中国光刻机技术取得关键性突破

EUV光刻机，一直是中国芯片制造无法进一步升级的掣肘。去年9月份，时任中国科学院院长白春礼公开表态称，将集中精力攻克光刻机难题。不到半年时间，中国科学家就在这一“卡脖子”技术取得了关键性突破。

据最新报道，我国清华大学工程物理系教授唐传祥研究组、来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心（HZB）、德国联邦物理技术研究院（PTB）的合作团队在国际权威杂志《自然》上发表了一篇研究论文。

该研究成果首次用实验验证了新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB）的原理，而清华工物系2015级博士生邓秀杰为第一作者。唐传祥教授指出，大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题。

要知道，在芯片制造链的所有环节中，光刻机负责最复杂和关键的工艺步骤。而EUV光刻机是高端芯片制造必不可少的精密设备。目前，荷兰的ASML是全球唯一的EUV光刻机供应商，每台EUV光刻机售价超过1亿美元。

日经亚洲评论此前报道，中国芯片制造行业龙头中芯国际曾于2018年向ASML购买了一台EUV光刻机，总价值高达1.2亿美元（约合人民币7.7亿元），然而由于受到干扰，一直到限制仍无法到货。

不过，清华SSMB研究组已向国家发改委提交“稳态微聚束极紫外光源研究装置”的项目建议书，申报“十四五”国家重大科技基础设施。相信随着科学家们的深度研发，我国将有望加速自主研发、制造EUV光刻机，为国产芯片业注入更强的活力。
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