由从沙子中提取的硅制成。

美国的硅谷始于半导体产业,最终成为全球软件产业的中心。据报道,它的名字是半导体原材料“硅”和圣克拉拉谷的“山谷”的组合。

“硅谷”这个名字可能会帮助你记住硅是半导体晶圆必不可少的原材料。硅供应丰富,是自然界中最丰富的元素,且具有无毒环保的特性。让我们一起看看晶圆制造的工艺吧!

b5d4b138-2c60-11ee-815d-dac502259ad0.jpg  

第一步:制造硅锭

从沙子中提取的硅需要经过净化过程才能用于制造半导体。它被加热直到熔化成高纯度液体,然后通过结晶凝固。由此产生的硅棒称为硅锭。只有具有超高纯度的锭才能用于半导体工艺,这需要低至几纳米的极高精度

第二步:切割锭以制造薄晶圆

硅锭的形状像陀螺,使用锋利的金刚石锯片切成厚度均匀的薄圆盘形晶片即晶圆。锭的直径决定了晶圆的尺寸,例如150毫米(6 英寸)、200毫米(8 英寸)和300毫米(12 英寸)晶圆。晶圆越薄,制造成本越低,直径越大,每个晶圆可以生产的半导体芯片数量就越多。因此,晶圆变得越来越薄,越来越大。

第三步:研磨和抛光晶圆表面

刚切完的晶圆需要经过加工,以获得光滑、镜面般的光洁度。刚切完的晶圆表面粗糙且包含瑕疵,这可能会对电路的精度产生负面影响。抛光液和抛光机用于抛光晶圆表面。

在进一步加工之前抛光晶圆称为裸晶圆,表示尚未制造芯片。使用许多物理和化学工艺在裸晶圆上制造集成电路后,晶圆最终将如下所示。让我们一起看看晶圆各个部分的名称吧!

b629d7a8-2c60-11ee-815d-dac502259ad0.png  

1,晶圆(wafer):作为半导体IC的核心原材料的圆形板(盘)。

2,晶粒(die):在晶圆上有许多小方块,每个小方块称为一个晶粒,是集成电子电路的IC芯片。

3,分割线(scribe line, 划片槽):这些晶粒肉眼看起来好像是相互粘在一起的,但实际上,晶粒之间有间隙。此间隙称为分割线或划片槽。分割线存在的目的是在晶圆加工后切出每个芯片并将其组装成芯片。分割线的空间可以使金刚石锯可以安全地切割晶圆。

4,平坦区(flat zone):引入该区域是为了帮助识别晶圆结构,并在晶圆加工过程中用作参考线。由于晶圆的晶体结构非常精细并且无法用肉眼判断,因此以这个平坦区为标准来判断晶圆的垂直和水平方向。

5,凹槽(notch, 缺口):最近出现了带有凹槽的晶圆,取代之前的平坦区。带有凹槽的晶圆比带有平坦区的晶圆更高效,因为带有凹槽的晶圆可以生产更多的芯片。

半导体行业主要分为制造晶圆的晶圆行业和在晶圆上设计和制造电路的制造(FAB)行业。还有封装行业,加工过的晶圆被切割成芯片并包装以防止潮湿和物理损坏。





审核编辑:刘清

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5464

    文章

    12688

    浏览量

    375744
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31248

    浏览量

    266606
  • 晶圆
    +关注

    关注

    53

    文章

    5450

    浏览量

    132763
  • 芯片设计
    +关注

    关注

    15

    文章

    1172

    浏览量

    56780
  • 抛光机
    +关注

    关注

    0

    文章

    38

    浏览量

    7280

原文标题:半导体工艺(一)-晶圆制造

文章出处:【微信号:wc_ysj,微信公众号:旺材芯片】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    解析Mapping的核心逻辑与应用

    随着半导体芯片制造技术持续迭代升级,尺寸从早期的150mm、200mm,逐步普及至300mm及更大规格。尺寸不断扩大,产线自动化输送
    的头像 发表于 04-08 10:36 403次阅读

    集成电路制造中的前道、中道和后道工艺介绍

    集成电路制造,堪称现代工业体系中最复杂精密的系统工程之一。一片硅从进入晶圆厂到最终完成电路结构,需要经历数百乃至上千道工序。为了便于工
    的头像 发表于 03-24 16:47 367次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中的前道、中道和后道工艺介绍

