中国光刻机现在多少纳米 光刻机的基本原理

众所周知，光刻机一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就是ASML公司了。

如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。

而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。

截止2022年6月，世界上最先进的光刻机已经能够加工13 纳米线条。而我们人类的头发丝直径大约是 50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条。

据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020年就说到的，一定能用于规模量产7纳米芯片。

光刻机的生产国家有荷兰、中国、日本、美国、韩国，其中荷兰光刻机的精度为首。

光刻机是一个制造芯片的机器，芯片上的图形模板（微电路）需要用机器来雕刻。这就是光刻机的基本原理，利用高级技术去制造芯片。又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

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编辑：黄飞