据浦东时报报道,2020年开年,中微半导体成功中标长江存储9台刻蚀设备订单。
该报道称,业内人士分析认为,中微开年即获得长江存储大额订单,表明国产IC设备行业迎来超长景气周期,同时国内IC设备龙头企业将陆续突破盈利拐点,迈向成长期新阶段。
中微方面表示,2020年公司还将会有不少后续订单。长江存储、华虹系、粤芯、积塔半导体、合肥长鑫以及中芯国际等多条产线均启动国产设备采购周期,且每条产线拉动效应预计均不弱于长江存储2019年水平,拉动效应数倍增大,将助力中微半导体业绩成长。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
中微半导体
+关注
关注
1文章
140浏览量
18452 -
长江存储
+关注
关注
5文章
330浏览量
38727
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中微公司亮相2025半导体设备与核心部件及材料展
第十三届半导体设备与核心部件展示会(CSEAC 2025)于2025年9月4日至6日在无锡盛大举行,本届大会以“专业化、产业化、国际化”为宗旨,聚焦技术交流、展览展示、产品发布和国际合作。中
中微公司重磅发布六大半导体设备新产品 覆盖等离子体刻蚀(Etch)、原子层沉积(ALD)及外延(EPI)等关键
中国无锡,2025年9月4日 —— 在第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025)上,中微
台阶仪在半导体制造中的应用 | 精准监测沟槽刻蚀工艺的台阶高度
在半导体制造中,沟槽刻蚀工艺的台阶高度直接影响器件性能。台阶仪作为接触式表面形貌测量核心设备,通过精准监测沟槽刻蚀形成的台阶参数(如台阶高度
半导体boe刻蚀技术介绍
半导体BOE(Buffered Oxide Etchant,缓冲氧化物蚀刻液)刻蚀技术是半导体制造中用于去除晶圆表面氧化层的关键工艺,尤其在微结构加工、硅基发光器件制作及氮化硅/二氧化硅刻蚀
最全最详尽的半导体制造技术资料,涵盖晶圆工艺到后端封测
——薄膜制作(Layer)、图形光刻(Pattern)、刻蚀和掺杂,再到测试封装,一目了然。 全书共分20章,根据应用于半导体制造的主要技术分类来安排章节,包括与半导体制造相关的基础技术信息;总体流程图
发表于 04-15 13:52
中微公司推出12英寸晶圆边缘刻蚀设备Primo Halona
在SEMICON China 2025展会期间,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微
深入剖析半导体湿法刻蚀过程中残留物形成的机理
半导体湿法刻蚀过程中残留物的形成,其背后的机制涵盖了化学反应、表面交互作用以及侧壁防护等多个层面,下面是对这些机制的深入剖析: 化学反应层面 1 刻蚀剂与
半导体湿法刻蚀残留物的原理
半导体湿法刻蚀残留物的原理涉及化学反应、表面反应、侧壁保护等多个方面。 以下是对半导体湿法刻蚀残留物原理的详细阐述: 化学反应 刻蚀剂与材料
【半导体存储】关于NAND Flash的一些小知识
前言
作为一名电子专业的学生,半导体存储显然是绕不过去的一个坎,今天聊一聊关于Nand Flash的一些小知识。
这里十分感谢深圳雷龙发展有限公司为博主提供的两片CS创世SD NAND
发表于 12-17 17:34
半导体湿法刻蚀设备加热器的作用
其实在半导体湿法刻蚀整个设备中有一个比较重要部件,或许你是专业的,第一反应就是它。没错,加热器!但是也有不少刚入行,或者了解不深的人好奇,半导体湿法

中微半导体获长江存储9台刻蚀设备订单
评论