0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

我国集成电路产业发展注定艰难,尤其是芯片制造工艺

姚小熊27 来源:人工智能实验室 作者:人工智能实验室 2020-10-29 15:51 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

当“缺芯少魂”这一致命软肋成为美国制裁中国企业的武器,实现国产替代是必然出路。在“国产替代”的呐喊声中,IC(集成电路)产业风口催生出华为海思、中芯国际、长江存储、寒武纪等大厂崛起的同时,也暴露出了华丽背后的浮躁和泡沫。

很多渴望“弯道超车”的地方政府纷纷押注芯片产业,设立产业投资基金及名目繁多的补贴与奖励,大举兴建芯片产业园,打造“芯片之城”。

天眼查专业版数据显示,截至2020年10月27日,我国目前有27万余家经营范围含“集成电路、芯片、半导体”且状态为在业、存续、迁入、迁出的相关企业。其中,广东省拥有11.7万家相关企业,整体占比达43.02%,位居首位。福建省和江苏省分别位居第二、三位。

2020年1月1日至10月27日,全国新增集成电路相关企业超过5.8万家,增速高达33%以上,为历年最高。其中,第三季度新增近1.9万家。全国已有1.3万家企业转产芯片。

据《中国经济周刊》记者调查,全国造芯大跃进的背后,多地明星芯片项目以烂尾收场,芯片成了“芯骗”,留下一地鸡毛。

突围

龙芯中科董事长胡伟武提醒,发展核心技术不要幻想“弯道超车”,像芯片这样的高复杂系统能力建设需要以30年为周期,既要撸起袖子加油干,还要耐着性子坚持干,目标是在市场化条件下实现自主性。

很多身处其中的人都感觉到了浮躁。“显然是过热了,那些原本不是集成电路领域的人进来以后对这个行业明显产生了很大的影响。资本以及互联网思维的疯狂涌入,和想要快速变现的想法,都在对这个行业产生影响。”一位业内人士说。

浮躁源于庞大市场的巨大诱惑。

作为全球最大的半导体市场,中国2019年的市场规模已经超过了两万亿元。

“中国是世界上最大的电子消费国,也是美国芯片制造商最大的市常”日前,在上海举行的第三届全球IC企业家大会上,美国半导体行业协会总裁兼CEO约翰纽菲尔说。他给出了一组数据:2019年,中国市场占美国半导体公司收入的36%,中国是个人电脑智能手机、电视和可穿戴电子产品的最大出口国。

中国半导体行业协会常务副理事长、中国电子信息产业发展研究院院长张立预测:到2030年,全球半导体市场的规模有望达到一万亿美元的规模。

“中国集成电路市场大有可为。”张立的依据是,中国是全球最大和最重要的集成电路应用市场,从市场的规模来看,近10年中国集成电路市场规模年均增速达到10.3%,2019年中国消费了全球约50%的集成电路产品,产业规模增长率更是达到了21.1%,远高于全球同期的6.8%。作为全球电子信息制造业的中心,中国的手机、计算机、彩电和汽车产量分别占全球总产量的90%、90%、70%和30%以上,整机生产应用极大带动了集成电路产业的发展。

盛美半导体设备股份有限公司董事长王晖分析,半导体设备公司的兴起与成长紧紧跟随全球芯片制造中心的迁移,上世纪70年代到80年代,美国是中心; 80年代后期到90年代,日本是中心; 90年代后期到现在,以中国台湾和韩国为中心;从现在到2025年,中国大陆将是中心,将出现中国半导体设备明星企业。未来10年,中国将成为全球半导体芯片制造的中心。今后10年一定有中国的半导体设备公司进入世界八强。

据工信部电子信息司副司长杨旭东公布的数据,2019年我国集成电路产业规模实现7000多亿元,同比增长15.8%。今年上半年尽管受到新冠肺炎疫情的影响,我国半导体产业依然保持了16%的增长。

