从激光技术的角度来分析我国光刻机发展缓慢的原因

（文章来源：LeoGo科技）
我们应该知道中国激光技术在全球领先，甚至排在第一位。1964年，钱学森院士提议取名为“激光”，从1961年中国第一台激光器到世界上第一所激光技术的专业研究所——中国科学院上海光学精密机械研究所的成立，而且在ICF激光驱动器、高功率化学激光器、半导体泵浦的固体激光器、超短超强激光器等等各方面都有进步，可以说我国的激光事业一直在不断进步。

可是激光≠光刻机技术，我们知道光刻机技术所需要的是——需要最精密的技术。包括德国机械工艺、蔡司镜头和美国公司提供的光源。涉及多个学科，包含了系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。

光刻工艺的具体步骤繁琐，需要通过硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，不是简单的激光就能解决的。“拉同伙”，实际上ASML能够成功，是因为将三星、台积电、英特尔等等共同拉入ASML 公司。

为了解决激光，ASML 收购了全球领先的准分子激光器供应商 Cymer，为了解决光刻系统，以 10 亿欧元现金入股光学系统供应商卡尔蔡司。

可以说，ASML的成功不是一蹴而就的，激光≠光刻机。我们的制约因素，不仅仅技术。其实，影响我们的不仅仅是技术，还有技术壁垒。从《瓦森纳协议》中的影响，让我们不得不受限于技术的“限制”。很多时候不是我们不想发展，而是很多技术它是不能够进来的，在这种情况下，我们的光刻机的发展受到了非常大的限制。

在技术赶不上，又被封锁的情况下，我们确实会在光刻机方面有所欠缺。当然，我们也期盼能够在各种技术的合力下，摆脱限制，得到发展，走出一条打破光刻机技术之路。
（责任编辑：fqj）