韩国总理室下属的尖端研究机构对外经济政策研究院(kiep)发表报告称,在5至10年内,中国将跃升为下一代半导体生产的领先者。
《中国半导体国产化推进状况》报告称,中国正在扩大对电动汽车及能源储存系统(ess)用新一代电力半导体(sic及gan配件)的支援,并追求技术优势。
报告称:“由于在制造过程中存在各种专利壁垒,中国很难克服尖端半导体技术的障碍,但新一代输出半导体可以看作是中国在今后5至10年内可以引领的领域。”
报告称:“中国目前正集中投资具备先进的半导体芯片设计(fab - lease)能力,但在这方面,美国对中国的制裁相对较小。”中国半导体设计企业数量从2014年的681家增加到2021年的2810家,增加4.1倍;在此期间,非晶片销售额增加4.3倍(2021年4519亿元人民币)。
报告书特别介绍了中国半导体企业的特点。belocker等新生企业具有设计高性能图像处理装置(gpu)的能力。华为目前正在包装(晶片级包装技术)、极紫外线版画(euv)、电子设计自动化(eda)等领域申请专利。阿里巴巴、byte dance、腾讯也已经开始设计ai芯片。
半导体设备的国产化率也在迅速上升。截至去年,中国半导体制造设备的国产化率为35%,渗透率迅速提高。随着韩国企业通过政府的投资支援迅速获得技术,蚀刻、薄膜、沉积等工程领域的国产化率明显提高。
与此同时,在中国的半导体制造竞争力方面,nand闪存和dram仍落后世界领先者2年左右,在市场版图上,中央处理器(cpu)、dram和nand的国产化率到2021年为止仅为一位数。
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