而据上海集成电路产业投资基金管理有限公司总经理陈刚披露的数据,科创板首批上市的25家企业中,IC企业占6家,目前总市值前10名公司中,集成电路企业占据6家。已过会IC企业平均研发支出占营收比例约18%,其中中芯国际、芯原微、中微、寒武纪、安集科技研发投入占比超过20%,2019年度A股研发费用前20名公司的营收占比均值约为15% 。

当然,也有人警惕说,半导体集成电路这个行业不能关起门自嗨,即使做到了中国第一,也要拿到国际市场上比较。半导体企业永远是全球竞争的企业。

据陈刚透露,供应链安全需求迫切,2020年,由美国半导体行业协会(SIA)委托BCG开展的最新调研指出,中美贸易摩擦将改变全球IC产业格局,目前中国本土IC自给率仅有约14%。本土IC设计业的全球市占率为15%,整体IC产业全球市占率仅有5%。

“这是一个基础性的投资周期比较长的产业,而基础性科研恰恰是我们的短板。”上述业内人士说。他引用的一组数据颇能说明问题,我国用于基础研发的费用大概5%,用于工程化的费用大概20%,用于试错的费用在75%。“我们不停地在试错,这就大量浪费了我们的科研经费。为什么那么多资金下来以后,好多事还是解决不了?这是一个核心问题。”

显然,在这个竞争中,我们还面临诸多挑战。

在第三届全球IC企业家大会上,中国工程院院士、浙江大学微钠电子学院院长吴汉明指出,集成电路产业发展除了需要巨大的资金和人才以外,还需要突破战略性壁垒和产业性壁垒。

他还谈到了摩尔定律面临的三大瓶颈材料限制、器件物理限制、光刻工艺限制,以及芯片制造工艺中的三大挑战基础挑战为精密图形,核心挑战为新材料新工艺,终极挑战为提升良率。

“我国集成电路产业发展注定艰难,尤其是芯片制造工艺,挑战极为严峻。”吴汉明说。
责任编辑:YYX

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5466

    文章

    12705

    浏览量

    375940
  • 芯片制造
    +关注

    关注

    11

    文章

    736

    浏览量

    30540
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    集成电路芯片制造工艺技术演变

    扩散等晶体管制造技术逐渐走向成熟,为集成电路发明及其制造工艺发展奠定了基础。本节将简要讨论集成
    的头像 发表于 05-07 13:48 99次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>芯片</b><b class='flag-5'>制造</b><b class='flag-5'>工艺</b>技术演变

    芯片制造核心工艺的类型介绍

    IC芯片半导体工艺制造技术作为集成电路产业的核心支撑,其发展始终围绕高性能器件研发与
    的头像 发表于 04-22 15:03 1322次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b><b class='flag-5'>制造</b>核心<b class='flag-5'>工艺</b>的类型介绍

    得瑞领新入选全国集成电路标委会芯片应用工作组,以标准之力赋能国产存储高质量发展

    近日,全国集成电路标委会芯片应用工作组正式成立,得瑞领新作为工作组成员单位受邀参会,与产业链伙伴共同探讨国产芯片规模化应用与标准化建设相关话题,助力
    的头像 发表于 04-15 14:25 222次阅读
    得瑞领新入选全国<b class='flag-5'>集成电路</b>标委会<b class='flag-5'>芯片</b>应用工作组,以标准之力赋能国产存储高质量<b class='flag-5'>发展</b>

    集成电路制造中多晶硅栅刻蚀工艺介绍

    集成电路制造中,栅极线宽通常被用作技术节点的定义标准,线宽越小,单位面积内可容纳的晶体管数量越多,芯片性能随之提升。
    的头像 发表于 04-01 16:15 1713次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中多晶硅栅刻蚀<b class='flag-5'>工艺</b>介绍

    集成电路制造中薄膜生长工艺发展历程和分类

    薄膜生长是集成电路制造的核心技术,涵盖PVD、CVD、ALD及外延等路径。随技术节点演进,工艺持续提升薄膜均匀性、纯度与覆盖能力,支撑铜互连、高k栅介质及应变器件发展。未来将聚焦低温沉
    的头像 发表于 02-27 10:15 839次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中薄膜生长<b class='flag-5'>工艺</b>的<b class='flag-5'>发展</b>历程和分类

