苏州硅时代推出快速制版服务

据麦姆斯咨询介绍，掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。在MEMS加工过程中，光掩模版被定义为在一次曝光中能把图形转移到整个硅片中（或另一张光掩模版上）的工具。

掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成。

基板分为树脂基板和玻璃基板。用以制作掩模版的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃，苏打玻璃等。

苏州硅时代的快速制版业务选用进口原材料，并根据客户不同应用场景合理推荐高性价比光刻版。

根据遮光膜种类的不同，可以分为硬质遮光膜和乳胶。光掩膜按用途分类可分为四种，分别为铬版（chrome）、干版、液体凸版和菲林。其中，铬版精度最高，耐用性更好，铬是最广泛应用的材料，，它以溅射或蒸发的方式淀积到圆片上。尽管溅射铬比蒸发铬的反射性强，但用抗反射膜可以弥补。抗反射膜包含一层薄的（200A）的Cr2O3，从而降低反射率。

铬版广泛应用于平板显示、IC、印刷线路板和精细电子元器件行业；干版、液体凸版和菲林主要用于中低精度LCD行业、PCB及IC载板等行业。

光刻掩膜版的制作流程主要分为以下几步：

图形光刻：通过光刻机进行激光光束直写完成图形曝光。通过激光作用使需要曝光区域的光刻胶内部发生交联反应，从而产生性能改变。

显影：将曝光完成后的掩膜版显影，以便进行蚀刻。在显影液的作用下，经过激光曝光区域的光刻胶会溶解，而未曝光区域则会保留并继续保护铬膜。

蚀刻：对铬层进行蚀刻，保留图形。在蚀刻液的作用下，没有光刻胶保护的区域会被腐蚀溶解，而有光刻胶保护的区域的铬膜则会保留。

脱膜：光刻胶的保护功能已经完成，脱膜工序通过脱膜液去除多余光刻胶。

目前高端掩膜版受制于国外，国内市场主要还是中低端掩膜版，国外的掩膜版厂家主要以日本凸版印刷TOPAN、日本大印刷，美国Photronics，日本豪雅HOYA，日本SK电子等，国内掩膜版市场主要被几家大型制版厂垄断，分别为超大Foundry、国有大型制版厂两类，设计公司及中小客户更多依赖中小型制版厂。

超大Foundry、国有大型制版厂主要服务于大型工厂及规模性设计公司，光刻掩膜版资源紧张，平均制作周期再15~30天，交货周期较长，价格较高，中小型制版厂主要服务于中小规模设计公司及高校科研院所，制版周期短，质量参差不齐，价格悬殊较大，技术水平差异大。

苏州硅时代采用标准化制版流程，严控质量关，严把价格关，让利中小企业，服务广大客户，提供7x24小时技术支持，一对一技术交流，实现快速制版，三天交付。

苏州硅时代电子科技有限公司简介

Paving the way for customer‘s MEMS

快速制版业务：www.mask-making.com

微纳代工业务：www.si-era.com

联系方式：0512-62996316/15301560529

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苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），位于国内最大的MEMS产业集聚区——苏州纳米城。利用MEMS领域近20年的技术积累，在MEMS传感器、生物MEMS、光学MEMS以及射频MEMS方面都拥有大量的设计和工艺经验。

基于成熟的设计及工艺团队，苏州硅时代面向MEMS领域，提供全方位的技术服务。可提供MEMS芯片定制设计开发、集成电路芯片设计、MEMS芯片工艺验证、MEMS芯片小批量试制、MEMS芯片中试化量产、MEMS芯片封装方案设计等系统解决方案，也提供MEMS设计、加工、测试等单步或多步工艺实验开发。

在MEMS加工（微纳加工）、MEMS代工（微纳代工）领域，拥有丰富的技术积累和工艺经验，在掩膜版制作方面积累了丰富的经验，可提供快速制版，三天交付的专业服务，苏州硅时代电子科技有限公司作为一家专注于MEMS设计、MEMS加工的高技术公司，拥有丰富的MEMS加工资源，可实现4/6/8寸MEMS芯片设计、代工，以及多种单步工艺代工的完整工艺能力。具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力。所使用设备状况精良，设备能力优异，并可多工艺合作开发，高效评估，高质量实施，全流程收集实验数据，精细的流程管理以及优质的服务。

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