众所周知,在芯片制造的过程中,光刻机是最重要的一种设备,在芯片制造的几百道工序中,光刻机的成本占到了20%,光刻占用的工时达到了30%多,可以说是至关重要了。
而7nm及以下芯片的生产,需要用到EUV光刻机,7nm以上的光刻机主要用DUV光刻机,全球目前仅有ASML一家厂商能够生产EUV光刻机。
所以只要是想实现7nm及以下工艺的芯片生产厂商,就必须找ASML购买EUV光刻机,买不到就没办法实现7nm。
而EUV光刻机产能有限,所以像台积电、三星、intel们都要靠抢,谁能买到更多的光刻机,谁在7nm及以下的工艺时,产能就能够更大。
2020年ASML大概有35台出货量,而2021年大约是45-50台的出货量,而截止至2020年底,ASML一共出货了100台EUV光刻机左右。
而这100台EUV的光刻机中,台积电一家企业就拿下了60台左右,占比高达60%,其它的全部被intel和三星拿走了。
而2018年中芯与ASML签订了一项EUV光刻机购买协议,以1.2亿美元购买一台光刻机,但直到现在都没有交货,因为没有拿到出口许可证。
而随着中芯被美国列入实体清单,10nm及以下的设备进口更是受阻,想必这台EUV光刻机想要买到就更难了。
芯片制程跟随摩尔定律持续微缩,EUV光刻技术成为关键。目前台积电及三星5nm工艺已量产,而intel今年也将实现7nm。
格芯、联电已放弃10nm及以下工艺了,只有中芯还在努力向10nm以下工艺进发,而EUV光刻机是关键,所以要想中国芯有所突破,在10nm及以下工艺上不被卡脖子,一定要发展自己的光刻机才行。
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原文标题:ASML卖出100台EUV光刻机,台积电60台,中芯没有1台
文章出处:【微信号:TenOne_TSMC,微信公众号:芯片半导体】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
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