    集成电路制造工艺中的刻蚀技术介绍

    本文系统梳理了刻蚀技术从湿法到等离子体干法的发展脉络,解析了物理、化学及协同刻蚀机制差异,阐明设备与工艺演进对先进制程的支撑作用,并概述国内外产业格局,体现刻蚀在高端芯片
    的头像 发表于 02-26 14:11 1102次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b><b class='flag-5'>工艺</b>中的刻蚀技术介绍

    集成电路制造中常用湿法清洗和腐蚀工艺介绍

    集成电路湿法工艺是指在集成电路制造过程中,通过化学药液对硅片表面进行处理的一类关键技术,主要包括湿法清洗、化学机械抛光、无应力抛光和电镀四大类。这些
    的头像 发表于 01-23 16:03 2349次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中常用湿法清洗和腐蚀<b class='flag-5'>工艺</b>介绍

    【「芯片设计基石——EDA产业全景与未来展望」阅读体验】跟着本书来看EDA的奥秘和EDA发展

    ,Siemens EDA几乎行业内都是这几家的工具,尤其是Synopsys的, 只有细分领域可能才能见到国产EDA工具的影子,也可以看出国产EDA厂商的生存是很艰难的,需要不断的持续的发展,希望不久的将来
    发表于 01-21 22:26

    【「芯片设计基石——EDA产业全景与未来展望」阅读体验】--中国EDA的发展

    的核心驱动力。 科创板设立、集成电路专项基金、政策出台、人才回流、国产芯片替代都为国内EDA的发展提供了有利条件。 国内也出现了EDA企业上市,获取更好的融资条件,提升技术实力。 其次,产业
    发表于 01-20 23:22

    【「芯片设计基石——EDA产业全景与未来展望」阅读体验】+ 芯片“卡脖子”引发对EDA的重视

    崭露头角,为中国半导体产业的自主可控发展奠定了基础。 EDA软件是半导体产业的基石 EDA在芯片产业链中的位置 1.1.2 EDA是
    发表于 01-20 20:09

    上海重磅发文:扶持集成电路产业、攻坚装备与光刻胶!

    未来,上海将加快先导产业战略引领。支持集成电路企业瞄准装备、先进工艺、光刻胶材料、3D封装,实现全产业链突破,培育一批具有国际竞争力的龙头企业。同时深化全栈创新,推动高性能智算
    的头像 发表于 01-16 16:10 436次阅读

    集成电路制造中薄膜刻蚀的概念和工艺流程

    薄膜刻蚀与薄膜淀积是集成电路制造中功能相反的核心工艺:若将薄膜淀积视为 “加法工艺”(通过材料堆积形成薄膜),则薄膜刻蚀可称为 “减法工艺
    的头像 发表于 10-16 16:25 3743次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b>中薄膜刻蚀的概念和<b class='flag-5'>工艺</b>流程

    PDK在集成电路领域的定义、组成和作用

    PDK(Process Design Kit,工艺设计套件)是集成电路设计流程中的重要工具包,它为设计团队提供了与特定制造工艺节点相关的设计信息。PDK 是
    的头像 发表于 09-08 09:56 3197次阅读

    集成电路产业迎利好!两部门联合发布计量支撑行动方案

    举措被视为我国集成电路产业发展的又一重要政策利好。《方案》指出,要针对集成电路产业的实际需求,集
    的头像 发表于 07-16 10:16 1441次阅读
    <b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>产业</b>迎利好!两部门联合发布计量支撑行动方案

    CMOS超大规模集成电路制造工艺流程的基础知识

    本节将介绍 CMOS 超大规模集成电路制造工艺流程的基础知识,重点将放在工艺流程的概要和不同工艺步骤对器件及
    的头像 发表于 06-04 15:01 3089次阅读
    CMOS超大规模<b class='flag-5'>集成电路</b><b class='flag-5'>制造</b><b class='flag-5'>工艺</b>流程的基础知识