90nm国产光刻机对比5nm ASML光刻机，差距很大

（文章来源：网络整理）

众所周知全球最大的两个芯片代工厂是三星和台积电，虽说台积电和三星如果断供，像华为麒麟高端芯片可能就会瘫痪，但三星和台积电也没有自己的光刻机，只能跟荷兰ASML公司购买。从去年开始，华为开始被一些科技企业断供，现在又有消息称要从芯片产业链上限制，对此华为徐直军霸气回应称那么苹果手机在国内也要被禁售。随着华为关注度提升后，台积电，ASML，中芯国际等企业也备受关注，很多网友关注国产光刻机发展到了什么地步，与ASML的差距还有多少，接下来就说一说国产光刻机和全球最强的ASML光刻机的差距。

国产最先进的光刻机来自上海微电子（SMEE），成立至今已有18年，目前这家科技企业所能生产的最顶级的芯片制造工艺是90nm。那么这个水平和ASML相比如何呢，ASML早在2018年就将其光刻机卖给三星和台积电大规模量产7nm高端芯片，台积电表示现在已经开始试产5nm芯片，今年下半年大规模量产。经过对比，可以微电子光刻机技术与世界先进水平的ASML光刻机还有很大的差距，至少25年。

微电子光刻机生产90nm及之前的制程工艺，属于低端领域，目前微电子垄断了低端芯片生产，全球市场份额高达80%，不过大家最期待的高端芯片市场份额为零，目前16nm已经不算高端芯片工艺，而5nm大规模商用之后，10nm可能又被认为是中端工艺技术，所以说即使现在能做出高端光刻机的企业罕见，代工厂也就那么几家，但高端芯片工艺技术每年都在突破，上海微电子仍需要长时间追赶。

微电子难以突破高端光刻机的一大原因是买不到关键零部件，SAML公司也需要购买美国光栅、德国镜头、瑞典轴承、法国阀件等国外一些高科技企业的光刻机部件，而这些硬件都不对外出售，所以说微电子只能从零开始。当然有总比没有好，高端光刻机也是从低端开始做起，微电子突破高端光刻机只是时间问题。

目前不仅是高端光刻机关键零部件被限制，流量中芯国际购买ASML光刻机也被暂停供应，之前购买的7nm EUV高端光刻机至今仍未通过授权，因此中芯还不能生产7nm芯片。但近日纯国产芯片麒麟710A正式商用，该芯片由中芯国际代工，12nm工艺，说明中芯已经突破能量产12nm芯片，据悉今年年底量产10nm芯片。总结，目前中芯国际和微电子仍在不断突破新技术，最终将迈向高端芯片技术领域。
（责任编辑：fqj）