ASML表示DUV光刻机系统不需要向美国申请出口许可

全球最大的光刻机企业ASML表示DUV光刻机系统不需要向美国申请出口许可，它将向中国大量出售DUV光刻机，在中国建立合资工厂，强化与中国加强合作，这被视为它向中国释放善意。

中国最大的芯片制造企业中芯国际已投产14nmFinFET工艺，上海华虹已投产28nm工艺，ASML此时表示可以向中国大量出售DUV光刻机，这有助于中国的芯片制造厂迅速扩张产能。

中国是全球最大制造国，除了对先进工艺有需求之外，确实也对较为落后的14nmFinFET、28nm等工艺有庞大需求，例如路由器、电视芯片、空调芯片等都可以以这些较为落后的工艺生产，可以帮助中国增强自主研发能力。

目前中国也在加快模拟芯片的发展，国产模拟芯片占中国需求的比例只有10%左右，中国迅速加快模拟芯片的发展也需要大量购买这些DUV光刻机开发自己的芯片制造工艺。等等这些都说明ASML在此刻释放善意，对中国有重大的支持意义。

不过ASML有许多元件需要从美国进口，业界专家表示它不能违反“瓦森纳协议”，研发7nm及更先进工艺所需要的EUV光刻机依然无法向中国出口，这对中国的支持实在有限。

值得注意的是ASML三季度公布的业绩显示它有66%的利润来自技术先进的EUV光刻机，如此一来依靠EUV光刻机提供的丰厚利润，它完全可以依赖EUV光刻机的丰厚利润以价格战在DUV光刻机市场压制中国光刻机企业，ASML在这个表示向中国大量出口DUV光刻机有可能存有打压中国光刻机产业的考虑。

中国如今已认识到发展光刻机的重要性，因此正积极扶持国内的光刻机产业，然而受限于技术，中国光刻机企业研发的当然是技术较为落后的DUV光刻机，如果中国的芯片企业不采购国产光刻机，国产光刻机也就无法积累技术和资金研发技术更先进的EUV光刻机，这对于中国的光刻机产业可谓毁灭性的影响。

如果ASML一直受制于相关的限制无法向中国供应技术先进的EUV光刻机，而中国自己的光刻机企业又无法研发出EUV光刻机，那么中国的芯片制造企业就一直都只能止步于7nm工艺，而中国大陆以外的芯片制造企业如今已投产5nm工艺，未来更先进的工艺也在加速发展，中国的芯片制造工艺只会越来越落后。

综上所述，ASML在这个时候宣布向中国大量出口光刻机，固然显示了它的善意，但是对于中国的光刻机产业和芯片制造产业来说却未必是好事，它此举很可能是为了保持自己的技术领先优势，而中国芯片产业将可能因此而导致长远利益受损。

责任编辑：xj