中科院宣布2nm芯片光刻机是关键 中科院研发成功2nm光刻机
美国修改了出口管制规定，将华为列入了“实体清单”后，一时之间“中国芯”成了一股热流，美国意图通过阻断芯片的供应来扼制住华为，扼制中国科技的发展，众所周知芯片设备在国内还是比较先进的，我国在对芯片的研发上还需要突破。
就在我们在自己研制芯片得不到进展，国外的芯片被断供的困局中，中科院传来了一则振奋人心的消息：中科院的研究人员表示已经突破了设计2nm芯片的瓶颈，成功地掌握了设计2nm芯片的技术，只要机器到位，就能实现量产。
虽然我们在芯片突破了2nm技术，但是芯片能够得到量产还有最大的因素那就是光刻机设备。
目前国内芯片技术面临的最大难题，那就是缺少高端光刻机的支持。光刻机是生产芯片时必备的机器，没有光刻机就无法生产出芯片，甚至是高端芯片需要更高端光刻机的支持。
也就是说我们现在要想生产出来2nm芯片即必须需要2nm精度的高端光刻机的支持，而世界上能达到这种精度的光刻机还没造出来。目前光刻机技术最先进的是荷兰的ASML公司，但是最高精度也才5nm。
来源：skr科技，教育家资讯综合整理
审核编辑 ：李倩
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