据媒体报道,光刻机巨头ASML(阿斯麦)日前宣布,将在中国台湾的南部科学园区建立自己在海外(荷兰之外)的首个培训中心,旨在就近辅导台积电所领导EUV光刻制造集群。
所谓EUV即极紫外光刻,目前全球有且只有ASML可以生产相关机器。光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一,而且它决定了芯片的工艺水平,常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平。
台积电的第一代7nm因为赶进度,没有使用EUV,而是DUV(深紫外光刻),不过随着7nm的改良以及5nm量产、3nm风险试产的进行,EUV开始更多导入。
ASML今年二季度的财报显示,虽然仅仅出货了9台光刻机,但净利润高达7.51亿欧元。毕竟,一台EUV光刻机的售价就达到约合10亿元人民币左右。
另外,TrendForce数据显示,今年第一季度,台积电营收102亿美元,是第二名三星的几乎4倍。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
463文章
54375浏览量
468986 -
台积电
+关注
关注
44文章
5807浏览量
177011 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1201浏览量
49004
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准!
电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻胶、掩膜版以及
俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?
电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装
电子发烧友网综合报道 当全球半导体产业陷入 “先进制程竞赛” 的白热化阶段,极紫外(EUV)光刻机作为高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成为决定产业格局的核心力量。荷兰阿斯麦(ASML)作为全球唯一
重磅!光刻机巨头ASML裁员1700人
电子发烧友网综合报道 1月28日,全球半导体设备巨头阿斯麦(ASML)发布一则令人意外的公告:计划精简技术及IT部门人员,在荷兰与美国净裁减1700个工作岗位,约占公司总员工数的3.8%,且裁员范围
AI驱动半导体行业变革:ASML解决方案应对算力与能耗挑战
电子发烧友网综合报道 在第八届中国国际进口博览会(以下简称“进博会”)上,全球光刻机巨头ASML以“积纳米之微,成大千世界”为主题亮相,向全球展示其面向主流芯片市场的全景
国产高精度步进式光刻机顺利出厂
近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台
全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流 近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm,线宽
发表于 08-15 10:15
•3189次阅读
意法半导体KNX培训中心首期课程圆满结束
今年6月,备受期待的意法半导体KNX培训中心首期课程在深圳TCL意法半导体办公室成功举办。该中心是意法半导体全球首个获得国际KNX协会官方认证的培训机构,严格符合
四川大学商学院EDP培训中心走进云知声
近日,四川大学商学院EDP培训中心参访实践活动走进德阳天府数谷人工智能港,探访四川云知声智能科技有限公司。本次活动汇聚了多方重要嘉宾,德阳市人大常委会副主任周新蓉、德阳市数据局副局长王国均等政府领导
ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动
电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
发表于 06-29 06:39
•2137次阅读
英伟达总部将选择中国台湾,全球AI芯片霸主的新棋局
。 按照消息人士的说法,英伟达数月来一直在物色其在中国台湾总部的选址。早在2022年,英伟达便在台北内湖设立首个AI研发中心,并斥资约6.5亿人民币租用南港一栋大楼60%的办公空间,计划将第一研发
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。
只有对聚焦电极改进才是最佳选择,以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的,使电子束分布在一条直线
发表于 05-07 06:03
光刻机巨头ASML将在中国台湾建立海外首个培训中心
评论