    集成电路制造中薄膜生长设备的类型和作用

    薄膜生长设备作为集成电路制造中实现材料沉积的核心载体,其技术演进与工艺需求紧密关联,各类型设备通过结构优化与机理创新持续突破性能边界,满足先进节点对薄膜均匀性、纯度及结构复杂性的严苛要
    的头像 发表于 03-03 15:30 358次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中薄膜生长设备的类型和作用

    制造过程中的掺杂技术

    在超高纯度制造过程中,尽管本身需达到11个9(99.999999999%)以上的纯度标准以维持基础半导体特性,但为实现
    的头像 发表于 10-29 14:21 1245次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>过程中的掺杂技术

    集成电路制造中薄膜刻蚀的概念和工艺流程

    薄膜刻蚀与薄膜淀积是集成电路制造中功能相反的核心工艺:若将薄膜淀积视为 “加法工艺”(通过材料堆积形成薄膜),则薄膜刻蚀可称为 “减法工艺”(通过
    的头像 发表于 10-16 16:25 3694次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中薄膜刻蚀的概念和工艺流程

    和芯片哪个更难制造一些

    关于和芯片哪个更难制造的问题,实际上两者都涉及极高的技术门槛和复杂的工艺流程,但它们的难点侧重不同。以下是具体分析:
    的头像 发表于 10-15 14:04 1080次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>和芯片哪个更难<b class='flag-5'>制造</b>一些

    再生和普通的区别

    、切片、抛光等工序制成,未经任何使用历史。其原材料通常来自二氧化硅矿石提炼的高纯硅料,经过严格控温的长过程形成圆柱形单晶硅棒,再切割成薄片后成为集成电路制造的基础
    的头像 发表于 09-23 11:14 1514次阅读
    再生<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>和普通<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的区别

    覆盖多家头部晶圆厂,恒坤新材为12寸芯片制造提供“国产保障”

    应用,凭借在光刻材料与前驱体材料领域的深耕,成功填补多项国内空白,成为推动我国集成电路关键材料国产化的核心力量。​ 恒坤新材的产品精准聚焦
    的头像 发表于 09-11 14:28 801次阅读

    制造中的Die是什么

    简单来说,Die(发音为/daɪ/,中文常称为裸片、裸、晶粒或晶片)是指从一整片圆形硅(Wafer)上,通过精密切割(Dicing)工艺分离下来的、单个含有完整集成电路(IC)功
    的头像 发表于 08-21 10:46 4629次阅读

    背面磨削工艺中的TTV控制深入解析

    在半导体制造的精密世界里,每一个微小的改进都可能引发效率的飞跃。今天,美能光子湾科技将带您一探背面磨削工艺中的关键技术——总厚度变化(TTV)控制的奥秘。随着三维集成电路3DIC
    的头像 发表于 08-05 17:55 5014次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>背面磨削工艺中的TTV控制深入解析

    制造中的退火工艺详解

    退火工艺是制造中的关键步骤,通过控制加热和冷却过程,退火能够缓解应力、修复晶格缺陷、激活掺杂原子,并改善材料的电学和机械性质。这些改进对于确保
    的头像 发表于 08-01 09:35 2923次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>中的退火工艺详解

    振的 “负载电容” 到底是什么

    负载电容,到底是什么? 负载电容,简单来说,是指振的两条引线连接IC块内部及外部所有有效电容之和,我们可以将其看作振片在电路中串接的电容。从更专业的角度讲,它是为了使
    的头像 发表于 07-25 16:26 1211次阅读

    wafer厚度(THK)翘曲度(Warp)弯曲度(Bow)等数据测量的设备

    是半导体制造核心基材,所有集成电路(IC)均构建于
    发表于 05-28 16:12

    拣选测试的具体过程和核心要点

    在半导体制造流程中,拣选测试(Wafer Sort)堪称芯片从“原材料”到“成品”的关键质控节点。作为集成电路
    的头像 发表于 04-30 15:48 6584次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>拣选测试的具体过程和<b class='flag-5'>核心</b>要点