据日媒近日消息,IMEC公司(比利时的一家微电子研究机构,总部在比利时鲁汶,是一个专注于纳米科技的世界级研究中心)在ITF Japan 2020大会上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的逻辑器件小型化路线图。
根据IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove透露,IMEC公司与ASML紧密合作,将推进下一代高分辨率EUV光刻技术商用。目前,ASML已完成作为NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,将应用于1nm光刻机,预计2022年即可商用。
责任编辑:xj
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
逻辑器件
+关注
关注
0文章
81浏览量
19947 -
ASML
+关注
关注
7文章
673浏览量
40723 -
1nm
+关注
关注
0文章
15浏览量
3860
发布评论请先 登录
相关推荐
台积电1nm进展曝光!预计投资超万亿新台币,真有必要吗?
电子发烧友网(文/吴子鹏)根据台湾媒体的最新消息,台积电1nm制程将落脚嘉义科学园区,台积电已向相关管理局提出100公顷用地需求,其中40公顷将先设立先进封装厂,后续的60公顷将作为1nm建厂用地
英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
发表于 03-21 11:31
•706次阅读
佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机
来源:DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货,与ASML的EVU设备竞争市场,因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
光刻机结构及IC制造工艺工作原理
光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
发表于 01-29 09:37
•648次阅读
台积电1nm晶圆厂最新动向,嘉义成首选地
值得注意的是,由于台积电对土地资源的需求超出了嘉义科学园区首期规划的88公顷,预计将加快推动二期扩容,以便吸引更多先进制造业项目的到来。据了解,尽管台积电曾考虑过桃园、中科和龙潭等多个科学园区作为1nm产线的候选场地,但最终还是选中了嘉义科学园区。
消息称台积电1nm制程厂选址确定
据消息人士透露,台积电已经决定将其1nm制程厂选址在嘉义科学园区。为了满足这一先进制程技术的需求,台积电已向相关管理局提出了100公顷的用地需求。
狂加工一年!ASML把欠中国的600亿光刻机,成功交付了
关于光刻机,大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗?来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升,人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂,不仅仅涉及到底层的架构设计,还需要通过
荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机
在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
芯片制造之光刻工艺详细流程图
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道
发表于 06-09 10:49
•6655次阅读
MLCC龙头涨价;车厂砍单芯片;台积电28nm设备订单全部取消!
,新增订单大幅下滑】
ASML最新财报显示,2023年Q1,ASML共售出100台光刻机,其中全新光刻机96台,二手光刻机4台;净销售额67
发表于 05-10 10:54
评论